Новости Hardware

На литографическом троне сразу два короля

Японская корпорация Nikon на днях заявила, что она произвела и отгрузила первый сканер NSR-S610C для иммерсионной литографии, пригодный для производства микроэлектронных элементов по 45-нм технологическому процессу. NSR-S610C представляет собой 193-нм иммерсионный сканер с числовой апертурой проекционной линзы 1,3. Сканер был поставлен "одному крупному производителю полупроводниковых продуктов", предположительно Toshiba Corp.
 NSR-S610C
Хочется отметить, что несмотря на повышенный интерес ряда крупных компаний в новой технологии производства микропроцессоров, именуемой ваккумной (EUV) литографией, использующей для выжигания фоторезиста жесткие ультрафиолетовые лучи, разработки сканеров для традиционной "оптической" литографии продолжаются ударными темпами. Причиной этому является неуверенность рада производителей в необходимости очень больших инвестиций в установки для EUV, которая постоянно подогревается сообщениями об очередном уменьшении размеров элементов получаемых с помощью оптических методов. Так, например, представители компании IBM на прошлой неделе заявили, что намерены использовать иммерсионную литографию с длиной волны 193 нм при производстве 22-нм продуктов. Напомним, что еще совсем недавно пределом для оптической литографии считался техпроцесс в 32 нм.
XT:1900i
Однако с господством Nikon в области "тяжелого чипостроения" не согласен старый соперник японской корпорации – голландская ASML. Последняя заявила, что добилась решительного прогресса в уменьшении размеров, наносимых на кремниевые подложку структур, достигнув с помощью своего передового 193-нм иммерсионного сканера XT:1900i размера в 37 нм, а с помощью EUV-установки Alpha Demo Tool (ADT) – 32 нм. Напомним, что ASML уже в течение года поставляет 193-нм сканеры XT:1700i, соответствующие нормам 45-нм техпроцесса. Компания обещает начать поставки XT:1900i в середине 2007 года. Материалы по теме: - EUV развивается медленно, заявляет Intel;
- Суровое будущее литографии;
- IBM: иммерсионные технологии только с 45-нм техпроцесса.

Источник:

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥