Новости Hardware

Термохимическая нанолитография – основа 12-нм техпроцесса?

Ученые из Технологического института штата Джорджия (США) разработали новую технику термохимической нанолитографии, которая обещает быть достаточно скоростной и применимой для использования в разных средах, как в воздушной, так и в жидкостной.
Рисунок, нанесенный с помощью термохимической нанолитографии
Собственно техника достаточно проста. C помощью атомного микроскопа (atomic force microscope, AFM) от компании IBM ученые разогревали наноскопический кремниевый стержень и перемещали его над поверхностью полимерной пленки. Высокая температура стержня вызывала химические реакции в полимере, переводя молекулы последнего из гидрофобного в гидрофильное состояние. Изменение химического состояния полимера позволяло молекулам жидкости взаимодействовать с гидрофильными участками и формировать рисунок. Сообщается, что примененная техника отличается очень высокой скоростью: более 1 мм секунду, тогда как средняя скорость других методов термохимической нанолитографии не превышает 0,0001 мм в секунду. Используя вышеописанную технику, исследователи смогли нанести на полимер шаблон с размером элементов менее 12 нм. Применение методики не требовало использования дополнительных химических соединений или создания сильных электростатических полей. Кроме того, согласно заявлению разработчиков, предложенная методика обладает прекрасной масштабируемостью – при использовании массива атомных микроскопов с кремниевыми стержнями, разработанного инженерами IBM, возможно одновременное нанесение тысячи независимых деталей шаблона. Новая техника, со слов исследователей, позволит в будущем производить большое число различных "печатных" устройств, включая и микросхемы, со скоростью и в масштабах, приемлемых для внедрения в коммерческое производство. Материалы по теме: - Нанопечатная литография подешевела;
- Суровое будущее литографии;
- Двойное экспонирование – возможная основа 32-нм литографии.

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥