Новости Hardware

С помощью нового вентиля японцы обещают в 12 раз повысить плотность матриц ПЛИС

Сфера машинного обучения и ИИ обещает дать второе дыхание программируемым матрицам (ПЛИС). Быстрая смена задач и алгоритмов делает матрицы удобным решением не только для создания прототипов, но также выгодна с точки зрения массового использования в коммерческих продуктах, а новая разработка японских учёных обещает многократно повысить ценность ПЛИС.

На рисунке a) слева ПЛИС на нвом вентиле, справа на транзисторах, на рисунке b) показан новый вентиль

На рисунке a) слева ПЛИС на новом вентиле, справа на транзисторах, на рисунке b) в красном квадрате показан новый вентиль

Университет Осаки сообщил, что исследовательская группа Высшей школы информатики и информационных технологий университета разработала новый вентиль для программируемых матриц. Использование новых вентилей вместо традиционных транзисторов в качестве программируемых переключателей позволит в 12 раз повысить плотность размещения программируемых элементов в массиве матриц.

Вместо транзисторов японцы создали так называемый «сквозной переключатель» (по-англ. via switch). Доклад о разработке можно ожидать на днях на конференции IEEE International Solid-Circuits Conference 2020, которая начинает свою работу 19 февраля в Сан-Франциско. «Сквозные переключатели» много меньше размеров транзисторов и могут изготавливаться в контактном слое микросхем. Вероятно, именно это позволяет говорить о столь значительном росте плотности размещения элементов.

Что собой представляет новая разработка, пока не очень ясно. Подробных разъяснений на этот счёт нет. Сообщается о некоем «атомарном переключателе», который комбинирует свойства вентиля и энергонезависимой памяти. Также для управления новым вентилем используются варисторы, а не транзисторы. Это тоже оставляет много места для массива вентилей. К тому же, транзисторы в такой ПЛИС могут использоваться не для перепрограммирования массивов вентилей, а для какой-либо интеллектуальной работы. Это добавит решению немного «лишней» производительности.

Наконец, в добавление к высокой плотности вентилей и низкой стоимости за счёт меньшей площади кристалла, новая разработка обещает возросшую энергоэффективность. Для 65-нм техпроцесса эффективность ПЛИС на «сквозных переключателях» оказывается в 5 раз выше, чем для ПЛИС на транзисторах. Для 7-нм техпроцесса рост энергоэффективности ожидается до 11 раз при сравнении с ПЛИС на транзисторах с таким же техпроцессом. Ждём подробностей о чудо-ПЛИС из Японии.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме
Прежде чем оставить комментарий, пожалуйста, ознакомьтесь с правилами комментирования. Оставляя комментарий, вы подтверждаете ваше согласие с данными правилами и осознаете возможную ответственность за их нарушение.
Все комментарии премодерируются.
Комментарии загружаются...
window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥