Intel: Планы выхода 10-нм микросхем будут обнародованы в этом году

Корпорация Intel показала первые в мире 300-мм подложки, обработанные по технологии 10 нм, в сентябре прошлого года. Несмотря на то, что разработка 10-нм технологического процесса фактически завершена, Intel в последние месяцы вела себя особенно скрытно во всём, что касается планов по выпуску микросхем в рамках данной технологии. Тем не менее компания планирует приоткрыть завесу тайны позже в этом году.

«Разработка 10-нм техпроцесса прогрессирует очень хорошо, — сказала Рене Джеймс (Renee James), президент Intel на ежегодной встрече с акционерами компании. — Во втором полугодии вы увидите увеличение расходов, связанных с подготовкой к производству 10-нм продукции. Мы расскажем о времени выхода 10-нм процессоров на рынок в конце этого – начале следующего года».

300-мм кремниевая подложка с интегральными схемами Intel

Intel пока не раскрыла каких-либо данных о своём 10-нм технологическом процессе. Единственное, что достоверно известно о 10-нм технологии изготовления микросхем Intel, это ключевые цели компании: увеличить плотность транзисторов и уменьшить стоимость каждого транзистора. Довольно очевидно, что в планах Intel – продолжение уменьшения размеров транзисторов, межблочных соединений и других составляющих микросхем, что увеличивает производительность, снижает энергопотребление и уменьшает себестоимость транзисторов. К сожалению, делать достоверные предположения о степени готовности 10-нм технологического процесса Intel на сегодняшний день невозможно, поскольку последние неофициальные сообщения противоречат друг другу.

Планомерное снижение стоимости транзисторов

В апреле появилась информация о том, что Intel отложила покупку оборудования, необходимого для начала массового производства 10-нм микросхем, в производственном комплексе fab 28 в Кирьят-Гат (Израиль) с марта на декабрь. Покупка оборудования является частью плана модернизации фабрики, стоимость которой оценена в $6 млрд. Промедление может потенциально задержать массовое производство чипов с использованием 10-нм техпроцесса на fab 28, которая должна стать первой фабрикой компании, массово выпускающей микросхемы по нормам 10 нм.

В мае был опубликован слайд, предположительно из документа Intel для партнёров, согласно которому компания предполагает начать коммерческие поставки процессоров Cannonlake для мобильных устройств в середине 2016 года. Производственный цикл процессоров с FinFET-транзисторами составляет около трёх месяцев, что означает, что производство должно начаться в начале 2016.

Предположительный перспективный план Intel

В настоящее время Intel заканчивает создание пилотной линии для изготовления микросхем по нормам 10 нм в производственном комплексе D1X в Хиллсборо, штат Орегон. Линия будет введена в эксплуатацию в ближайшее время и позволит компании получить максимально возможную информацию об особенностях массового производства своих 10-нм процессоров (таких как Cannonlake, Knights Landing и других). После того как Intel изучит все необходимые данные, отладит оборудование, приведёт эксплуатационные характеристики микросхем к требуемым значениям и достигнет целевого уровня выхода годных кристаллов, компания начнёт переносить 10-нм технологию на другие фабрики (в случае с 10 нм – на fab 28), запустив процесс, известный как Copy Exactly!.

Методология точного копирования конфигурации производственной линии была представлена Intel в конце 1980-х годов. Copy Exactly! требует полного соответствия конфигурации и настроек оборудования; одинакового состава химических растворов, применяемых в производстве; а также множества других вещей. Одна из целей Copy Exactly! – унификация качества, надёжности, производительности и уровня выхода годных продуктов Intel во всех производственных комплексах компании по всему миру. Другая – возможность изменять параметры производства одновременно на всех фабриках, синхронно улучшая какие-либо из них. Запуск процесса Copy Exactly! является важнейшей вехой на пути к массовому производству микросхем.

В случае если производственный комплекс fab 28 получит новое оборудование только в декабре 2015 года, то его установка и настройка (по технологии CE!) займут время (обычно — несколько месяцев). Как следствие, вряд ли Intel сможет начать массовое производство микросхем Cannonlake в начале 2016 года на fab 28. Разумеется, компания сможет продавать микросхемы, произведённые на фабрике D1X, однако их объёмы будут весьма невелики.

Микросхема Intel

Очень вероятно, что Intel раскроет первые подробности о своей технологии 10 нм на предстоящем форуме разработчиков — Intel Developer Forum — в середине августа. Что касается примерных сроков выхода 10-нм решений на рынок, то данная информация будет обнародована позднее. Впрочем, сам факт того, что Intel поднимает тему введения новых технологических норм в эксплуатацию, свидетельствует об уверенности компании в своём 10-нм техпроцессе.