Опрос
|
реклама
Быстрый переход
«Это лишь вопрос времени»: Дженсен Хуанг предсказал, что Китай освоит передовую литографию к 2030 году
17.09.2026 [13:04],
Алексей Разин
С 2019 года поставки литографического оборудования ASML со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) в Китай запрещены, и по официальным каналам ни одной такой системы в страну поставлено не было. Основатель Nvidia Дженсен Хуанг (Jensen Huang) убеждён, что китайцы сами создадут подходящее оборудование уже к 2030 году и смогут наладить с его помощью производство чипов по передовым технологиям. 
Источник изображения: Nvidia «Они доберутся туда к 2030 году. Это буквально уже за углом. Нужно думать, что Китай весьма хорош в сфере массового производства. Это лишь вопрос времени, так что два или три года — это буквально щелчок, это ничтожно мало. Пока они обеспокоены этим, они уже находятся в нужном месте», — охарактеризовал возможности КНР в сфере освоения передовой литографии генеральный директор Nvidia в ходе подкаста All-In, на который ссылается Tom’s Hardware и ряд блогеров. Дженсен Хуанг в равной мере высоко оценивает потенциал китайских разработчиков ИИ-моделей, но в сфере полупроводникового производства он может переоценивать своих соплеменников. Как поясняет Tom’s Hardware, китайский поставщик литографических систем SMEE сейчас способен предложить только сканеры, оснащаемые источниками лазерного излучения с длиной волны 193 нм для «сухой» литографии, которые можно применять лишь для производства 90-нм чипов. Хотя считается, что SMEE удалось разработать сканер для погружной литографии, позволяющий выпускать 28-нм чипы, публичных свидетельств способности компании поставлять такое оборудование в серийных количествах пока нет. Даже если такое оборудование и доберётся до китайских производителей чипов в текущем году, массовое изготовление компонентов с его помощью не станет возможным ранее 2028 или 2029 года. В общем, даже в сфере погружной литографии с источниками глубокого ультрафиолетового излучения (DUV) паритета с современными системами ASML китайские аналоги к 2030 году достичь вряд ли успеют. В сфере передовой EUV-литографии отставание китайских поставщиков оборудования ещё больше, поскольку даже работоспособных прототипов профильных сканеров у них ещё нет. Впрочем, источники лазерного излучения с длиной волны 13,5 нм китайские специалисты уже разработать смогли, если верить слухам. Однако, с учётом отсутствия перспектив получения зарубежного оборудования нужного класса, китайским производителям остаётся полагаться лишь на успехи в импортозамещении, и в этом смысле сокращение отставания от европейцев и американцев действительно является лишь делом времени. Все EUV-сканеры ASML расписаны до конца 2027 года — компания начала строительство нового завода
14.09.2026 [14:15],
Алексей Разин
Контролируя примерно 94 % рынка литографических сканеров, которые необходимы для выпуска полупроводниковых компонентов, компания ASML вынуждена признать, что в условиях бума ИИ не справляется со спросом. Компания уже распределила всю квоту на производство EUV-систем стоимостью по $200 млн каждая до конца 2027 года, и недавно заложила фундамент своего нового предприятия в Нидерландах, которое позволит расширить производственные мощности. 
Источник изображения: ASML По словам финансового директора ASML Роджера Дассена (Roger Dassen), крупные заказчики теперь в беседе с компанией всё чаще интересуются возможностью предоставить им не только больше оборудования для производства чипов, но и сделать это быстрее. В комментариях агентству Reuters Дассен признался: «Я не думаю, что мы находимся в конце (ИИ-бума), откровенно говоря». Все крупные клиенты ASML уже обозначили свои планы по использованию оборудования следующего поколения, которое сочетает сверхжёсткое ультрафиолетовое излучение (EUV) с высоким значением числовой апертуры (High-NA), и может стоить более $400 млн за одну установку. Компания TSMC призналась, что начнёт применять его с 2030 года, а Intel на прошлой неделе сообщила, что уже обработала с помощью подобного оборудования 1 млн кремниевых пластин типоразмера 300 мм. С помощью оборудования такого класса можно создавать на 40 % меньшие полупроводниковые структуры, чем с использованием классического EUV-сканера. В сегменте EUV-оборудования у ASML до сих пор нет конкурентов, поскольку попытки японских и китайских производителей создать подобные системы до стадии их серийного производства не дошли. Производители памяти в лице Samsung Electronics и SK hynix выразили готовность приступить к использованию оборудования поколения High-NA с 2028 года, а Micron Technology хоть и заказала образцы таких литографических систем, со сроками их внедрения в массовом производстве так и не определилась. По словам финансового директора ASML, производители памяти готовы начать применение High-NA раньше, поскольку им приходится выпускать более компактные чипы по сравнению с производителями логических компонентов. Практически все из них, по мнению Дассена, внедряют такое оборудование в массовом производстве раньше, чем планировали изначально. Поставщик оптики для ASML согласен, что китайское EUV-оборудование для производства чипов будет готово не ранее чем через 15 лет
03.09.2026 [07:26],
Алексей Разин
Усилия китайских производителей оборудования для выпуска полупроводниковых компонентов по импортозамещению привлекают внимание западных экспертов, и те регулярно дают свою оценку величине отставания китайских разработчиков. Немецкий производитель оптических компонентов Zeiss Group говорит о 15-летнем периоде, который может потребоваться китайским разработчикам для освоения EUV-литографии. 
Источник изображения: ASML Напомним, под EUV подразумевается литографическое оборудование со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением, позволяющее выпускать 7-нм и более совершенные чипы. Готовое оборудование западного происхождения такого класса в Китай не поставляется из-за экспортных ограничений США и Нидерландов, поэтому для преодоления технологического барьера китайские производители должны будут разработать собственное оборудование. Директор полупроводникового бизнеса Zeiss Group Франк Ромунд (Frank Rohmund) в интервью телеканалу Bloomberg заявил, что считает разумным предположение о пятнадцатилетнем сроке, который потребуется китайским разработчикам для создания EUV-оборудования. При этом он добавил, что точную оценку уровню их прогресса дать довольно сложно. Напомним, в 15 лет отставание китайских разработчиков EUV-оборудования от западных конкурентов на днях оценили аналитики UBS. Пока нидерландская ASML остаётся единственным в мире производителем литографических сканеров, способных работать со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV), а немецкая Zeiss Group снабжает её оптическими компонентами. Оборудование ASML предыдущего поколения (DUV) в Китай поставляется почти без ограничений, если не считать самых продвинутых моделей, на поставку которых требуется запрашивать экспортные лицензии в США. По словам Ромунда, дальнейшее ужесточение запретов на поставку оборудования класса DUV в Китай не только навредит профильному бизнесу европейских производителей, но и подстегнёт активность китайских в сфере импортозамещения. Китайская промышленность над созданием такого оборудования работает десятилетиями, как утверждает представитель Zeiss Group: «Это вообще не является сюрпризом, и сейчас мы должны убедиться, какими возможностями обладают эти инструменты. Мы всё равно ещё сильно их опережаем». Оптические компоненты Zeiss применяются для производства 80 % чипов, выпускаемых в мире. Китай отстаёт от ASML на 15 лет — и страна вряд ли освоит EUV-литографию раньше 2040 года
02.09.2026 [13:33],
Алексей Разин
С 2019 года нидерландская ASML лишена права поставлять передовое EUV-оборудование для производства чипов в Китай, и она фактически не поставила туда ни одного литографического сканера такого класса, которые позволяют с разумными затратами выпускать 7-нм и более совершенные чипы. Аналитики UBS убеждены, что китайские производители не смогут самостоятельно освоить EUV-технологии до конца следующего десятилетия. 
Источник изображения: ASML Сейчас, по словам экспертов UBS, китайские производители оборудования для производства чипов находятся на том этапе развития, который был присущ ASML в далёком уже 2004 году. При этом активность в сфере разработок и патентного права, проявляемая китайскими производителями, позволяет UBS сделать вывод, что они находятся на том этапе подготовки к массовому производству EUV-оборудования, который ASML отделял от нужного рубежа на 15 лет. Даже если китайским компаниям удастся наладить выпуск EUV-оборудования в отдалённой перспективе, вряд ли оно будет востребовано за пределами самого Китая, как предполагают представители UBS. Этому будут препятствовать как технологическое отставание от ASML, так и возможные регуляторные барьеры. При этом китайским компаниям вполне по плечу освоить массовый выпуск оборудования для погружной литографии с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV immersion lithography) в ближайшие два или пять лет, как считают в UBS. В позапрошлом месяце агентство Reuters сообщило, что одна из китайских компаний уже приступила к производству подобных литографических систем. В этом году их объёмы выпуска достигнут пяти штук, а по итогам следующего приблизятся к двадцати. Прототип EUV-системы китайские разработчики якобы собрали уже в начале прошлого года, по версии Reuters. Правда, с её помощью пока не удалось изготовить ни одного чипа, поскольку установка в её нынешнем виде позволяет только формировать лазерное излучение нужной мощности и с подходящей длиной волны. Клиенты ASML уже используют 10 сканеров High-NA EUV, которые позволяют делать чипы «тоньше» 2 нм
01.09.2026 [16:32],
Алексей Разин
Являясь крупнейшим контрактным производителем чипов в мире, тайваньская компания TSMC довольно консервативно настроена в отношении скорого внедрения оборудования класса High-NA EUV, которое стоит по $400 млн за единицу. В любом случае, уже четыре клиента выпускающей соответствующие сканеры компании ASML эксплуатируют на своих предприятиях и в лабораториях 10 таких литографических систем. 
Источник изображения: ASML Об этом старший вице-президент ASML Грит Стормс (Greet Storms), заведующая направлением данных литографических машин, заявила на конференции Semicon Taiwan 2026, которая на этой неделе проходит на Тайване. По её словам, помимо десяти уже эксплуатируемых литографических EUV-сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA), в поставке и процессе монтажа находятся ещё три. Пионером внедрения подобного оборудования при производстве процессоров можно считать Intel, поскольку она уже использует его для выполнения части технологических операций при выпуске чипов семейства Panther Lake по технологии Intel 18A. Samsung и SK hynix интересуются возможностью использования такого оборудования при выпуске памяти, поэтому располагают как минимум по одному образцу литографических систем ASML TwinScan EXE:5200B. Как минимум пять поколений литографических норм, применяемых при производстве микросхем памяти DRAM, могут быть внедрены с использованием такого оборудования. Оно упрощает оснастку и сокращает сам производственный цикл, что в условиях высокого спроса на память важно для указанных южнокорейских компаний. По словам представительницы ASML, соответствующее оборудование этой марки уже приняло участие в обработке 1,35 млн кремниевых пластин. Система TwinScan EXE:5200B, например, способна обрабатывать по 135 кремниевых пластин в час, этого уже достаточно для её применения в массовом производстве чипов. К концу десятилетия показатель производительности удастся увеличить до 180 или даже 210 кремниевых пластин в час, но для этого придётся переходить на более совершенные модели оборудования, которые ASML к тому времени предложит клиентам. В этом году TSMC всё же купила несколько литографических сканеров ASML соответствующего класса, хотя пока и планирует использовать их только для лабораторных экспериментов. С учётом масштабов бизнеса этой компании, внедрение такого оборудования в массовом производстве потребует колоссальных затрат, и пока она не готова на них решиться. Китай разработал ключевой компонент для суверенной EUV-литографии — помог бывший инженер ASML
11.08.2026 [13:11],
Алексей Разин
Литографические сканеры необходимы для производства полупроводниковых компонентов, но их поставки сосредоточены в руках ограниченной группы западных компаний. Китайская полупроводниковая промышленность в попытках догнать Запад вынуждена полагаться на собственные силы в этой сфере, и недавно местным исследователям удалось создать источник лазерного излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). 
Источник изображения: ASML По идее, данный источник позволит китайским компаниям в перспективе создавать литографические сканеры, способные участвовать в процессе производства чипов с технологическими нормами менее 7 нм. До сих пор подобным оборудованием располагали только американские, южнокорейские и японские производители чипов, а поставки его в Китай были запрещены ещё в 2019 году по инициативе властей Нидерландов, где расположена штаб-квартира ведущего поставщика ASML, а позже инициативу поддержали и американские власти. Ресурс Newsbit теперь сообщает, что создать перспективный источник лазерного излучения китайским исследователям помог выходец из той самой ASML по имени Линь Нань (Lin Nan). До этого на уровне экспериментов китайским разработчикам удавалось создать источник лазерного излучения класса EUV с показателем эффективности не более 3,42 %. Это подразумевает, что не более 3,42 % энергии этого источника преобразуется в полезное излучение, пригодное для работы с кремниевыми пластинами. Для экспериментальной установки это вполне приемлемо, но в условиях массового производства такой источник излучения применяться не сможет. Более того, мощность этого источника лежит в пределах от 100 до 150 Вт, по некоторым оценкам, тогда как современные серийные EUV-системы выдают около 600 Вт. ASML даже собирается поднять мощность своих источников излучения до 1000 Вт. Чем выше мощность, тем большее количество чипов можно выпускать в единицу времени. По информации источника, Линь Нань как раз работал в ASML в Нидерландах, специализируясь на разработке таких лазеров. Одного только подходящего источника излучения, однако, не хватит для создания полноценной EUV-системы, пригодной для массового производства чипов. Нужны сложные системы зеркал и прецизионные приводы, не говоря уже о сопутствующем программном обеспечении. По данным Reuters, прототипы EUV-сканеров китайской разработки пока не обладают достаточно качественной оптикой. Работоспособный EUV-сканер китайцам удастся создать не ранее 2028 или даже 2030 года, как считают некоторые источники. Китайское оборудование класса DUV для производства чипов на несколько поколений отстаёт от нидерландского компании ASML
03.08.2026 [05:02],
Алексей Разин
На прошлой неделе появились слухи о намерениях китайских производителей начать выпуск оборудования для иммерсионной литографии с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV), которое позволяет создавать достаточно продвинутые чипы. По оценкам экспертов, оно всё равно на несколько поколений отстаёт от лучших образцов нидерландской ASML. 
Источник изображения: ASML В понедельник издание The Information сообщило, что некий китайский производитель с государственной поддержкой наладил массовый выпуск такого оборудования. На первых порах объёмы производства будут ограничены: в текущем году выйдут пять экземпляров литографических систем, а в следующем будут выпущены примерно двадцать. Считается, что покупателями такого оборудования станут ведущие китайские производители чипов, включая SMIC, HuaHong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Сообщалось, что подобное импортозамещение сможет пошатнуть позиции нидерландской ASML на китайском рынке, хотя китайское оборудование класса DUV всё равно уступает западным образцам как по производительности, так и по надёжности. Ко вторнику агентство Reuters раскрыло имя упомянутого китайского производителя — Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Компания была основана в августе 2023 года с уставным капиталом около $1 млн, её соучредителями являются две структуры, связанные с муниципальными властями Шанхая. Штат этого производителя был усилен выходцами из Shanghai Yuliangsheng, которая начала тестировать прототип DUV-сканера в прошлом году, а также более известной в этой сфере Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). В течение трёх первых торговых сессий на прошлой неделе акции нидерландской ASML потеряли в цене более 13 %, Infineon Technologies подешевела на 15,5 %, и только к четвергу возник отскок после заявлений аналитиков JP Morgan об избыточности реакции рынка на эти слухи. Китайские государственные СМИ не стали подтверждать факт начала выпуска DUV-оборудования в стране, но намекнули, что «западная блокада» потеряла свою эффективность. Они выразили уверенность, что в один прекрасный день соответствующие технологии, которые западные производители скрывали от китайской промышленности, станут основой её повседневной работы. В сентябре прошлого года стало известно о тестировании китайской компанией SMIC оборудования Yuliangsheng DUV-системы для иммерсионной литографии, которая должна позволить наладить выпуск 28-нм чипов с 2027 года. В октябре появились публикации о попытках китайских клиентов ASML обратиться за помощью к этой компании в сборке одной из литографических систем этой марки, которую они изучали по частям с целью возможного копирования. Китайские источники утверждают, что Yuliangsheng, SMEE и Shanghai Aishengna Electronic Technology фактически используют плоды труда одной и той же группы инженеров. В прошлом году SMEE перевела разработку DUV-систем под крыло Yuliangsheng, чтобы сосредоточиться на создании более совершенного оборудования класса EUV. Считается, что китайская система SSX800, над созданием которой работают местные специалисты, примерно сопоставима по характеристикам с ASML Twinscan NXT:1950i, которую нидерландский производитель вывел на рынок ещё в 2008 году с целью выпуска 28-нм чипов. Родственная SSA800 на 70 % обеспечивалась компонентами китайского производства. Важные элементы этой системы типа источников лазерного излучения, зеркал, оптики и управляющего ПО всё равно приходится импортировать. По оценкам западных экспертов, китайское оборудование для выпуска 28-нм чипов всё равно на четыре поколения отстаёт от зарубежного, а потому обладает гораздо более низкой производительностью. Система SSA800 способна обрабатывать 150 кремниевых пластин в час, но уровень выхода годной продукции при этом далёк от целевых 90–95 %. В любом случае, для массового внедрения в производстве чипов данные китайские системы пока «сыроваты» и малочисленны. Zeiss расширила производство оптики в Германии, чтобы удовлетворить аппетиты ASML
26.07.2026 [22:37],
Анжелла Марина
Немецкая компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) ввела в эксплуатацию первое новое производственное здание на площадке в немецком Оберкохене, строительство которой началось в 2022 году. Расширение предприятия важно для ASML, поскольку именно мощности Zeiss по выпуску оптики ограничивают объёмы выпуска EUV-сканеров. 
Источник изображения: ASML В годовом отчёте ASML за 2025 год специализированное подразделение Carl Zeiss SMT названо эксклюзивным поставщиком линз, зеркал, осветительных систем, коллекторов и других критически важных оптических компонентов для EUV-сканеров. Компания также предупреждает, что длительная остановка производства у Zeiss фактически сделает невозможным выпуск её литографических систем. На этом фоне закупки у Zeiss SMT и её дочерних предприятий продолжают расти — с 3,33 млрд евро в 2023 году до 3,95 млрд евро в 2024 и 4,41 млрд евро в 2025 году, сообщает Tom's Hardware. Необходимость расширения производства объясняется и планами самой ASML, финансовый директор которой — Роджер Дассен (Roger Dassen) — ранее сообщал, что портфель заказов на Low-NA EUV-системы с поставкой в 2027 году уже практически заполнен. При этом производитель намерен увеличить выпуск примерно на 30 % по сравнению с ожидаемыми 65 установками в текущем году, одновременно сократив цикл сборки каждого сканера примерно с 22 до 15–16 недель. Также рассматривается возможность расширения производственных мощностей и в 2028 году. Отмечается, что расширение площадей Zeiss не означает мгновенного роста выпуска оптики, так как производство компонентов для High-NA EUV остаётся сложным процессом: одна проекционная система состоит более чем из 40 тысяч деталей и весит около 12 тонн, а система освещения включает ещё около 25 тысяч компонентов. Отдельные зеркала изготавливаются в течение нескольких месяцев, после чего проходят проверку в специальной вакуумной камере размером 5 × 10 метров, состоящей более чем из 100 тысяч деталей при весе свыше 150 тонн. Стратегическое значение Zeiss подтверждается и масштабом финансовой поддержки со стороны ASML. По итогам 2025 года объём выданных Zeiss SMT займов достиг 1,91 млрд евро, а авансовые платежи за будущие поставки оптических колонн составили ещё 1,19 млрд евро. Одновременно Zeiss SMT продолжает расширять собственную производственную инфраструктуру и по итогам финансового года, завершившегося 30 сентября 2025 года, выручка подразделения выросла на 23 % (до 5,055 млрд евро). Помимо развития площадки в Оберкохене, компания строит новый завод в Вецларе, расширяет чистые помещения в Росдорфе и открыла инновационный центр в Южной Корее. На фоне ИИ-бума ASML выдаст всем работникам премии в виде акций на сумму 20 тысяч евро
18.07.2026 [05:00],
Анжелла Марина
Компания ASML объявила о единовременном вознаграждении сотрудников по всему миру в размере 20 тысяч евро в виде акций. Решение принято на фоне продолжающегося роста спроса на оборудование для производства полупроводников, обусловленного развитием инфраструктуры искусственного интеллекта. 
Источник изображения: asml.com Как сообщает Bloomberg, акции будут предоставлены сотрудникам 1 января, а право на их получение окончательно закрепится в начале 2030 года при условии, что работник останется в компании на протяжении всего этого периода. Программа распространяется на персонал по всему миру, численность которого составляет около 45 тысяч человек. Подобные меры ранее приняли и другие представители полупроводниковой отрасли. В частности, бонусные выплаты своим сотрудникам уже предложили Samsung Electronics и SK hynix, тогда как TSMC в мае объявила об увеличении выплат по программе распределения прибыли более чем на 30 % в среднем по итогам текущего года. Таким образом, компании, получающие значительную выгоду от инвестиций в ИИ-инфраструктуру, перераспределяют часть доходов в пользу сотрудников. Ранее на этой неделе ASML во второй раз с начала года повысила прогноз годовых продаж, одновременно объявив о планах по расширению производственных мощностей для удовлетворения растущего спроса. Напомним, эта нидерландская компания является мировым монополистом и крупнейшим производителем современных литографических систем, необходимых при выпуске передовых полупроводников. Без оборудования ASML невозможен выпуск современных процессоров для техники Apple, видеокарт Nvidia, а также чипов для дата-центров и систем искусственного интеллекта. ASML готовится поднять цены на оборудование для выпуска чипов, чем сильно разозлила TSMC
16.07.2026 [04:48],
Алексей Разин
Рост спроса в условиях ограниченности предложения всегда повышает цены, об этом можно судить хотя бы по ситуации на рынке памяти. Во многих звеньях цепочки производства чипов повышение цен происходит регулярно, и очередной этап изменений должен коснуться стоимости оборудования ASML для производства чипов. TSMC, которая его покупает, выразила крайнее недовольство такими намерениями поставщика. 
Источник изображения: ASML Об этом сообщает Bloomberg со ссылкой на The Information. Представители обеих компаний не стали комментировать данные слухи, хотя у TSMC сохраняются шансы сделать это на грядущей квартальной отчётной конференции. ASML, которая накануне уже отчиталась о результатах второго квартала, выразила готовность увеличить объёмы выпуска оборудования для производства чипов на 30 % в следующем году, отметила высокий спрос на эту продукцию и наличие заказов вплоть до конца 2028 года. Все эти условия наверняка складываются таким образом, что позволяют производителю задуматься о повышении цен. ASML вчера также второй раз с начала года пересмотрела свой годовой прогноз по выручке, подняв его довольно заметно до диапазона от 43 до 45 млрд. Поскольку компания остаётся практически монополистом в своём сегменте рынка, у клиентов не будет особого выбора, кроме как смириться с ростом цен. С учётом высокой стоимости отдельного вида литографических систем, которая может превышать $400 млн за штуку, даже небольшой рост цен может оказаться чувствительным для клиентов ASML. Впрочем, нюанс заключается в том, что стоимость наиболее доступного оборудования для DUV-литографии, которое пока могут закупать китайские клиенты компании, вырастет на 10 %, а потому пострадают не только производители передовых чипов. ASML вновь повысила прогноз — спрос на оборудование для выпуска чипов продолжает бить рекорды
15.07.2026 [11:44],
Алексей Разин
Квартальный отчёт нидерландского холдинга ASML является своего рода барометром, по которому можно судить о состоянии дел в полупроводниковой отрасли, поскольку оборудованием этой марки вынуждены пользоваться почти все производители чипов в мире. Судя по отчётности за второй квартал и улучшенному прогнозу по выручке на год, у ASML всё обстоит просто прекрасно. 
Источник изображения: ASML Уже второй раз с начала года, как поясняет CNBC, компания ASML поднимает прогноз по годовой выручке. Если раньше эта выручка должна была по итогам текущего года уложиться в диапазон от 36 до 40 млрд евро, то теперь компания поднимает планку до диапазона от 43 до 45 млрд евро, что можно считать серьёзным улучшением. Норма прибыли компании по итогам всего года должна составить от 54 до 56 %, ранее в прогноз был заложен диапазон от 51 до 53 %. После оглашения данной информации акции ASML на торгах в Европе в пике росли на 7,9 %, лишь позже ограничив итоговый прирост 5,5 %. Всего с начала текущего года акции ASML выросли в цене на 115 %. По итогам прошлого квартала ASML выручила 9,3 млрд евро против 8,8 млрд, которые ожидались рынком. Чистая прибыль тоже оказалась выше ожиданий: 2,9 млрд евро против 2,6 млрд евро. По словам генерального директора Кристофа Фуке (Christophe Fouquet), в первом полугодии количество заказов росло весьма динамично. Объёмы выпуска EUV-систем придётся по следующего года увеличить на 30 %, и в такой же пропорции нарастить выпуск более доступных DUV-сканеров для работы с иммерсионной литографией. Компания уже обеспечена заказами до 2028 года, многие заказчики заметно ускорили график закупок, начиная с текущего года. Передовых систем для работы с EUV-литографией в этом году ASML собирается выпустить 65 штук, что превышает изначальную программу. Не исключено, что и в 2028 году придётся нарастить объёмы производства литографических сканеров на 30 %. Подобное увеличение объёмов отгрузки не всегда требует пропорционального расширения производственных мощностей, как поясняют эксперты. Во-первых, можно оптимизировать использование существующих площадей. Во-вторых, ASML всё чаще прибегает к тактике опережающих поставок, когда частично собранное оборудование отправляется заказчику и приводится в работоспособное состояние уже на его территории. ASML ожидает, что выручка на китайском рынке по итогам текущего года не превысит 20 % от совокупной. С точки зрения финансового директора компании Роджера Дассена (Roger Dassen), китайский рынок своим поведением повторяет глобальный. В первом квартале доля китайского рынка в структуре выручки ASML последовательно сократилась с 19 до 14 %. От передовых систем класса High-NA EUV легально поставляемые сейчас в Китай решения ASML отстают на восемь поколений. Panther Lake теперь выпускают по-разному: Intel начала применять High-NA EUV для части процессоров
15.07.2026 [10:06],
Алексей Разин
Эксперименты с передовым оборудованием ASML, обладающим высокой числовой апертурой (High-NA), корпорация Intel ведёт с 2024 года, но до сих пор она не была уверена, когда именно его нужно начинать применять в условиях массового производства. Поставщик этого оборудования заявил, что технически это уже происходит при выпуске некоторой части мобильных процессоров Panther Lake. 
Источник изображения: ASML Напомним, последние производятся по новейшей технологии Intel 18A, но сама по себе она не требует использования EUV-сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA). Компания Intel, как считается, действительно начинала экспериментировать с таким литографическим оборудованием ещё в рамках технологии Intel 18A, но в условиях массового производства собиралась применять его уже после освоения более «тонких» техпроцессов. Как отмечает Reuters со ссылкой на комментарии представителей ASML, в действительности Intel уже пробует производить некоторую часть мобильных процессоров Panther Lake с использованием указанного оборудования. Один такой сканер стоит более $400 млн, поэтому масштабы его применения сложно назвать серьёзными, но для Intel важно понять, какие нюансы возникают при массовом производстве чипов на новом оборудовании. Как обычно в таких случаях, новая технология применяется для обработки только избранных слоёв чипа. Цель подобного эксперимента — получить практический опыт, который поможет Intel и ASML оптимизировать дальнейшее использование нового типа оборудования в массовом производстве чипов. Расширить применение High-NA EUV компания Intel должна на этапе освоения техпроцесса 14A, которое намечено на 2027 год. Конкурирующая TSMC данной темой тоже интересуется, но пока считает профильное оборудование слишком дорогим для внедрения на производстве. Планы южнокорейских производителей памяти по расширению мощностей вызвали рост курса акций поставщиков оборудования
01.07.2026 [06:58],
Алексей Разин
Пусть и рассчитанные на долгосрочную перспективу, планы Samsung Electronics и SK hynix по расширению мощностей в сфере производства микросхем памяти упоминали серьёзные суммы свыше половины триллиона долларов США. Этого оказалось достаточно, чтобы придать импульс к росту курсу акций поставщиков специализированного оборудования для производства чипов. 
Источник изображения: ASML Отраслевые аналитики подхватили эту идею, предположив, что к 2028 году ёмкость рынка оборудования для производства чипов вырастет до $250 млрд в год. Акции нидерландской компании ASML, поставляющей литографические сканеры, выросли в цене на 6,8 % до нового рекордного уровня. К середине торговой сессии в Нью-Йорке на 5 % поднялись котировки акций американских Applied Materials и KLA Corp. В структуре индекса SOX именно акции этих трёх эмитентов на двухдневном интервале продемонстрировали самый активный рост курса. С одной стороны, индекс SOX в первом полугодии прибавил 100 % на оптимизме в отношении сохранения бума ИИ. С другой стороны, на прошлой неделе он опустился на рекордные 8 %. В этом месяце за второй квартал будут отчитываться ASML и TSMC, которые довольно чётко иллюстрируют наблюдаемые в полупроводниковой отрасли тенденции. Если первая является крупнейшим поставщиком литографических сканеров, то вторая остаётся крупнейшим контрактным производителем полупроводниковых компонентов. Они отчитаются во второй половине текущего месяца, и опубликованная ими квартальная статистика определит вектор движения фондового рынка на последующие дни. Нидерланды вступились за ASML и попросили США не запрещать поставки литографов в Китай
25.06.2026 [14:44],
Владимир Фетисов
На этой неделе министр торговли Нидерландов Сьерд Сьердсма (Sjoerd Sjoerdsma) отправился в Вашингтон, чтобы встретиться с министром торговли США Говардом Латником (Howard Lutnick) и членами Конгресса. Он намерен выступить против американского законопроекта MATCH Act, который запретит западным компаниям поставлять оборудование для производства полупроводниковой продукции в Китай. 
Источник изображения: ASML Упомянутый законопроект особенно сильно ударит по нидерландской ASML, которая является самой дорогой компанией Европы и единственным в мире производителем литографических машин, используемых для производства передовых ИИ-чипов. «Это исключительный случай, поэтому я приезжаю сюда, чтобы в общих чертах изложить наши опасения Конгрессу. Ставки для Нидерландов могут быть очень высоки», — рассказал Сьердсма в интервью журналистам Bloomberg. На долю Китая приходится 19 % чистых продаж оборудования ASML. Законопроект MATCH Act предполагает дальнейшее расширение действующих ограничений: он распространит запрет на продажу установок для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) в дополнение к уже действующему запрету на поставки передовых установок для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). В мае этого года гендиректор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) сообщил, что в настоящее время Китай может закупать лишь оборудование для литографии в глубоком ультрафиолете предыдущего поколения. Речь идёт об установках для производства чипов, которые поставляются на рынок уже около десяти лет. Теперь же законопроект MATCH Act может запретить поставки в Китай и этого оборудования. Данный законопроект был внесён на рассмотрение в апреле, и пока голосование по его принятию в Палате представителей и Сенате США не проводилось. Власти США подозревают, что передовое EUV-оборудование ASML для производства чипов могло попасть в Китай
19.06.2026 [07:33],
Алексей Разин
Нидерландская компания ASML поставляет свои литографические сканеры большинству производителей чипов, но с 2019 года она блокирует поставки передовых EUV-систем в Китай. Технически, ни один такой сканер не должен был попасть в руки китайских специалистов, но у властей США вдруг появились основания утверждать, что это не так. 
Источник изображений: ASML Как отмечает Bloomberg, руководство Министерства торговли США в общении с представителями ASML настаивает, что один экземпляр EUV-сканера этой марки попал в Китай в обход американских экспортных ограничений. ASML хоть и является европейской компанией, вынуждена подчиняться правилам экспортного контроля США, поскольку её оборудование использует технологии и компоненты американского происхождения. ASML в своё оправдание, помимо отрицания факта поставки EUV-систем в Китай, указывает на ограниченность объёмов выпуска такого оборудования и необходимость постоянно находиться в контакте с её штатными специалистами в процессе эксплуатации. Поставка такого оборудования в Китай не могла пройти незамеченной, а его использование без официального одобрения ASML было бы затруднительным. Какими доказательствами наличия EUV-сканера западного производства в Китае располагает американское правительство, не уточняется. Источники Bloomberg на условиях анонимности согласились заявить, что американские чиновники имеют основания подозревать ASML в сокрытии информации о поставке EUV-сканера в Китай. Видел ли кто-либо доказательства подобной поставки, источники уточнять отказались. Потенциальные претензии властей США к ASML грозят обострением политических противоречий между президентом Дональдом Трампом (Donald Trump) и Евросоюзом. В свою очередь, в официальных заявлениях ASML продолжает настаивать на своём неукоснительном соблюдении всех требований американского законодательства в части экспортного контроля. Компании уже удалось опровергнуть необоснованные подозрения в поставках санкционного оборудования в Китай в нескольких предыдущих случаях. Представители нидерландского МИД заверили Bloomberg, что страна остаётся уникальным игроком на мировом рынке полупроводниковой продукции, а потому относится к своей миссии со всей ответственностью в части международных обязательств. Власти Нидерландов со всей строгостью относятся к соблюдению этих правил и вмешиваются во внешнеторговую деятельность в случае необходимости. Министр торговли США Говард Лютник (Howard Lutnick) и генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) встречались недавно для переговоров, но затрагивали ли они ситуацию с вероятной поставкой EUV-сканера в Китай, официально не уточняется.  Вопрос всплыл ещё в апреле после аналогичной встречи, как поясняет Bloomberg. Компании ASML пришлось в экстренном порядке готовить документ, призванный убедить американские власти в отсутствии EUV-сканеров её производства на территории Китая. В нём упоминалось, что сейчас по всему миру эксплуатируются 314 систем класса EUV, а ещё 26 выведены из работы, но ни одна из них не находится в Китае. Клиенты, по словам производителя, не могут перемещать её оборудование без участия и согласия специалистов ASML. Кроме того, в случае несанкционированного отключения оборудования от служебной сети компания получит тревожное уведомление. По данным Bloomberg, американские власти располагают данными о поставках ASML в Китай специализированного оборудования, используемого для транспортировки EUV-сканеров, а также сопутствующих компонентов, которые могут использоваться в составе таких сканеров. Раскрыть доказательства публично власти США пока не готовы. ASML все подобные подозрения отвергает. При этом американские чиновники считают очевидное ускорение поставок в Китай другого оборудования ASML, которое не попадает под ограничения, одним из доказательств заинтересованности компании в получении дополнительной прибыли в ущерб интересам национальной безопасности США. История последних нескольких лет показала, что Нидерланды и Япония нередко отставали от США в ограничении поставок литографического оборудования в Китай, и местный рынок для соответствующих производителей за пределами США стал весьма крупным источником выручки. Заподозрив китайскую компанию SwaySure в содействии находящейся под санкциями США компании Huawei, американские власти добавили первую в санкционный список в 2024 году. Предполагается, что ASML после этого продолжила предоставлять техническую поддержку SwaySure. Американский президент Трамп в начале своего второго срока был полон решимости полностью отсечь поставки оборудования ASML в Китай, но позже переговоры с Японией и Нидерландами свелись к попыткам ограничить техническое обслуживание находящегося в Китае оборудования, поставленного из этих стран. Американские законодатели потом выступили с инициативой по дальнейшему сокращению ассортимента литографического оборудования, которое ASML может поставлять в Китай. Эта компания в текущем году всё ещё рассчитывает до 20 % всей выручки получать на китайском рынке, хотя в прошлом эта доля была значительно выше. |
© 1997—2026 3DNews
При цитировании документа ссылка на сайт с указанием автора обязательна. Полное заимствование документа является
нарушением
российского и международного законодательства и возможно только с согласия редакции 3DNews.
MWC 2018
2018
Computex
IFA 2018
