Новости Hardware

Intel масштабировала 193-нм литографию для 15-нм норм

Компания Intel заявила о том, что ей удалось – по меньшей мере, в лабораторных условиях, – использовать литографические инструменты "глубокого ультрафиолета" (DUV, Deep Ultraviolet) с длиной волны 193 нм для 15-нм техпроцесса. Это достижение является результатом дальнейшего развития техники иммерсионной технологии и различных форм двойного сканирования. Таким образом, представления о предельных возможностях 193-нм литографии вновь пересматриваются, а вместе с этим, в очередной раз, может быть отложен вопрос о переходе на использование литографических процессов с применением сверхглубокого ультрафиолета (EUV, Extreme Ultraviolet), с длиной волны порядка 13 нм, где еще существует целый ряд нерешенных вопросов. На сегодняшний день Intel использует «сухую» 193-нм литографию для производства по 45-нм нормам. К концу года, вместе с началом использования 32-нм техпроцесса, компания планирует начать использовать первые иммерсионные инструменты. Как заявлено, при этом будут использоваться 193-нм иммерсионные сканеры производства Nikon. По словам Майка Мэйберри (Mike Mayberry), директора отдела исследования компонент и вице-президента группы производства и технологий, возможность использования 193-нм литографии с однократной экспозицией ограничена 35-нм нормами, поэтому для производства по 22-нм техпроцессу компания планирует применять одну из форм двойного экспонирования, а также, возможно, элементы вычислительной литографии. Мэйберри отметил, что пока применение 193-нм литографии для 15-нм техпроцесса находится на стадии исследований, и не обеспечивает возможности формирования всех необходимых компонентов чипа. Наряду с этим Intel в сотрудничестве с Nikon продолжает работать над EUV-технологиями для освоения 16-нм норм. На текущем этапе развития возможность предварительных версий EUV-оборудования ограничивается способностью формирования некоторых элементов схем в масштабе до 24-нм. «Клуб производителей» под предводительством компании IBM также рассчитывает расширить возможности 193-нм иммерсионных технологий до 22-нм норм, а возможно, и менее, за счет использования элементов вычислительной литографии. Материалы по теме: - IT-Байки: Электроника-2020 – жизнь после смерти кремния;
- Top-15 поставщиков оборудования для выпуска чипов.

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Владельцы Tesla лишились доступа к машинам. Виноват сбой в дата-центре 4 ч.
Электромобили Volvo, Smart и Lotus будут построены на открытой архитектуре SEA китайского концерна Geely 6 ч.
Fujitsu поставит Canon ARM-суперкомпьютер PRIMEHPC FX1000 мощностью 649 Тфлопс для моделирования новых продуктов 7 ч.
Электрическая «маршрутка»: Горьковский автозавод показал предсерийные образцы GAZelle e-NN 8 ч.
NVIDIA испугалась завышенных ожиданий и предупреждает заранее: GeForce RTX 3090 не особо быстрее RTX 3080 в играх в 4K 8 ч.
Volkswagen представила электрический кроссовер ID.4 с запасом хода 400 км и ценой от $40 тыс. 9 ч.
OnePlus 8T получит двойную батарею с очень быстрой зарядкой 11 ч.
Samsung представила «бюджетный» флагман Galaxy S20 Fan Edition 12 ч.
Для поиска жизни на Марсе ровер Perseverance будет использовать мощный рентген 12 ч.
Lenovo предложит ноутбуки ThinkPad и десктопы ThinkStation с предустановленной Ubuntu Linux 12 ч.