Новости Hardware

EUV-литография угрожает закону Мура

Закон Мура, который в течение нескольких десятилетий определял темпы развития микроэлектроники, в частности, интегральных микросхем, в ближайшее время будет давать сбои. К такому мнению пришли эксперты в рамках международного симпозиума 2012 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography. Причиной такого вердикта стала ситуация, когда ведущие чипмейкеры задерживают переход на литографию с применением глубокого ультрафиолета.

Впрочем, производители интегральных микросхем поставлены в зависимое положение. Они готовы к освоению EUV-литографии, но пока технологическое оборудование не соответствует их требованиям. Дело в том, что для проведения этого техпроцесса необходимо использование более мощных источников света. Для выпуска 14-нм микросхем необходимо увеличить этот показатель примерно в двадцать раз, по сравнению с сегодняшними источниками ультрафиолетового излучения. К сожалению, быстро усовершенствовать оборудование не получится — ориентиром здесь может служить лишь 2014 год. Именно в такие сроки разработчики планируют справиться со своими задачами, да и то, это лишь примерный прогноз, и подготовка может затянуться.

На данный момент установки литографии с использованием глубокого ультрафиолета созданы и успешно работают. Например, исследовательский центр  Interuniversity Microelectronics Centre (IMEC) в прошлом году изготовил около трех тысяч кремниевых пластин по технологии EUV-литографии. Но такая производительность слишком мала, чтобы соответствовать требованиям крупносерийного производства, каким владеют компании Intel, Samsung, TSMC и прочие.

Для освоения 14-нм технологического процесса крайне необходимо освоение EUV-литографии. Например, массив статической памяти (SRAM) по 14-нм нормам невозможно изготовить без глубокого ультрафиолета, а значит, и центральные процессоры в целом нуждаются в применении такого оборудования.

Поставленные перед разработчиками задачи и проблемы столь сложны и ресурсоемки, что требуют привлечения самих чипмейкеров к их решению. Компании Intel и TSMC уже вовсю вовлечены в этот процесс — не так давно они объявили о финансовых вложениях в ведущую компанию-разработчика литографического оборудования, ASML. Сама Intel уже заявила, что начнет серийно выпускать 14-нм микросхемы к следующему году, а к 2015 году освоит и 10-нм техпроцесс. Если к этому моменту EUV-установки еще не будут готовы, то технологам Intel придется идти на ряд ухищрений, увеличивая количество операций и повышая тем самым себестоимость продукции и время ее изготовления. Но все равно, несмотря на эти недостатки, интегральные микросхемы будут рентабельны.

Нет сомнений, что в конечном итоге технология глубокого ультрафиолета поддастся разработчикам, серийный выпуск 14-нм микросхем с применением EUV-литографии будет налажен. После этого новая проблема появится на горизонте — технологический процесс с проектными нормами в 6 нанометров, а потом и 2 &mdash 3 нанометра. Здесь уже не обойтись без той же EUV-литографии, но придется использовать уже иммерсионный слой на поверхности кристалла. То есть, некий гибрид EUV-литографии и иммерсионной фотолитографии, но уже выведенной на более высокий уровень.

Материалы по теме:

Источник:

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Microsoft предложила внушительные скидки на свои продукты участникам Build 2020 2 мин.
Обновление Windows 10 May 2020 Update вызывает проблемы с Intel Optane 17 мин.
Epic Games снова отложила запуск 3 сезона 2 главы Fortnite 3 ч.
В видеочатах Microsoft Teams смогут участвовать до 300 пользователей одновременно 4 ч.
Видео: многопользовательские баталии и босс Робосквидвард в трейлере SpongeBob SquarePants: Battle for Bikini Bottom — Rehydrated 4 ч.
Google выделит части контента на страницах, основываясь на тексте из поисковой выдачи 5 ч.
Аудитория российских пользователей Telegram достигла 30 млн человек 6 ч.
Анализ QIWI: из-за COVID-19 россияне стали тратить вдвое больше на игры в последние два месяца 7 ч.
Повреждённые сохранения и огонь в унитазе: после релиза большого обновления в The Sims 4 появились ошибки 7 ч.
В Escape from Tarkov заблокировали 10 тысяч читеров, на очереди — продавцы и покупатели предметов за реальные деньги 7 ч.