SiCarrier пообещала Китаю суверенные машины для производства 5-нм чипов без EUV

Китай сможет использовать построенное местными компаниями оборудование для производства передовых полупроводников вопреки введённым США санкциям, которые закрыли Пекину доступ к передовым технологиям выпуска чипов, заявили в компании Shenzhen SiCarrier Industry Machines.

72 полёта над Марсом: как Ingenuity пережил зиму, сбои и собственную миссию

Обзор Intel Core Ultra 5 250K Plus, или Как Arrow Lake превратился в «топ за свои деньги»

Выбираем лучший игровой ноутбук до 100 000 рублей: сравнительное тестирование 7 интересных моделей

Обзор Intel Core Ultra 7 270K Plus — лучший Arrow Lake за полцены

Ryzen и DDR5-6000 на чипах Samsung — G.Skill даёт добро

Источник изображения: sicarrier.com

Китаю пришлось смириться с санкциями, которые лишили его доступа к передовому литографическому оборудованию для производства чипов, напомнил президент SiCarrier Ду Лицзюнь (Du Lijun), но страна может свободно применять собственные инструменты и выпускать на них чипы по нормам 5 нм. «Возможно, есть способ применять неоптические технологии, то есть использовать наше технологическое оборудование для решения некоторых проблем в области литографии», — заявил господин Ду на выставке Semicon China, которая открылась накануне.

SiCarrier продемонстрировала на мероприятии широкий ассортимент оборудования для травления и осаждения, а также оптические измерительные и инспекционные инструменты. Стенд компании оказался одним из наиболее посещаемых, а всего в выставке приняли участие более 1400 компаний. Ду Лицзюнь предупредил, что многопроходное формирование рисунка может понизить процент выхода годной продукции — только при переходе с 7 нм на 5 нм число этапов производства возрастает на 20 %. Тем не менее, лучше иметь мало чипов, чем вообще не иметь.

Многоэтапное нанесение рисунка, в котором оптическая литография заменяется различными этапами травления и осаждения, считается одной из альтернатив, способных помочь Китаю наладить выпуск продукции по нормам 5 нм — страну лишили доступа к литографическому оборудованию на сверхжёстком ультрафиолетовом излучении (EUV), которое выпускает только ASML. В 2023 году SiCarrier зарегистрировала в Китае патент на технологию многопроходного формирования рисунка. Для этого используется оборудование, работающее в глубоком ультрафиолете (DUV), и печать в четыре прохода, позволяющее получать компоненты, которые соответствуют нормам 5 нм. Решение помогает обходиться без EUV и предполагает снижение стоимости производства.

Основанная в 2021 году SiCarrier Technology полностью принадлежит государственному инвестиционному фонду из Шэнчжэня; её дочерняя компания SiCarrier Industry Machines, начавшая работу в 2022 году, вошла в чёрный список американского минторга наряду со 140 другими китайскими производителями. Оборудование SiCarrier уже применяется китайскими производителями полупроводников, в том числе Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), пишет Reuters со ссылкой на анонимный источник. Компания также сотрудничает с Huawei, стало известно накануне.