Сегодня 16 апреля 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Китайская SMEE представила литографический сканер для выпуска 28-нм чипов вопреки санкциям

Китайский разработчик инструментов для производства чипов Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) представил свой первый литографический сканер, способный обрабатывать пластины по технологическому процессу 28-нм класса. Сообщается, что сканер называется SSA/800-10W и представляет собой крупный прорыв для компании, поскольку существующие машины серии SSA600 поддерживают технологические процессы 90, 110 и 280 нм.

 Источник изображения: SMEE

Источник изображения: SMEE

Похоже, что SMEE выполнила ранее данное обещание представить инструмент для литографии с поддержкой 28-нм технологии к концу 2023 года. Это достижение представляет собой крупный скачок в стремлении Китая сократить технологический разрыв в мировой индустрии микросхем, хотя новое устройство уступает инструментам лидера рынка ASML, а перспективы его массового производства неясны. После появления сообщения о новой литографической машине акции SMEE выросли на 8 %. Затем упоминание о создании нового устройства было удалено из сообщения, возможно, по соображениям конфиденциальности.

Необходимо отметить, что лидер отрасли TSMC производит чипы по 28-нм техпроцессу с 2011 года, тогда как китайская компания SMIC внедрила аналогичную технологию в 2015 году. Однако и SMIC, и TSMC используют литографические инструменты ASML для изготовления соответствующих чипов.

Последние экспортные правила, установленные правительством США, не позволяют китайским производителям микросхем приобретать необходимое оборудование и технологии для производства современных непланарных транзисторных логических микросхем по техпроцессам менее 14/16 нм, микросхем 3D NAND с более чем 127 активными слоями и микросхем DRAM с полушагом менее 18 нм.

Дополнительные ограничения со стороны Нидерландов, Японии и Тайваня, вступившие в силу в начале этого года, ещё сильнее ограничили китайским компаниям доступ к сложным инструментам. Эти ограничения мешают им производить чипы с использованием новейших техпроцессов, в частности 14/12-нм и 7-нм процессов второго поколения, а также 128- и 232-слойных чипы 3D NAND YMTC.

В прошлом году Министерство торговли США включило SMEE в список организаций, подлежащих контролю, пытаясь помешать Китаю развивать свою полупроводниковую промышленность с помощью собственных инструментов.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
OpenAI выпустила o3 и o4-mini — самые мощные рассуждающие модели, которые умеют «думать» картинками 7 мин.
Игровой ИИ-помощник от Microsoft стал доступен сотрудникам Xbox — подробности тестовой версии Copilot for Gaming 57 мин.
«Ведьмаки в ловушки не попадаются»: CD Projekt Red предупредила игроков о мошенниках, которые приглашают на «бету» The Witcher 4 3 ч.
11 bit studios подтвердила разработку двух новых игр, включая следующую Frostpunk 3 ч.
«Станет тем, чем должна была быть The Callisto Protocol»: геймплейный трейлер Cronos: The New Dawn от авторов ремейка Silent Hill 2 заинтриговал игроков 5 ч.
Microsoft позволила Copilot Studio самостоятельно управлять компьютером по заданию пользователя 5 ч.
ИИ помог Google заблокировать более 39 млн подозрительных рекламных аккаунтов 6 ч.
В классическом Outlook обнаружилась ошибка — из-за неё нагрузка на процессор при наборе текста возрастает до 50 % 7 ч.
«Путешествие важнее конечной цели»: ведущий разработчик Skyblivion отреагировал на утечку The Elder Scrolls IV: Oblivion Remastered 9 ч.
Planescape: Torment могла получить сиквел — над ним работали бывшие сценаристы Dragon Age и Fallout: New Vegas 9 ч.