Опрос
|
реклама
Быстрый переход
Японцы нашли способ выпуска 1,4-нм чипов без дорогущей EUV-литографии
10.12.2025 [10:14],
Алексей Разин
Японская Canon ещё осенью прошлого года отправила для изучения специалистам Intel первую установку для изготовления прогрессивных чипов методом нанопечати. По замыслу производителя, такая технология позволяет сократить расходы на оборудование при производстве 5-нм чипов и заметно экономить электроэнергию. Компания DNP недавно предложила материал для производства 1,4-нм чипов таким способом. 
Источник изображения: Nikkei Asian Review, Dai Nippon Printing Как поясняет Nikkei Asian Review, японская компания Dai Nippon Printing разработала материал для изготовления специализированных матриц, позволяющих делать оттиск на поверхности кремниевых пластин, формируя рисунок для дальнейшего травления и превращения крохотного куска кремния в полупроводниковый чип. В 2027 году DNP намеревается наладить массовый выпуск таких расходных материалов, которые в комбинации с профильным оборудованием Canon для нанопечати позволят создавать 1,4-нм чипы. При этом расходы электроэнергии на изготовление чипа удастся снизить на 90 % по сравнению с традиционным литографическим оборудованием, использующим мощные лазеры. Строго говоря, и сама установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что в десятки раз меньше стоимости передового сканера ASML для изготовления 2-нм и более совершенной продукции. Именно традиционная литография, по данным японских источников, определяет от 30 до 50 % себестоимости чипов. Не только Intel заинтересовалась технологией нанопечати чипов. Южнокорейская Samsung Electronics, тайваньская TSMC, американская Micron Technology и японская Kioxia проявляют к ней интерес в той или иной мере, но их предприятия заточены под использование классической фотолитографии, и провести масштабную перестройку можно решиться, лишь обладая полной уверенностью в перспективности технологии нанопечати чипов. Некогда японские Canon и Nikon были ведущими поставщиками литографического оборудования, но в последние пару десятилетий они уступили нидерландской ASML, которая теперь контролирует 90 % рынка профильного оборудования. Fujifilm Holdings также обещала заняться выпуском материалов для нанопечати чипов, но пошатнуть позиции фотолитографии на современном рынке будет непросто. У Китая появился свой 10-нм импринтный литограф — альтернатива санкционному EUV
07.08.2025 [12:03],
Геннадий Детинич
Ограничение доступа Китая к современному передовому оборудованию для выпуска микросхем вынуждает разработчиков из Поднебесной искать доступные альтернативы. Одной из них обещает стать нанопечать или NIL (Nanoimprint Lithography). Это сложная в реализации технология, предполагающая использование высокоточных штампов. Но даже здесь китайцы смогли удивить, предложив метод, способствующий повышению точности печати и экономии материалов. 
Источник изображения: Pulin Technology Импринтная литография — метод прямого механического переноса наноструктур на подложку с помощью твёрдого штампа. В отличие от оптической литографии, здесь изображение схемы для травления формируется за счёт давления. Подобные решения уже довольно давно предлагают Canon и Nanonex, но они остаются нишевыми и применяются при производстве фотоники, MEMS и биомедицинских чипов. Для массового выпуска чипов с нормами 3-5 нм технология пока не годится. Тем не менее, китайская разработка в условиях санкций способна стать полезным инструментом для китайской полупроводниковой промышленности. Китайская компания Pulin Technology изготовила и испытала импринтную установку (степпер) для производства микросхем методом пошагового нанесения отпечатка шаблона (step-and-repeat). Другими словами, данная установка наносит отпечаток по частям, а не целиком. Кроме того, китайская машина предполагает капельное нанесение фоторезиста, что позволяет экономить материал при производстве. Возможности инструмента серии PL-SR во многом повторяют характеристики NIL-оборудования компании Canon образца 2023 года — нанопечатной установки FPA-1200NZ2C. Одна из последних её реализаций была поставлена в 2024 году в США — в Техасский институт электроники (TIE). Инструмент позволяет печатать штампами с технологическими нормами масштаба 10 нм. Нанесение методом штамповки рисунка с нормами 10 и менее нанометров на фоточувствительный слой резиста на кристалле технологически ничуть не проще, чем EUV-литография. Правда, специфика трудностей здесь иная: необходимы высочайшая сохранность и чистота формы в процессе использования. Зато для штамповки микросхем не нужен мощный источник лазерного излучения и невероятно сложная оптика, которая для EUV-диапазона требует зеркал вместо линз, что значительно усложняет процесс. К сожалению, подробностей о новой машине не много. Известно лишь, что оборудование способно обрабатывать 12-дюймовые (300-мм) пластины, что было продемонстрировано на примере изготовления опытных чипов памяти, кремниевой фотоники и микродисплеев. Покупателем первой импринтной установки PuLin PL-SR стала китайская фабрика по производству полупроводников — литограф прошёл все необходимые испытания и готов к работе над выпуском серийных чипов на 300-мм пластинах. |
© 1997—2026 3DNews
При цитировании документа ссылка на сайт с указанием автора обязательна. Полное заимствование документа является
нарушением
российского и международного законодательства и возможно только с согласия редакции 3DNews.
MWC 2018
2018
Computex
IFA 2018
