Новости Hardware

Японский консорциум разработал фоторезист, открывающий путь к EUV-литографии

Чтобы перенести рисунок электронной схемы с фотомаски на полупроводниковый кристалл, на полупроводниковую пластину необходимо нанести светочувствительный материал — фоторезист. Под воздействием потока фотонов материал изменит свои свойства, а последующий смыв фоторезиста раствором оставит на пластине рисунок будущих цепей для дальнейшего травления.

Ожидаемый в 2017–2018 годах переход на излучение в крайнем ультрафиолетовом диапазоне с длиной волны 13,5 нм (EUV) предъявляет новые требования к фоторезисту. Само по себе жёсткое излучение способно повредить кремниевую подложку, поэтому время экспозиции должно быть снижено до порядка одной фемтосекунды (до миллиардной доли микросекунды). Современные фоторезисты не способны работать с такой короткой выдержкой. При этом фоторезист должен сохранять механическую прочность. Попросту говоря, современные смеси могут быть либо механически устойчивыми, но с длительной выдержкой проекции, либо слабоустойчивыми, но с повышенной светочувствительностью.

По сообщению японского консорциума Eidec (EUVL Infrastructure Development Center), созданного в 2011 году рядом крупнейших местных компаний, включая Toshiba, Nikon, Fujifilm, Shin-Etsu Chemical и Dai Nippon Printing, разработчикам удалось создать фоторезист, подходящий для EUV-проекции. Вместо набора органических материалов для состава фоторезиста учёные составили смесь из оксидов металлов. Новый фоторезист для EUV-литографии оказался в 10 раз более чувствителен к излучению, чем современные фоторезисты, уже использующиеся для опытного производства с использованием EUV-излучения. Фактически речь идёт о возможности примерно в 10 раз ускорить обработку кремниевых пластин.

Перечень основных компаний, участвующих в разработке EUV-сканеров

Перечень основных компаний, участвующих в разработке EUV-сканеров

Следует напомнить, что современные сканеры компании ASML для EUV-литографии оборудуются источниками излучения чуть более 80 Вт. Это как минимум в три раза меньше, чем необходимо для организации коммерческого производства с использованием EUV-оборудования. Источник излучения мощностью 80 Вт в однодневном цикле позволяет за сутки обработать около 1000 пластин. Многосуточный цикл снижает объёмы обработки до 300–400 пластин в сутки. Для сравнения, современные 193-нм сканеры за сутки способны обрабатывать до 4000 пластин. Если получится задействовать новый фоторезист, то даже опытные установки ASML можно будет вывести на коммерческую мощность. Это значительно ускорит начало масштабного производства 10-нм решений в 2017 году и 7-нм — в 2019. Закон Мура под угрозой. Японцы помогут его спасти?

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме
window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Google снизила комиссию для приложений с подписками из Play Маркет до 15 %, а для потоковых музыкальных сервисов — до 10 % 3 ч.
Патч для Windows 11, исправляющий работу кеша в процессорах AMD Ryzen, стал доступен всем пользователям 5 ч.
NetApp анонсировала обновление портфеля решений для гибридных облаков 5 ч.
Microsoft готовится к запуску Windows 10 November 2021 Update (21H2) — вышла предрелизная тестовая сборка 5 ч.
NVIDIA представила подписку GeForce NOW RTX 3080 с возможностью трансляции игр в разрешении до 4К 5 ч.
Nintendo исправила ошибку в Metroid Dread, которая мешала пройти игру 7 ч.
Focus Entertainment приобрела студию-разработчика Shady Part of Me 7 ч.
В New World появилась возможность перемещаться между серверами, но региональную миграцию реализуют позже 7 ч.
Психологический хоррор Happy Game от авторов Machinarium поступит в продажу 28 октября 8 ч.
Among Us получила дату выхода на консолях PlayStation и Xbox — 14 декабря 8 ч.
Частная космическая станция Starlab появится на орбите Земли к 2027 году — она будет принимать туристов и проводить исследования 3 ч.
Intel предложила протокол HTTPA для повышения безопасности веб-приложений 4 ч.
Акции IBM упали в цене после квартального отчёта 4 ч.
Новая статья: Обзор системного блока Raskat Standart 500 (82648): игровой ПК, который мы заслужили 5 ч.
Razer представила игровые гарнитуры Kraken V3 с улучшенным дизайном и звуком, а также тактильной отдачей в моделях Pro и HyperSense 5 ч.
Razer представила свои первые СЖО, вентиляторы и блоки питания для игровых компьютеров — все с RGB-подсветкой 5 ч.
Материнские платы Gigabyte и MSI на чипсете Intel Z690 для процессоров Alder Lake показались на фото 5 ч.
Грядущий AMD Ryzen Threadripper PRO 5975WX на Zen 3 оказался до 34 % быстрее своего предшественника в Geekbench 5 ч.
Honor скоро представит доступный 5G-смартфон Play 5 Youth Edition 7 ч.
Arm представит в 2022 году новый GPU, который будет вдвое быстрее актуального в задачах ИИ 7 ч.