Новости Hardware

Новые сканеры Nikon для производства полупроводников

Компания Nikon представила два новых высокопроизводительных сканера, предназначенных для применения в «сухих» литографических методах производства полупроводников. В первом из них, NSR-S310F, используется аргон-фторовый (ArF) лазер с длиной волны 193 нм, устройство может применяться для изготовления чипов по 65 нм нормам и менее, производительность – не менее 174 подложек в час, что на 20% превышает возможности предыдущего поколения оборудования. Заявленная точность позиционирования – не хуже 7 нм.
Nikon Tandem Stage
Сканер NSR-S210D построен на базе криптон-фторового (KrF) лазера (длина волны – 248 нм). Этот инструмент может применяться с нормами производства 110 нм и менее, точность позиционирования – не хуже 9 нм, а производительность – не менее 176 подложек в час. Обе модели предназначены для использования в рамках общей для множества сканеров различных типов, выпускаемых Nikon, фирменной платформы Tandem Stage. Тематические материалы: - Двойное экспонирование – возможная основа 32-нм литографии;
- На литографическом троне сразу два короля.

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥