Новости Hardware

Термохимическая нанолитография «научилась» работать со множеством химикатов

Ученые из Технологического института Джорджии продолжают совершенствовать разработанную ими ранее технологию термохимической нанолитографии (thermochemical nanolithography, TCNL). Общий принцип предложенного процесса заключается в изменении свойств полимерной пленки на подложки с гидрофобных на гидрофильные с помощью «иглы» кремниевого наноскопического зонда атомно-силового микроскопа (atomic force microscope, AFM). В результате появляется возможность закрепления химического вещества по заданному прогревом шаблону. Такой способ формирования наноструктур имеет ряд преимуществ перед другими методами субмикронной литографии, прежде всего – скорость (миллиметры в секунду против десятитысячных долей миллиметра) и отсутствие необходимости в создании вакуума. Согласно заявлениям исследователей, доработки, внесенные ими в техпроцесс, обеспечивают возможность создания независимых шаблонов из нескольких химических веществ, почти в любых наборах и сочетаниях. Это обеспечивает TCNL еще большее преимущество по сравнению с конкурирующими технологиями, поскольку те, как правило, позволяют работать с единственным химическим веществом. Концепция усовершенствований столь же проста, как и метод в целом, и заключается в многократном повторении процесса нагрева-закрепления, по количеству разновидностей химикатов. Разработчики считают, что TCNL обеспечит относительно простую возможность формирования химических наноструктур исследователям из множества отраслей, будь то, например, электроника или биохимия. Предполагается, что новая технология позволит формировать столь сложные структуры, как ДНК. Материалы по теме: - Термохимическая нанолитография – основа 12-нм техпроцесса?;
- Toshiba за импринт-литографию для 22-нм техпроцесса.

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥