Новости Hardware

Intel: Планы выхода 10-нм микросхем будут обнародованы в этом году

Корпорация Intel показала первые в мире 300-мм подложки, обработанные по технологии 10 нм, в сентябре прошлого года. Несмотря на то, что разработка 10-нм технологического процесса фактически завершена, Intel в последние месяцы вела себя особенно скрытно во всём, что касается планов по выпуску микросхем в рамках данной технологии. Тем не менее компания планирует приоткрыть завесу тайны позже в этом году.

«Разработка 10-нм техпроцесса прогрессирует очень хорошо, — сказала Рене Джеймс (Renee James), президент Intel на ежегодной встрече с акционерами компании. — Во втором полугодии вы увидите увеличение расходов, связанных с подготовкой к производству 10-нм продукции. Мы расскажем о времени выхода 10-нм процессоров на рынок в конце этого – начале следующего года».

300-мм кремниевая подложка с интегральными схемами Intel

300-мм кремниевая подложка с интегральными схемами Intel

Intel пока не раскрыла каких-либо данных о своём 10-нм технологическом процессе. Единственное, что достоверно известно о 10-нм технологии изготовления микросхем Intel, это ключевые цели компании: увеличить плотность транзисторов и уменьшить стоимость каждого транзистора. Довольно очевидно, что в планах Intel – продолжение уменьшения размеров транзисторов, межблочных соединений и других составляющих микросхем, что увеличивает производительность, снижает энергопотребление и уменьшает себестоимость транзисторов. К сожалению, делать достоверные предположения о степени готовности 10-нм технологического процесса Intel на сегодняшний день невозможно, поскольку последние неофициальные сообщения противоречат друг другу.

Планомерное снижение стоимости транзисторов

Планомерное снижение стоимости транзисторов

В апреле появилась информация о том, что Intel отложила покупку оборудования, необходимого для начала массового производства 10-нм микросхем, в производственном комплексе fab 28 в Кирьят-Гат (Израиль) с марта на декабрь. Покупка оборудования является частью плана модернизации фабрики, стоимость которой оценена в $6 млрд. Промедление может потенциально задержать массовое производство чипов с использованием 10-нм техпроцесса на fab 28, которая должна стать первой фабрикой компании, массово выпускающей микросхемы по нормам 10 нм.

В мае был опубликован слайд, предположительно из документа Intel для партнёров, согласно которому компания предполагает начать коммерческие поставки процессоров Cannonlake для мобильных устройств в середине 2016 года. Производственный цикл процессоров с FinFET-транзисторами составляет около трёх месяцев, что означает, что производство должно начаться в начале 2016.

Предположительный перспективный план Intel

Предположительный перспективный план Intel

В настоящее время Intel заканчивает создание пилотной линии для изготовления микросхем по нормам 10 нм в производственном комплексе D1X в Хиллсборо, штат Орегон. Линия будет введена в эксплуатацию в ближайшее время и позволит компании получить максимально возможную информацию об особенностях массового производства своих 10-нм процессоров (таких как Cannonlake, Knights Landing и других). После того как Intel изучит все необходимые данные, отладит оборудование, приведёт эксплуатационные характеристики микросхем к требуемым значениям и достигнет целевого уровня выхода годных кристаллов, компания начнёт переносить 10-нм технологию на другие фабрики (в случае с 10 нм – на fab 28), запустив процесс, известный как Copy Exactly!.

Методология точного копирования конфигурации производственной линии была представлена Intel в конце 1980-х годов. Copy Exactly! требует полного соответствия конфигурации и настроек оборудования; одинакового состава химических растворов, применяемых в производстве; а также множества других вещей. Одна из целей Copy Exactly! – унификация качества, надёжности, производительности и уровня выхода годных продуктов Intel во всех производственных комплексах компании по всему миру. Другая – возможность изменять параметры производства одновременно на всех фабриках, синхронно улучшая какие-либо из них. Запуск процесса Copy Exactly! является важнейшей вехой на пути к массовому производству микросхем.

В случае если производственный комплекс fab 28 получит новое оборудование только в декабре 2015 года, то его установка и настройка (по технологии CE!) займут время (обычно — несколько месяцев). Как следствие, вряд ли Intel сможет начать массовое производство микросхем Cannonlake в начале 2016 года на fab 28. Разумеется, компания сможет продавать микросхемы, произведённые на фабрике D1X, однако их объёмы будут весьма невелики.

Микросхема Intel

Микросхема Intel

Очень вероятно, что Intel раскроет первые подробности о своей технологии 10 нм на предстоящем форуме разработчиков — Intel Developer Forum — в середине августа. Что касается примерных сроков выхода 10-нм решений на рынок, то данная информация будет обнародована позднее. Впрочем, сам факт того, что Intel поднимает тему введения новых технологических норм в эксплуатацию, свидетельствует об уверенности компании в своём 10-нм техпроцессе.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме
window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥