TSMC приступит к созданию опытной 10-нанометровой линии в июне

Компания TSMC вот-вот начнёт создание пилотной линии по выпуску микросхем с применением 10-нанометровой технологии. Об этом сообщает DigiTimes, ссылаясь на информацию, полученную от китайских СМИ.

Известно, что опытное производство будет развёрнуто на предприятии Fab 12 в северной части Тайваня. Этот завод работает с 300-миллиметровыми пластинами.

Монтаж оборудования для опытного выпуска 10-нанометровых изделий начнётся в июне. Процесс предусматривает применение энергоэффективных транзисторов с объёмной структурой FinFET.

Массовое изготовление 10-нанометровых чипов TSMC рассчитывает организовать в середине или в конце 2016-го. Для этого в строй будет введено новое предприятие Fab 15. Ожидается, что одним из крупнейших заказчиков 10-нанометровых изделий станет компания Apple с её будущими микропроцессорами A10 для мобильных устройств.

Отметим, что TSMC уже изучает возможность производства микросхем по технологиям с нормами менее 10 нм. «Мы работаем над технологическими платформами следующего поколения. У нас есть отдельная команда, которая сфокусирована на методиках с нормами менее 10 нанометров. Такие технологии станут доступны в 2017–2019 годах», — заявляют в тайваньской компании.