Сегодня 06 мая 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Китайские учёные создали передовой твердотельный лазер для полупроводниковой DUV-литографии

Китайские учёные построили компактную твердотельную лазерную систему, которая генерирует когерентный свет с длиной волны 193 нм. Это изобретение обещает прорыв в полупроводниковой литографии и других технологических областях.

 Источник изображения: spie.org

Источник изображения: spie.org

Лазеры, работающие в глубоком ультрафиолете (DUV) с высокой энергией фотонов и короткими длинами волн, применяются в полупроводниковой литографии, спектроскопии высокого разрешения, прецизионной (высокоточной) обработке материалов и в квантовых технологиях. Их отличают высокая когерентность и низкое потребление энергии в сравнении с эксимерными или газоразрядными лазерами, то есть возможность создавать компактные установки.

Китайским учёным удалось добиться значительного прогресса и построить компактную твердотельную лазерную систему, способную генерировать когерентный луч с длиной волны 193 нм, сообщается в рецензируемом научном журнале Advanced Photonics Nexus. Эта длина волны имеет решающее значение в полупроводниковой литографии — процессе травления сложных узоров на кремниевых пластинах, составляющих основу современной электроники.

Лазерная система работает с импульсной частотой повторения 6 кГц, в ней используется усилитель на кристалле Yb:YAG (иттербий-допированный иттрий-алюминиевый гранат) и производится лазер с длиной волны 1030 нм. Луч разделяется на две части: одна проходит через нелинейный кристалл, где подвергается генерации четвёртой гармоники для производства луча 258 нм с выходной мощностью 1,2 Вт; вторая воздействует на оптический параметрический усилитель, генерируя лазер 1553 нм мощностью 700 мВт. Далее они объединяются в каскадных кристаллах LBO (триборат лития — LiB₃O₅), и производится лазер на 193 нм, достигающий средней мощности 70 мВт с шириной линии менее 880 МГц. Перед смешиванием частот исследователи ввели в луч 1553 нм спиральную фазовую пластину, благодаря которой стал генерироваться вихревой луч с орбитальным угловым моментом — спиральный лазерный луч.

Таким образом, учёным удалось впервые произвести на твердотельной установке вихревой лазерный луч с длиной волны 193 нм. Он сможет применяться для затравки гибридных эксимерных лазеров на фториде аргона (ArF), использоваться в литографии кремниевых пластин, выявлении дефектов, в квантовой связи и оптическом микроманипулировании. Система предлагает более высокую эффективность и точность для полупроводниковой литографии и открывает новые возможности для производственных технологий. Генерация вихревого луча с длиной волны 193 нм обещает дальнейшие прорывы в этой области вплоть до революции в производстве электроники.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Nebius внедрит системы хранения DDN в свою ИИ-инфраструктуру 25 мин.
Производитель чипов SMIC в прошлом году потратил на исследования больше любой другой китайской компании 2 ч.
Китай решил доставить на Землю образцы облаков Венеры — там может скрываться инопланетная жизнь 2 ч.
Британские операторы ЦОД намерены строить собственные газовые электростанции 3 ч.
Продажи отечественных телевизоров выросли в России в 1,6 раза 3 ч.
До конца следующего года Waymo удвоит количество роботакси и наладит производство минивэнов Zeekr RT 6 ч.
Новая статья: ИИтоги апреля 2025 г.: шутки в сторону 12 ч.
ЦОД Испании и Португалии успешно пережили крупнейший «блэкаут» в истории стран, а вот телеком-инфраструктура испытала серьёзные проблемы 12 ч.
AOC выпустила 27-дюймовый игровой IPS-монитор Q27G4K с 1440p и 400 Гц 13 ч.
Индонезия намерена построить АЭС на 10 ГВт в рамках масштабного энергетического экопроекта 13 ч.