Новости Hardware

Samsung представила техпроцессы с нормами 11 нм и 7 нм EUV

Компания Samsung Electronics выпустила пресс-релиз, в котором сообщила о завершении разработки двух техпроцессов: 11-нм техпроцесса 11LPP FinFET (Low Power Plus) и 7-нм техпроцесса 7LPP FinFET. Техпроцесс с нормами 11 нм будет использовать классические сканеры с длиной волны 193 нм, а техпроцесс с нормами 7 нм впервые в индустрии задействует сканеры с длиной волны 13,5 нм. Это излучение в крайнем (жёстком) ультрафиолетовом диапазоне, использовать которое можно только с системой зеркал. Стеклянная оптика поглощает EUV-излучение и не годится для сканеров нового поколения.

 Первый коммерческий сканер ASML для EUV-литографии (NXE:3300B)

Первый коммерческий сканер ASML для EUV-литографии (NXE:3300B)

Подобные сканеры в этом году массово начала выпускать одна единственная компания — нидерландская ASML. Стоимость каждой установки не ниже $110 млн. Это примерно на треть дороже, чем стоимость 193-нм сканеров. В этом году ASML выпустит 14 EUV-сканеров, а в 2018 году уже 28 штук. Судя по всему, заметную часть установок в этом году приобрела компания Samsung. Начало производства 7-нм продукции Samsung обещает организовать в течение второй половины 2018 года.

Компания приобрела огромный опыт в использовании EUV-сканеров, что даёт ей возможность первой в индустрии начать массовый выпуск чипов с использованием проекции в крайнем ультрафиолетовом диапазоне. С 2014 года на опытном EUV-оборудовании она обработала порядка 200 000 полупроводниковых пластин. К настоящему моменту уровень выхода годной продукции с использованием EUV-сканеров приблизился к 80 %. Эти цифры справедливы для производства массивов SRAM объёмом 256 Мбит (массив SRAM — это принятый в индустрии шаблон для тестового производства). К началу массового выпуска 7-нм продукции уровень брака обещает снизиться ещё сильнее.

Также компания представила чуть более доступную альтернативу техпроцессу 10LPP FinFET. В Samsung отдают себе отчёт, что 10-нм SoC — это премиальный сегмент смартфонов. Для смартфонов средней ценовой категории в первой половине 2018 года компания начнёт использовать техпроцесс с нормами 11 нм (11LPP FinFET). По сравнению с техпроцессом 14LPP FinFET 11-нм техпроцесс обеспечит снижение площади кристаллов на 10 % (улучшение себестоимости, компактность) и увеличение производительности на 15 % без повышения потребления. Середнячки нарастят мускулы!

В следующие три года компания Samsung Electronics будет богата на реализованные на практике передовые техпроцессы. Она будет выпускать решения с нормами 11 нм, 10 нм, 8 нм и 7 нм. Каждый разработчик найдёт техпроцесс, который будет лучше всего соответствовать требованиям заказчиков как по деньгам, так и по характеристикам.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме
window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Специалисты iFixit разобрали Apple iPad (2022) — внутренняя компоновка устройства во многом напоминает iPad Air (2020) 3 ч.
Samsung повысит безопасность сканера отпечатков пальцев в 2,5 млрд раз к 2025 году 4 ч.
BMW Group начала мелкосерийное производство водородной версии внедорожника iX5 7 ч.
Китай впервые провёл ротацию экипажей космических кораблей на орбите 9 ч.
ASRock Rack представила GENOAD8UD-2T/X550 — одну из самых компактных плат для AMD EPYC Genoa 9 ч.
За стрессом проследит электронная «татуировка» на ладони 10 ч.
Volkswagen начала приём заказов на новое поколение электромобиля ID.3 со сроком ожидания один год 17 ч.
«Росатом», Delta Computers и Positive Technologies создали отечественный комплекс киберзащиты 02-12 22:00
EK Water Blocks представила 120-мм и 140-мм вентиляторы EK-Loop Fan FPT для радиаторов СЖО 02-12 20:58
Need for Speed Unbound нашла проблему у GeForce RTX 4090 — её можно исправить только обновлением vBIOS [Обновлено] 02-12 19:04