Наличие у Tesla сразу двух подрядчиков по выпуску чипов AI5 будет обусловлено стремлением к диверсификации, поэтому эти компоненты будут параллельно выпускать TSMC и Samsung на своих предприятиях в США. Илон Маск (Elon Musk) пояснил, что массовым производство AI5 станет лишь в 2027 году, но уже к середине 2028 года компания надеется начать снабжение своих клиентов чипами AI6.
Источник изображения: Samsung Electronics
Об этом на текущей неделе завил глава Tesla, отвечая на пост одного из пользователей в социальной сети X, который приписывал чипу AI5 превосходство над предшественником в размере от 5 до 40 раз по различным критериям, при этом он должен оказаться в 10 раз выгоднее в удельном выражении при работе с инференсом, чем изделия Nvidia, а также в три раза более эффективным по уровню энергопотребления. Комментатор рассчитывал, что Tesla начнёт выпускать чипы AI5 в 2026 году, но Маск немного охладил его ожидания.
Глава Tesla пояснил, что в 2026 году будут готовы только инженерные образцы AI5, либо некоторое количество серийных чипов, но оно не будет значительным. Лишь в 2027 году будет развёрнуто их серийное производство. Маск также добавил, что выпускаемые TSMC и Samsung версии AI5 будут немного различаться физически с учётом особенностей техпроцессов каждой из компаний, но программное обеспечение Tesla с ними будет работать одинаково.
Выпуск AI6 можно будет организовать на тех же предприятиях, что и AI5, причём уже к середине 2028 года он станет массовым. Уровень быстродействия AI6 в два раза превысит показатели AI5. Как признался Маск, «AI7 потребует новых фабрик, поскольку будет более авантюристским». Сумма контракта с Samsung на производство AI6 составила $16,5 млрд, как стало известно ранее. По некоторым данным, компания ускорила подготовку к освоению 2-нм технологии производства на своём строящемся предприятии в техасском Тейлоре. Фабрика начнёт выпускать продукцию в третьем квартале следующего года, хотя ранее планировала сделать это лишь к концу 2026 года. Как ожидается, при производстве 2-нм продукции Samsung собирается использовать на предприятии в Техасе литографические системы ASML TwinScan EXE:5200B, предназначенные для работы с высоким значением числовой апертуры (High-NA). В ближайшие месяцы Samsung получит два таких литографических сканера на территории США.