На днях бельгийский исследовательский центр Imec и компания ASML заключили пятилетнее соглашение, в рамках которого нидерландский производитель литографического оборудования предоставит Imec полный комплект самых современных инструментов для выпуска чипов и проверки качества продукции. Партнёрство позволит разработать и внедрить в промышленность техпроцессы с нормами менее 2 нм вплоть до атомарного уровня.

Источник изображения: Imec

Ранее исследователи Imec пользовались передовым литографическим оборудованием на родной площадке ASML в Вельдховене, Нидерланды. Подписанное соглашение позволит разместить аналогичное оборудование на площадке Imec, что облегчит и упростит работу сотрудникам центра и их партнёрам из академических и коммерческих кругов.

Новейшее оборудование от ASML, включая сканер EUV с высоким значением числовой апертуры (High-NA) стоимостью $350 млн, будет интегрировано в пилотную линию NanoIC по обработке кремниевых пластин в Бельгии. Ранее в линию NanoIC вложились ЕС и власти Фландрии. Собственно, поставка ASML во многом будет оплачена за счёт финансирования из европейских фондов и программ, направленных на разработку передовых полупроводниковых технологий.

Вместе со сканером Twinscan EXE (High-NA 0,55) в Imec будут доставлены сканер Twinscan NXE (NA 0,33), Twinscan NXT (DUV, 193 нм), оптические метрологические инструменты ASML YieldStar и одно- и многолучевые инспекционные инструменты HMI. Бельгийцы получат все лучшие «игрушки» ASML, а взамен передадут для внедрения в промышленность технологии литографического производства с технологическими нормами менее 2 нм и будут разрабатывать техпроцессы двух следующих десятилетий.

Отличным дополнением к совместной работе над технологическими узлами следующего поколения для логических микросхем с техпроцессом менее 2 нм, станет сотрудничество в области технологий производства DRAM, кремниевой фотоники и передовых решений для упаковки чипов — всего того, что крайне востребовано современной полупроводниковой промышленностью, явно подошедшей к технологическому барьеру классических техпроцессов.

Для выпуска чипов по технологиям с нормами менее 2 нм потребуются литографические сканеры нового поколения, обладающие высоким значением числовой апертуры (High-NA) и использующие сверхжёсткое ультрафиолетовое излучение (EUV). Первый образец такого оборудования Samsung Electronics уже получила для установки на флагманском предприятии в Хвасоне.

Источник изображения: Samsung Electronics

Если учесть, что у Intel в Орегоне уже установлено как минимум два таких литографических сканера ASML, и конкурирующая TSMC тоже проявляет осторожный интерес к подобному оборудованию, действия Samsung можно считать своевременными. По данным южнокорейских СМИ, компания получила первый экземпляр сканера ASML TwinScan EXE:5000 для работы с ним на предприятии в Хвасоне в начале этого месяца. Оборудование такого класса понадобится Samsung для экспериментов по выпуску чипов по технологиям тоньше 2 нм.

В четвёртом квартале прошлого года Samsung, по данным TrendForce, занимала 8,1 % мирового рынка услуг по контрактному производству чипов. Буквально за один квартал потери составили один процентный пункт, тогда как TSMC укрепили свои позиции на 2,4 п.п. до 67,1 %. Выручка Samsung при этом сократилась последовательно на 1,4 % до $3,26 млрд. Своевременное освоение передовых техпроцессов позволит Samsung эффективнее удерживать свои рыночные позиции. К 2028 году TSMC рассчитывает внедрить оборудование класса High-NA EUV в массовом производстве чипов, Intel рассчитывает сделать это значительно раньше.

Прежние американские власти старались склонять Нидерланды к синхронизации усилий по ограничению доступа китайских компаний к оборудованию для производства чипов, но в этом году компания ASML намерена открыть в Китае центр по ремонту и обслуживанию своего оборудования, используемого местными клиентами для выпуска чипов.

Источник изображения: ASML

В годовом отчёте ASML, как отмечает South China Morning Post, открыто упоминается о намерениях нидерландской компании открыть новый сервисный центр в китайской столице в текущем году. До сих пор считалось, что по настоянию американской стороны власти Нидерландов могут ограничить ASML в возможности не только поставлять в КНР новое оборудование для производства чипов, но и обслуживать уже имеющееся, включая командировки специалистов.

При этом по итогам 2024 года выручка ASML на китайском рынке достигла 36,1 % от совокупной, впервые обойдя Тайвань и сделав данное географическое направление ключевым для нидерландского поставщика оборудования. По сути, Тайвань ограничился лишь долей в 15,4 % и суммой €4,3 млрд против €10,2 млрд в Китае. Как отмечает ASML в своём годовом отчёте, серьёзное увеличение выручки на китайском рынке обусловлено большим портфелем заказов, сформированным в предыдущие годы. Как только они будут выполнены, поток выручки нормализуется.

В глобальном масштабе только сегмент производства памяти демонстрировал высокую динамику спроса на оборудование ASML, как отмечается в документации компании. Санкции США и их союзников неминуемо приведут к снижению выручки компании на китайском рынке. В октябре она заявила, что доля Китая в текущем году в структуре всей выручки снизится до 20 %. По всей видимости, сервисный центр в Пекине сосредоточится на обслуживании уже ввезённого оборудования и будет в той или иной мере соответствовать санкционным ограничениям.

Желая отвлечь аудиторию от слухов о поиске стратегического партнёра в сфере производства чипов, руководство Intel на этой неделе заявило, что успешно использует полученные от ASML литографические системы новейшего поколения для мелкосерийного производства чипов. При помощи технологии High-NA EUV за один квартал компании удалось обработать 30 000 кремниевых пластин.

Источник изображения: Intel

Литографическое оборудование ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) компания Intel получила ещё в прошлом году, и два экземпляра систем (предположительно, TwinScan EXE:5000) уже настроены на выпуск опытной продукции в достаточных количествах. По словам представителей Intel, новое оборудование позволяет сократить количество технологических этапов при производстве современных чипов и ускорить изготовление передовой продукции. На подготовку к запуску такой технологии у Intel в общей сложности ушло семь лет.

На ранних этапах экспериментов возникали проблемы с надёжностью EUV-систем, но оборудование класса High-NA EUV, по словам ведущего инженера Intel Стива Карсона (Steve Carson), в два раза надёжнее решений предыдущего поколения. Продолжительность производственного цикла сокращается при переходе на оборудование с высокой числовой апертурой. Например, если ранее на обработку кремниевой пластины тратилось три экспозиции и 40 технологических операций, то теперь количество последних удалось сократить менее чем до десяти, а экспозиция требуется всего одна.

Как известно, Intel использовала оборудование класса High-NA EUV в качестве экспериментального при подготовке к выпуску чипов по технологии Intel 18A, но в серийном варианте применять его не будет. Оно должно быть внедрено уже при выпуске чипов по технологии Intel 14A не ранее следующего года. При этом будет использоваться ещё более новое оборудование ASML семейства TwinScan EXE:5200, первые компоненты которого компания должна получить в ближайшие месяцы. Конкурирующая TSMC переход на High-NA EUV осуществит не ранее 2028 года, как ожидают эксперты.

Необходимость Intel снизить капитальные затраты на этот год на $4 млрд, как отмечают представители ресурса Tweakers, никак не влияет на готовность компании получить от нидерландской ASML первый литографический сканер TwinScan EXE:5200, пригодный для серийного производства чипов по технологии Intel 14A. Система относится к поколению EUV-оборудования с высоким значением числовой апертуры (High-NA).

Формально, ASML уже отгрузила три экземпляра подобной техники, но они относились к модели TwinScan EXE:5000, предназначенной для экспериментов и проведения исследовательской деятельности, а в серийных количествах чипы могут выпускаться только при использовании сканеров модели TwinScan EXE:5200 и более поздних. Помимо Intel, ранние образцы оборудования должна была получить и тайваньская TSMC.

Как сообщают нидерландские источники со ссылкой на руководство производителя оборудования, Intel уже в ближайшие месяцы начнёт получать от ASML компоненты сканера TwinScan EXE:5200. Помимо прочего, такой сканер позволяет за час обрабатывать более 185 кремниевых пластин, обеспечивая более высокую производительность по сравнению с экспериментальной моделью TwinScan EXE:5000. Выпуск чипов по технологии Intel 14A может быть налажен в следующем году, пусть и в ограниченных количествах. Оборудование класса High-NA EUV компания ASML начнёт массово поставлять в 2028 году.

Ещё более высокое значение числовой апертуры на уровне 0,75 может появиться у оборудования ASML в 2032 году. Каждый литографический сканер такого класса стоит несколько сотен миллионов долларов США, но если верить нидерландским СМИ, пока Intel не готова экономить на их закупке, понимая важность своевременного освоения передовых технологий.

По сравнению с другими отчётными периодами, четвёртый квартал вынуждает публичные компании чуть дольше готовить финансовую статистику, но ASML уложилась до конца января, заявив, что объём заказов на её оборудование для производства чипов в денежном выражении вырос до €7,09 млрд, в два с небольшим раза превысив ожидания аналитиков.

Источник изображения: ASML

Генеральный директор нидерландской компании Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), комментируя итоги прошлого фискального квартала, пояснил, что «ИИ является очевидным драйвером» финансовых результатов этого поставщика литографических сканеров. Такое оборудование необходимо для выпуска любых полупроводниковых компонентов, а в случае с вычислительными решениями для инфраструктуры ИИ востребованы как раз наиболее дорогие литографические системы этой марки. «Мы искренне верим, что ИИ откроет перед полупроводниковой отраслью ещё большие возможности», — пояснил глава ASML.

Акции ASML успели вырасти на хороших новостях на 12 %, максимально для одной торговой сессии с 2020 года, но ранее на этой неделе капитализация компании сократилась более чем на €19 млрд из-за опасений инвесторов по поводу возможного сокращения расходов производителей чипов на оборудование для их выпуска. Всё из-за успехов китайского стартапа DeepSeek, который показал возможность создавать эффективные языковые модели при умеренных материальных затратах и ограниченных вычислительных ресурсах. В понедельник акции ASML подешевели на 7 %.

Из указанных 7 млрд евро, сформировавших заказы на оборудование ASML в прошлом квартале, на передовые EUV-сканеры пришлось около €3 млрд. При этом санкции против Китая начали неизбежно сказываться на бизнесе ASML в регионе, и если на протяжении основной части прошлого года и части позапрошлого страна была главным источником выручки для компании, то в четвёртом квартале она уступила США и оказалась на втором месте. Важно учитывать, что развитие американской полупроводниковой отрасли тоже способствовало смещению приоритетов в поставках ASML.

В прошлом квартале китайская выручка компании достигла €1,92 млрд или 27 % от совокупной. По итогам текущего года доля Китая в выручке ASML должна опуститься до 20 %, как уже отмечалось ранее. Впрочем, в компании этот процесс называют возвращением к нормальным соотношениям, соответствующим историческим тенденциям. Выручка ASML по итогам текущего года должна уложиться в диапазон до 30 до 35 млрд евро, как считает руководство. По итогам минувшего квартала выручка поставщика достигла €9,26 млрд евро и превысила ожидания рынка, чистая прибыль составила €2,69 млрд и тоже оказалась выше прогноза.

В прошлом квартале ASML получила выручку от поставки ещё двух передовых литографических сканеров класса High-NA EUV, каждый из которых стоит более €350 млн. Кто является их получателями, из-за затяжной логистики и специфики бухгалтерского учёта судить сложно, но Intel и TSMC такие системы уже получать начали. Они позволят им выпускать чипы с литографическими нормами менее 2 нм.

Приложение китайского стартапа DeepSeek для работы с фирменным ИИ-чат-ботом по своей популярности успело обойти в Apple App Store знаменитый ChatGPT. Это пошатнуло веру инвесторов в могущество американской ИИ-отрасли — курсы акций многих западных компаний, включая Nvidia и ASML, начали ощутимо снижаться в цене в понедельник.

Источник изображения: Nvidia

Откровением для участников фондового рынка стала способность китайской компании предложить сопоставимый по быстродействию с ChatGPT чат-бот с ИИ не только бесплатно для пользователей, но и с гораздо меньшими затратами для самого разработчика. Получается, что для создания эффективных языковых моделей можно ограничиться гораздо более скромными аппаратными ресурсами и материальными затратами. На предварительных торгах в понедельник акций Nvidia падали в моменте на величину свыше 11 %, из-за чего капитализация компании просела на 384 млрд долларов. Ценные бумаги ASML просели на 11 %, что является новым антирекордом для одной торговой сессии за период с 15 октября прошлого года. Фьючерсы на технологический индекс Nasdaq 100 также потеряли в цене.

Как известно, Nvidia на протяжении последних двух с лишним лет считается одним из главных бенефициаров так называемого бума искусственного интеллекта, поскольку разрабатывает и поставляет ускорители для соответствующих вычислительных систем. ASML, которая на этой неделе должна опубликовать свой квартальный отчёт, является крупнейшим поставщиком литографических сканеров, которые нужны для выпуска чипов, используемых в вычислительной инфраструктуре.

Активность американских компаний и властей в сфере развития подобной инфраструктуры в последние дни широко освещалась в прессе. Так, компания Meta✴ Platforms заявила о готовности потратить на строительство центров обработки данных до $65 млрд. Анонсированный при участии президента США Дональда Трампа (Donald Trump) проект Stargate подразумевал инвестиции в сумме до $500 млрд в последующие четыре года. Всё указывало на то, что для сохранения своего лидерства в сфере искусственного интеллекта США не остановятся перед высокими расходами. Прорыв DeepSeek доказал, что они не всегда требуются, если сосредоточиться на оптимизации ПО в условиях ограниченности ресурсов. Если все игроки отрасли осознают данный дисбаланс, потребность в продукции тех же ASML и Nvidia может быть пересмотрена в сторону уменьшения. Это и толкает акции западных компаний технологического сектора вниз на торгах в понедельник.

Нидерланды ужесточили экспортный контроль, в результате чего ASML сможет получать экспортные лицензии на поставки оборудования для выпуска чипов у властей своей страны, а не США. Новые нормы вступят в силу 1 апреля, и они, вероятно, стали ответом на обновлённый список подсанкционного оборудования США — в него входят измерительные и инспекционные системы, которые выпускают производители полупроводникового оборудования, в том числе ASML.

Источник изображения: asml.com

Власти Нидерландов не упомянули новые санкции, введённые Вашингтоном, но, по сведениями Bloomberg, эта мера напрямую связана с политикой Белого дома. Страна уже не первый раз обновляет правила экспортного контроля, чтобы сохранить за собой право определять действия местных производителей полупроводникового оборудования — в сентябре 2024 года они внесли в этот список оборудование, работающее в глубоком ультрафиолете (DUV). Из-за этого Китай лишился возможности покупать оборудование, на котором можно было бы выпускать чипы по нормам 7 нм.

В Пекине утверждают, что страна способна обеспечить свой технический прогресс и без оборудования ASML, но есть мнение, что Китай отстаёт от её уровня на 10, а то и 15 лет. Поэтому китайцы не теряют времени и предпринимают шаги, чтобы сократить отставание в гонке полупроводниковых технологий. В частности, они пытаются переманивать сотрудников компаний, выпускающих производственное оборудование, чтобы строить собственное. Тем временем США радикально ужесточили ограничения на экспорт чипов для систем искусственного интеллекта, создав большей части стран сложности для их закупки — эта мера вызвала недовольство в Nvidia, Ассоциации полупроводниковой промышленности и в Евросоюзе.

Несмотря на санкции, китайские клиенты обеспечили ASML около половины продаж в 2024 года на общую сумму €2,79 млрд. В новых условиях доля Китая в продажах ASML грозит сократиться до 20 % выручки компании.

В апреле этого года нидерландскую компанию ASML, которая снабжает большинство производителей чипов в мире своими литографическими сканерами, возглавил Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), и до сих пор он мало выступал публично за пределами квартальных отчётных мероприятий. В интервью NRC он признался, что санкции США могут увеличить отставание Китая в полупроводниковой промышленности на 10–15 лет.

Источник изображения: ASML

«Запрещая экспорт EUV в Китай, можно добиться отставания на десять, пятнадцать лет от Запада. Это действительно имеет свой эффект», — признался глава ASML. Американские политики настаивают на том, чтобы эта компания прекратила обслуживать своё оборудование, эксплуатируемое на территории КНР. Правительство Нидерландов свою позицию по этому вопросу ещё не сформировало, но руководство ASML считает, что лучше сохранить контроль за своим китайским оборудованием. Если китайские компании начнут обслуживать его самостоятельно, по словам Фуке, это грозит утечкой коммерческих секретов ASML. Глава компании верит, что будущий президент США Дональд Трамп (Donald Trump) проникнется этой логикой и поддержит точку зрения производителя.

Говоря о развитии полупроводниковой отрасли в целом, Фуке считает, что для технического прогресса в данной сфере хорошо, когда на рынке присутствуют несколько крупных игроков. «Я не сомневаюсь, что Samsung восстановится. И с точки зрения конкуренции было бы здорово вновь увидеть благополучие Intel, но если делать много ошибок, то наладить бизнес будет очень сложно», — прокомментировал неудачи данных производителей чипов глава ASML. Он добавил, что для США стратегически важно восстановление бизнеса Intel, поскольку это единственный способ для страны сохранить собственное производство передовых чипов.

На вопрос о склонности американских властей к недооценке масштабов проблем в полупроводниковой отрасли Фуке ответил, что подобное отношение свойственно всем. Чтобы успешно запустить предприятие по выпуску чипов, одних только денег будет мало. Нужно инвестировать в исследования, учиться и предпринимать попытки сделать что-то новое. Даже если не с первого раза, то со второго или третьего это начинает работать. Подобные усилия порой отнимают годы, как резюмировал глава ASML.

Молодая японская компания Rapidus рассчитывает к 2027 году наладить серийный выпуск 2-нм полупроводниковых изделий по заказу различных клиентов, уже в апреле следующего года она рассчитывает наладить выпуск опытной продукции такого класса. Для этого она приступила к монтажу литографического оборудования ASML, которое уже получает через аэропорт острова Хоккайдо.

Источник изображения: ASML

Как сообщает DigiTimes со ссылкой на японские средства массовой информации, на этой неделе Rapidus провела символическую церемонию получения первого литографического сканера ASML Twinscan NXE:3800E для работы с EUV — сверхжёстким ультрафиолетовым излучением. Такое оборудование применяется при производстве 2-нм чипов, и впервые попало на территорию Японии для использования при выпуске полупроводниковых компонентов.

Сколько всего подобных систем Rapidus получит для нужд запуска опытного производства 2-нм чипов к апрелю 2025 года, компания уточнять не хочет, но даёт понять, что одной или двух ей не хватит. Каждая система транспортируется в нескольких больших контейнерах, в сборе весит 71 тонну и имеет высоту 3,4 метра. Монтаж подобного оборудования подразумевает хорошую защиту от сейсмического воздействия, что для Японии довольно актуально. По словам представителей Rapidus, подготовка к освоению производства 2-нм чипов идёт по плану. Компания отправила на стажировку в США около 150 технических специалистов, которые набираются опыта в IBM. К моменту запуска опытного производства 2-нм чипов в апреле следующего года на предприятии будет работать от 300 до 400 сотрудников. Необходимое для запуска опытного производства 2-нм чипов оборудование ASML компания Rapidus рассчитывает получить до конца текущего года.

Правительство Нидерландов предъявило бывшему сотруднику ASML Holding NV, 43-летнему россиянину, обвинения в краже информации, составляющей коммерческую тайну производителя оборудования для производства чипов, с целью передачи российским компаниям и открытия завода по производству микросхем в России, пишет Bloomberg.

Источник изображения: ASML

В понедельник на слушаниях в суде Роттердама государственный обвинитель заявил, что россиянин нарушил санкционный закон, продавая документы ASML российским компаниям с ноября 2015 года. Информация передавалась по телефону, с помощью USB-накопителей и во время поездок в Москву. По словам обвинения, кража документов производилась с целью создания «фабрик, которые бы поставляли определённые технологии, которые невозможно иным образом приобрести в России из-за санкций».

Обвинение утверждает, что обвиняемый делился информацией, которая классифицируется как технологии двойного назначения, которые могут использоваться как в гражданских, так и в военных целях. Он находится под стражей в Нидерландах с августа текущего года.

Обвиняемый российский инженер работал в голландской фирме Mapper Lithography, объявленной ​​банкротом в 2018 году. Сотрудники обанкротившейся компании перешли в 2019 году в ASML после приобретения производителем оборудования её активов.

«Мы знаем об иске против бывшего сотрудника Mapper и ASML, — заявила представитель ASML Моник Молс (Monique Mols). — В соответствии с нашей политикой мы также сами подали отчёт. Мы не будем в дальнейшем давать комментарии во время судебного разбирательства».

В прошлом году ASML обвинила бывшего китайского сотрудника в краже технической информации с целью передачи фирмам из Китая.

Эту неделю власти США начали с расширения экспортных ограничений против Китая в сфере производства полупроводниковых изделий, которые назвали «кульминационными». Нидерландская компания ASML, которая сейчас около половины всей своей выручки получает в Китае, отказалась от пересмотра прогноза по выручке в свете появления новых санкций США.

Источник изображения: ASML

Представители правительства Нидерландов, как отмечает Reuters, одновременно заявили, что разделяют озабоченность США вопросами национальной безопасности в части экспорта оборудования, предназначенного для выпуска передовых чипов, и в настоящее время изучают обновлённые правила экспортного контроля. Министерство иностранных дел заявило: «Нидерланды разделяют озабоченность Америки по поводу бесконтрольного экспорта передового оборудования для выпуска полупроводниковой продукции». При этом каждая из стран, по словам чиновников, должна сама оценивать степень угрозы и принимать самостоятельные решения в сфере защиты национальной безопасности.

Пока прогноз ASML по выручке на 2025 год остался без изменений. Компания рассчитывает получить от 30 млрд до 35 млрд евро, из них на Китай придётся около 20 % против текущих 50 %. Другими словами, компания уже предвидела негативное влияние американских санкций на свой бизнес в Китае ранее, и пока не видит оснований для его пересмотра.

По словам представителей ASML, новые ограничения США в случае их ратификации властями Нидерландов повлияют на возможность компании поставлять в Китай свои сканеры для работы с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV), но лишь в отношении отдельных потребителей. Крупнейший в мире производитель литографических систем объявил, что «в долгосрочной перспективе сценарии изменения спроса в полупроводниковой отрасли не должны быть затронуты новыми правилами, поскольку наши сценарии основаны на мировом спросе».

Санкции США затрагивают и сферу «вычислительной литографии» — программного обеспечения, которое используется для управления лазерным лучом и оборудованием при обработке кремниевых пластин в процессе выпуска полупроводниковых чипов. Такое программное обеспечение используется в оборудовании ASML, а также японских компаний Nikon и Canon. Напомним, новый набор экспортных ограничений США не распространяется на деятельность компаний из Японии и Нидерландов в целом, но подразумевается, что власти этих стран из солидарности должны предложить собственный набор ограничений.

Чтобы к 2027 году наладить серийный выпуск 2-нм чипов для заказчиков к 2027 году, молодая японская компания должна будет освоить их опытное производство к апрелю 2025 года, и для этого она в середине декабря текущего года получит свой первый сканер ASML для работы с EUV-литографией. В дальнейшем компания обзаведётся несколькими такими системами, а всего на предприятии будут использоваться более 200 единиц оборудования.

Источник изображения: Intel

Как отмечает Nikkei, в аэропорт на острове Хоккайдо первый EUV-сканер ASML для нужд Rapidus прибудет в середине декабря. Ради ускорения доставки его привезут несколькими грузовыми самолётами в разобранном виде. Специалисты ASML, откомандированные в Японию, затем соберут и настроят систему, чтобы она к апрелю следующего года позволила начать опытный выпуск 2-нм продукции. По соседству ASML откроет свой сервисный центр, поэтому проблем с дальнейшим обслуживанием такого оборудования у Rapidus возникать не должно.

По состоянию на октябрь этого года, предприятие Rapidus было построено на 63 %, в текущем месяце в строительстве были задействованы примерно 4400 рабочих. В случае успеха данного проекта Rapidus намерена построить на Хоккайдо ещё одно предприятие, которое до конца десятилетия сможет наладить выпуск 1,4-нм чипов. В перспективе значится и третье, но в данном случае его строительство будет осуществляться уже в следующем десятилетии.

Руководство компании сейчас ведёт переговоры более чем с 40 потенциальными клиентами, которые могли бы заказывать свои чипы в производство Rapidus, но имена реальных заказчиков компания начнёт раскрывать не ранее следующего года. Примечательно, что на этой неделе основатель Nvidia Дженсен Хуанг (Jensen Huang) намекнул на свою заинтересованность в сотрудничестве с Rapidus, указав на важность диверсификации цепочек поставок своей компании в условиях усугубляющихся противоречий между США и Китаем.

Квартальный отчёт ASML наделал немало шума, поскольку этот ведущий поставщик литографических сканеров настраивается на снижение своей выручки в Китае из-за влияния санкций США. Осторожные настроения в оценке перспектив следующего года, тем не менее, не заставили ASML снизить прогноз по выручке на 2030 год, о чём свидетельствуют материалы, подготовленные ею к недавнему мероприятию для инвесторов.

Источник изображения: ASML

По данным Bloomberg, руководство ASML по-прежнему рассчитывает выручить по итогам 2030 года от 44 млрд до 60 млрд евро, что на фоне прошлогодних 27,6 млрд евро однозначно указывает на тенденцию к росту выручки компании в период с 2026 по 2030 годы. Впрочем, даже в следующем году выручка ASML продолжит расти, как на квартальном мероприятии признались представители компании, хотя темпы роста и должны снизиться по сравнению с предыдущими годами текущего десятилетия.

Норма прибыли ASML в 2030 году должна расположиться в диапазоне от 56 до 60 %. Это выше тех 51,3 %, что были получены по итогам прошлого года, но одновременно компания обещает в ближайшие годы не только активно инвестировать в своё развитие, но и возвращать капитал инвесторам через выплату дивидендов и выкуп акций. В прошлом месяце руководство ASML заявило, что рассчитывает на медленное восстановление спроса на рынке чипов в целом в ближайшие месяцы с сохранением тенденции на протяжении основной части 2025 года. По оценке генерального директора Кристофа Фуке (Christophe Fouquet), следующие два года будут периодами роста не только для бизнеса ASML, но и для всей полупроводниковой отрасли.

Нидерландская компания ASML является ведущим мировым производителем литографических сканеров, поэтому ритмичность её работы важна для всей полупроводниковой отрасли. В пятницу компания столкнулась с масштабным сбоем в работе своей информационной инфраструктуры по всему миру, который удалось устранить в тот же день, последствия инцидента пока оцениваются.

Источник изображения: ASML

Представители ASML пояснили Bloomberg, что проблема в функционировании корпоративной IT-инфраструктуры возникла утром в пятницу, но уже после полудня была устранена. Некоторые из сотрудников компании, тем не менее, были вынуждены работать из дома. Местные СМИ сообщили, что в результате сбоя пострадала деятельность участков по сборке оборудования и офисных подразделений, включая взаимодействие с поставщиками. Причины возникшего сбоя сейчас устанавливаются.

Как пояснили представители ASML в интервью Reuters, сейчас работоспособность всех систем полностью восстановлена. Отметим, что минувший квартальный отчёт компании был опубликован на несколько часов раньше срока в результате ошибки, и его содержание оказало существенное негативное влияние на фондовый рынок. Являются ли эти проблемы звеньями одной цепи, пока понять сложно.