Ещё в 2020 году власти КНР попытались разработать план по импортозамещению в полупроводниковой отрасли, поскольку уже тогда отдельные китайские компании подвергались санкционным ограничениям со стороны США. Теперь, когда давление только усилилось, китайские учёные выделили ряд проблем, которые мешают прогрессу отечественной полупроводниковой отрасли — это дефицит кадров и недостаточное финансирование фундаментальных исследований.
Источник изображения: ASML
Об этом, как сообщает Bloomberg, недавно сообщили в своей статье два старших академика Китайской академии наук, Люо Цзюньвэй (Luo Junwei) и Ли Шушэнь (Li Shushen). Статья вышла в китайских социальных сетях и была призвана пролить свет на состояние дел с импортозамещением в полупроводниковой отрасли КНР. Закономерно, что академики в своих рекомендациях следуют за Си Цзиньпином (Xi Jinping), который основные векторы в этой сфере уже обозначил во время своего выступления на осеннем съезде КПК. По мнению главы китайского государства, отечественная промышленность должна преодолеть американские санкции через модернизацию и устранение слабых звеньев в цепочках поставок.
Китайским производителям, по мнению академиков, следует собрать портфолио патентов, покрывающих передовые материалы, компоненты и методы производства чипов, которое позволит местным компаниям избавиться от зависимости от технологий США. «Мы должны поощрять тех учёных, которые преследуют цели оригинальных разработок и отказываются от примитивного и монотонного следования за чужими идеями», — призвали представители китайского научного сообщества. Основными проблемами в китайской полупроводниковой промышленности, по их мнению, сейчас остаётся дефицит кадров и недостаточное финансирование фундаментальных исследований.
Обсуждать возможную консолидацию усилий США, Нидерландов и Японии в сфере ограничения доступа китайских компаний к передовому литографическому оборудованию китайские академики отказались, равно как и не предложили ответных мер — они даже не обсуждались на закрытых заседаниях академии наук, по словам источника.