Новости Hardware

Intel собирается обойтись без экстремальной ультрафиолетовой литографии

Несмотря на то, что Intel может испытывать проблемы с массовым выводом на рынок даже 14-нанометрового техпроцесса (кодовое название P1272), и, скорее всего, их действительно испытывает, представители компании утверждают, что в планах производителя обойтись без внедрения экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUVL) даже для 10-нанометрового производственного цикла под кодовым названием P1274.

Нажмите для полноразмерного изображения

Статус внедрения 14-нанометрового техпроцесса: нажмите для полноразмерного изображения

Возможно, проблем действительно нет, и причина задержки внедрения 14-нанометровых норм производства имеет искусственную природу, но это только предположение, причём, достаточно зыбкое; утверждать здесь что-либо с уверенностью невозможно. Косвенные признаки, такие как скорое прекращение производства некоторых моделей Core M, а также многочисленные задержки, могут не иметь отношения к инженерно-техническим процессам. Тем не менее, поведение Intel в этой теме выглядит достаточно странно и местами довольно сильно напоминает попытку делать хорошую мину при плохой игре.

В 2011 году Intel была существенно оптимистичнее

В 2011 году Intel была существенно оптимистичнее

Главный исполнительный директор Intel Брайан Кржанич (Brian Krzanich) официально заявляет, что компания сможет добиться приемлемых результатов с 10-нанометровым техпроцессом без использования EUVL, и соответствующие процессоры, запланированные на 2016 год, увидят свет в нужное время. Но в ранних презентациях Intel процесс P1274 был назначен на 2015 год, а значит, проблемы всё-таки имеют место? Мы не располагаем столь конфиденциальной информацией и можем лишь строить предположения, более или менее логичные.

EUVL: дорого, сложно, ресурсоёмко, но неизбежно?

EUVL: дорого, сложно, ресурсоёмко, но неизбежно?

Конечно, внедрение экстремальной ультрафиолетовой литографии — процесс непростой и требующий обкатки со множеством последующих доработок, но с этой технологией 10-нанометровые нормы были бы освоены, в этом нет сомнений. Однако, по словам представителей Intel, мы увидим EUVL на фабриках компании не ранее чем через 2 – 3 года. Это связано в том числе и с чудовищной сложностью и дороговизной мало-мальски серьёзного переоборудования современного полупроводникового производства. В общем, нам и нашим читателям придётся набраться терпения и подождать наступления 2016 года, чтобы узнать, сможет ли Intel выполнить свои обещания и не увидим ли мы вместо этого очередной перенос сроков.  

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме
window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥