Сегодня 24 марта 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Китайские учёные создали передовой твердотельный лазер для полупроводниковой DUV-литографии

Китайские учёные построили компактную твердотельную лазерную систему, которая генерирует когерентный свет с длиной волны 193 нм. Это изобретение обещает прорыв в полупроводниковой литографии и других технологических областях.

 Источник изображения: spie.org

Источник изображения: spie.org

Лазеры, работающие в глубоком ультрафиолете (DUV) с высокой энергией фотонов и короткими длинами волн, применяются в полупроводниковой литографии, спектроскопии высокого разрешения, прецизионной (высокоточной) обработке материалов и в квантовых технологиях. Их отличают высокая когерентность и низкое потребление энергии в сравнении с эксимерными или газоразрядными лазерами, то есть возможность создавать компактные установки.

Китайским учёным удалось добиться значительного прогресса и построить компактную твердотельную лазерную систему, способную генерировать когерентный луч с длиной волны 193 нм, сообщается в рецензируемом научном журнале Advanced Photonics Nexus. Эта длина волны имеет решающее значение в полупроводниковой литографии — процессе травления сложных узоров на кремниевых пластинах, составляющих основу современной электроники.

Лазерная система работает с импульсной частотой повторения 6 кГц, в ней используется усилитель на кристалле Yb:YAG (иттербий-допированный иттрий-алюминиевый гранат) и производится лазер с длиной волны 1030 нм. Луч разделяется на две части: одна проходит через нелинейный кристалл, где подвергается генерации четвёртой гармоники для производства луча 258 нм с выходной мощностью 1,2 Вт; вторая воздействует на оптический параметрический усилитель, генерируя лазер 1553 нм мощностью 700 мВт. Далее они объединяются в каскадных кристаллах LBO (триборат лития — LiB₃O₅), и производится лазер на 193 нм, достигающий средней мощности 70 мВт с шириной линии менее 880 МГц. Перед смешиванием частот исследователи ввели в луч 1553 нм спиральную фазовую пластину, благодаря которой стал генерироваться вихревой луч с орбитальным угловым моментом — спиральный лазерный луч.

Таким образом, учёным удалось впервые произвести на твердотельной установке вихревой лазерный луч с длиной волны 193 нм. Он сможет применяться для затравки гибридных эксимерных лазеров на фториде аргона (ArF), использоваться в литографии кремниевых пластин, выявлении дефектов, в квантовой связи и оптическом микроманипулировании. Система предлагает более высокую эффективность и точность для полупроводниковой литографии и открывает новые возможности для производственных технологий. Генерация вихревого луча с длиной волны 193 нм обещает дальнейшие прорывы в этой области вплоть до революции в производстве электроники.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Samsung начнёт выпускать автомобильные чипы Hyundai в этом полугодии 3 ч.
Страховка от протечек: Accelsius выплатит до $100 тыс., если её СЖО прохудится и зальёт оборудование в стойке 3 ч.
DeepSeek начали массово встраивать в китайские автомобили — это привлекает покупателей 4 ч.
«ИнфоТеКС» выпустила шлюз безопасности ViPNet Coordinator HW50 в формате мини-компьютера 4 ч.
Chemours, NTT Data и Hibiya Engineering опробуют передовую жидкость для двухфазных систем погружного охлаждения 6 ч.
Разработка пластиковых Apple Watch SE споткнулась о технические трудности — выход устройства под вопросом 7 ч.
Samsung выпустит смарт-очки на базе Android XR уже в этом году 7 ч.
Китайская SiCarrier при поддержке Huawei разработала оборудование для выпуска 28-нм чипов 8 ч.
От СХД напрямую к ИИ: NVIDIA анонсировала эталонную платформу AI Data Platform для быстрого извлечения данных во время инференса 8 ч.
Малайзия пообещала США перекрыть нелегальные поставки санкционных чипов Nvidia в Китай 10 ч.
Включить темный режим