В 1965 году один из основателей корпорации Intel Гордон Мур (Gordon Moore) в своей статье в одном из отраслевых изданий сделал предсказание о способности полупроводниковой промышленности удваивать количество транзисторов на кристалле фиксированной площади каждые два года. В этом году этому эмпирическому правилу исполнилось 60 лет, и отступать от него производители чипов не собираются.

Источник изображения: ASML

Компания ASML, которая снабжает производителей полупроводниковых компонентов литографическим оборудованием, о годовщине данного эмпирического правила напомнила на своём канале YouTube, опубликовав выдержку из архивного интервью с самим Гордоном Муром, который ушёл из жизни пару лет назад.

На видео он вспоминает обстоятельства, при которых закон его имени был сформулирован в далёком 1965 году. Наблюдать за динамикой увеличения количества транзисторов в составе полупроводниковых компонентов Мур начал с 1959 года, и для своей статьи в журнале сформулировал предположение, что в период с 1965 по 1975 годы количество транзисторов в структуре чипов будет удваиваться каждые два года без существенного увеличения себестоимости. Последнее условие является важным, поскольку определяет экономические основы развития полупроводниковой отрасли.

Как отметил Мур, в 1975 году он сверил хронику развития отрасли со своим предсказанием и был очень удивлён, насколько точным оно оказалось. Основанное на наблюдениях умозаключение, по его словам, в дальнейшем чудесным образом стало определять темпы развития полупроводниковой отрасли. Литографическое оборудование играет в этом процессе очень важную роль, поскольку позволяет уменьшать размеры полупроводниковых элементов, отодвигая физические барьеры миниатюризации всё дальше и дальше. В конце интервью Гордон Мур благодарит ASML за этот прогресс и желает компании удачи.

Южнокорейская компания Samsung Electronics в сфере литографии сильно зависит от поставщиков профильного оборудования, одним из лидеров в этой сфере остаётся нидерландская ASML. Партнёры в 2023 году объявили о намерениях построить в Хвасоне совместный исследовательский центр, но теперь стало известно, что основную часть отведённых под него участков ASML продала.

Источник изображения: Samsung Electronics

У Samsung Electronics в Хвасоне сосредоточено несколько крупных предприятий, постоянно нуждающихся в передовом оборудовании для производства чипов. С этой точки зрения лучшего места для строительства совместного с ASML исследовательского центра придумать было нельзя. На его возведение планировалось потратить 700 млн евро, и летом прошлого года ASML договорилась о покупке шести участков земли общей площадью 19 000 м² под эти нужды.

Теперь издание ETNews сообщает, что два участка из шести уже проданы, а ещё два ожидают подобной участи. Что произойдёт с оставшимися ещё двумя, не уточняется. На условиях анонимности представители компаний пояснили, что необходимость в строительстве совместного исследовательского центра сохраняется. Возможно, для него будет подобрано новое место. Не исключено, что он появится на территории кампуса с предприятиями Samsung в том же Хвасоне. Официальные представители ASML не стали вдаваться в подробности, но подчеркнули, что компании продолжают сотрудничать друг с другом, а слухи об отказе от намерений построить центр исследований и разработок не соответствуют действительности. Представители Samsung отметили, что решение ASML о продаже земли никак не связано с деятельностью южнокорейской компании.

Нидерландская компания ASML, являющаяся крупнейшим в мире поставщиком литографических сканеров для выпуска передовых чипов, заказы на свою продукцию принимает с запасом в несколько месяцев как минимум. Уже сейчас можно судить о том, что активность клиентов снизилась из-за неопределённости, порождённой вводимыми в США пошлинами.

Источник изображения: ASML

Опубликованный ASML квартальный отчёт гласит, что в прошлом квартале она получила заказов на поставку оборудования для производства чипов на общую сумму 3,94 млрд евро против 4,89 млрд евро, ожидаемых аналитиками. Это несоответствие само по себе стало причиной снижения курса акций ASML на 7,6 % на биржевых торгах в среду. Генеральный директор Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) дал понять, что таможенные тарифы создают новый источник неопределённости как для экономики, так и для потенциального спроса на разных рынках. В любом случае, квартальный портфель заказов ASML в годовом сравнении увеличился более чем на 8 %. Из указанной суммы 1,2 млрд евро пришлись на заказы, связанные с поставкой оборудования класса EUV. В первом квартале компания также отгрузила свой пятый сканер класса High-NA EUV, уже три клиента ASML располагают такими системами.

Выручка ASML в первом квартале также не оправдала надежд инвесторов, достигнув только 7,74 млрд евро против ожидаемых 7,8 млрд евро. Зато чистая прибыль превзошла ожидания аналитиков и достигла 2,36 млрд евро против заложенных в прогноз 2,3 млрд евро. Кроме того, выручка первого квартала совпала с собственным прогнозом ASML, а норма прибыли достигла 54 %, превзойдя его. В любом случае, выручка компании в годовом сравнении выросла 46 %, а чистая прибыль и вовсе выросла почти в два раза. Год назад норма прибыли ASML не превышала 51 %, поэтому очевидно улучшение и на этом направлении.

Глава ASML хоть и отметил, что спрос на оборудование сохраняется на достаточно высоком уровне из-за растущей потребности рынка в компонентах для систем искусственного интеллекта, из-за тарифов прогноз компании по выручке на текущий год следует воспринимать ближе к началу диапазона, а именно — в районе 30 млрд евро вместо более оптимистичных 35 млрд евро. Ноткой оптимизма прозвучало из уст Фуке заявление о том, что консультации с клиентами ASML пока позволяют рассчитывать на сохранение роста объёма заказов как в 2025, так и в 2026 году, поскольку фактор ИИ-бума пока доминирует над препятствиями для международной торговли. Важно и то, что прогноз по выручке на текущий год ASML пока оставила в прежних пределах.

В своём отчёте ASML сравнивает итоги первого квартала текущего года с результатами четвёртого квартала предыдущего, при таком методе заметно снижение количества поставляемых компанией литографических систем. Новых было отгружено 73 штуки против 119 штук кварталом ранее, а поставки подержанных систем последовательно сократились с 13 до 4 штук.

Китай, который власти США всеми силами ограждают от получения передового оборудования для производства чипов, в прошлом квартале обеспечил 27 % выручки ASML. Это столько же, сколько было в четвёртом квартале прошлого года, но по итогам 2024 года в целом на Китай пришёлся 41 % выручки компании. В текущем году доля Китая в выручке ASML должна приблизиться к более типичным для прошлых лет 20 %. В этом квартале компания рассчитывает выручить от 7,2 до 7,7 млрд евро, тогда как инвесторы рассчитывали на 7,73 млрд выручки.

Российского инженера Германа А. (German A.) обвинили в краже и передаче российским властям секретных данных компаний ASML, NXP, GlobalFoundries и TSMC. Эта информация могла оказаться полезной для создания оборудования, способного производить микросхемы по технологии 28 нм, сообщает нидерландская газета NRC.

Источник изображений: asml.com

Незаконный доход подозреваемого, по версии нидерландских правоохранительных органов, составил около €40 000. Сейчас ему грозит от 18 до 32 месяцев тюрьмы. В одиночку украсть полный комплект данных он не мог, но на это была бы способна скоординированная группа. Инженера обвиняют в передаче в Россию технических материалов ASML, NXP, GlobalFoundries и TSMC, включая руководства по производству полупроводниковой продукции и машин для выпуска чипов.

Следствие утверждает, что ему удалось получить 105 внутренних документов ASML и 88 файлов, связанных с TSMC. Эти данные он предположительно передал через облачные ресурсы и мессенджеры, а также с помощью USB-накопителя в Москву. Кроме того, инженера связали с попыткой приобрести оборудование для химического осаждения из паровой фазы: сначала его пункт назначения сменили на израильский адрес, а затем вообще отказались от доставки. Германа А. арестовали в августе 2024 года после операции нидерландских спецслужб. Спустя месяц ASML и NXP получили официальное уведомление о подозрении их сотрудника в шпионаже. Сейчас его дело рассматривается в суде; предполагается, что обвиняемый связан с российской разведкой. В расследовании приняли участие обе компании.

В 2008–2009 годах инженер проходил стажировку в бельгийском исследовательском центре Imec, затем работал в греческом институте NCSR, после чего устроился на завод Fab 1 дрезденского подразделения GlobalFoundries. В 2015 году он перешёл в нидерландский стартап Mapper, разработавший технологию безмасочной литографии. В 2012 году компания получила финансовую поддержку от «Роснано» и построила небольшую производственную площадку в России. В конце 2018 года Mapper обанкротилась, а ASML, под давлением нидерландских и американских властей, поглотила её активы и перевела персонал к себе, чтобы не допустить утечки технологии. Герман А. оказался среди более чем сотни инженеров, которые перешли в ASML, где он работал с машинами для производства электрооптических компонентов.

Сейчас сотрудники ASML утверждают, что российский инженер занимал незначительную должность, но его имя фигурирует в четырёх патентных заявках компании, последняя из которых была опубликована всего месяц назад. Анализ цифровой активности инженера показал, что в течение двух дней в 2020 году у него был доступ к секретным данным, которые не требовались для его работы. Однако внутренние системы безопасности не зафиксировали нарушений. В 2021 году его контракт с ASML истёк, и компания передала его работу на аутсорсинг.

В январе 2022 года он устроился на работу в NXP в нидерландском Неймегене в качестве технического специалиста. В мае того же года он обратился за расценками на подержанное оборудование ASM International для химического осаждения из паровой фазы. Первоначально оборудование должны были отправить в Германию, затем — в Израиль, но в итоге доставка так и не состоялась. Сейчас это расценивается как попытка собрать компоненты для запуска производства.

В 2023 году инженер, по версии следствия, связался с российскими исследователями и обсудил с ними строительство предприятия по выпуску чипов по нормам 28 нм. В том же году он работал в Делфтском техническом университете, но признаков кражи информации там обнаружить не удалось.

ASML и NXP нередко становятся объектами попыток хищения коммерческих тайн. Чаще всего в этом уличают китайских инженеров. В связи с этим обе компании усилили защиту цифровых систем: обмен данными между отделами был сокращён, а деятельность сотрудников стала более тщательно отслеживаться на предмет подозрительного поведения.

Новая волна развития японской полупроводниковой отрасли, инициированная запуском опытного производства 2-нм чипов компанией Rapidus, в последующие несколько лет потребует от компании ASML увеличения численности обслуживающего оборудование для выпуска чипов персонала в пять раз, как выяснило агентство Nikkei.

Источник изображения: ASML

Как напоминает источник, нидерландская компания ASML является единственным поставщиком в Японию оборудования, позволяющего выпускать передовые чипы с использованием сверхжёсткой ультрафиолетовой литографии (EUV). Такое оборудование, в частности, будет использоваться японской компанией Rapidus, которая к 2070 году рассчитывает развернуть в Японии массовое производство 2-нм чипов. Естественно, для его обслуживания потребуется квалифицированный персонал, поэтому ASML займётся увеличением его локальной численности в Японии.

Литографические системы ASML насчитывают почти 100 000 компонентов и сложны в устройстве. Для их успешного встраивания в технологический процесс требуется грамотная настройка. Rapidus будет не единственным потребителем подобного оборудования ASML на территории Японии, со следующего года Micron Technology намеревается внедрить его на своём предприятии по выпуску микросхем памяти DRAM в Хиросиме. К 2027 году ASML собирается увеличить численность обслуживающего персонала в Японии в пять раз до примерно 100 человек.

Технологический процесс изготовления полупроводникового чипа может насчитывать от нескольких сотен до тысячи различных этапов, и каждый из них требует не только соответствующего оборудования, но и грамотной его настройки и обслуживания. Остановка EUV-системы на производстве может повлечь упущенную выручку, измеряемую тысячами долларов в минуту, как считает сама ASML. Бригада специалистов по ремонту должна круглосуточно дежурить возле производственной линии, чтобы это предотвратить.

Ещё одним крупным клиентом ASML в Японии является JASM — совместное предприятие тайваньской TSMC и японских Sony и Denso. Оно пока не начало использовать EUV-системы на своём производстве и не скоро это сделает, но в перспективе ASML необходимо быть готовой к развитию технологических возможностей этого производителя. В любом случае, JASM уже использует оборудование ASML предыдущих поколений, которое тоже требует обслуживания.

Японские поставщики оборудования для производства чипов также наращивают штат обслуживающего персонала. Tokyo Electron собирается за три последующих года нанять 3000 человек. Kokusai Electric за пять предшествующих лет уже увеличила штат обслуживающего персонала на 50 %.

На днях бельгийский исследовательский центр Imec и компания ASML заключили пятилетнее соглашение, в рамках которого нидерландский производитель литографического оборудования предоставит Imec полный комплект самых современных инструментов для выпуска чипов и проверки качества продукции. Партнёрство позволит разработать и внедрить в промышленность техпроцессы с нормами менее 2 нм вплоть до атомарного уровня.

Источник изображения: Imec

Ранее исследователи Imec пользовались передовым литографическим оборудованием на родной площадке ASML в Вельдховене, Нидерланды. Подписанное соглашение позволит разместить аналогичное оборудование на площадке Imec, что облегчит и упростит работу сотрудникам центра и их партнёрам из академических и коммерческих кругов.

Новейшее оборудование от ASML, включая сканер EUV с высоким значением числовой апертуры (High-NA) стоимостью $350 млн, будет интегрировано в пилотную линию NanoIC по обработке кремниевых пластин в Бельгии. Ранее в линию NanoIC вложились ЕС и власти Фландрии. Собственно, поставка ASML во многом будет оплачена за счёт финансирования из европейских фондов и программ, направленных на разработку передовых полупроводниковых технологий.

Вместе со сканером Twinscan EXE (High-NA 0,55) в Imec будут доставлены сканер Twinscan NXE (NA 0,33), Twinscan NXT (DUV, 193 нм), оптические метрологические инструменты ASML YieldStar и одно- и многолучевые инспекционные инструменты HMI. Бельгийцы получат все лучшие «игрушки» ASML, а взамен передадут для внедрения в промышленность технологии литографического производства с технологическими нормами менее 2 нм и будут разрабатывать техпроцессы двух следующих десятилетий.

Отличным дополнением к совместной работе над технологическими узлами следующего поколения для логических микросхем с техпроцессом менее 2 нм, станет сотрудничество в области технологий производства DRAM, кремниевой фотоники и передовых решений для упаковки чипов — всего того, что крайне востребовано современной полупроводниковой промышленностью, явно подошедшей к технологическому барьеру классических техпроцессов.

Для выпуска чипов по технологиям с нормами менее 2 нм потребуются литографические сканеры нового поколения, обладающие высоким значением числовой апертуры (High-NA) и использующие сверхжёсткое ультрафиолетовое излучение (EUV). Первый образец такого оборудования Samsung Electronics уже получила для установки на флагманском предприятии в Хвасоне.

Источник изображения: Samsung Electronics

Если учесть, что у Intel в Орегоне уже установлено как минимум два таких литографических сканера ASML, и конкурирующая TSMC тоже проявляет осторожный интерес к подобному оборудованию, действия Samsung можно считать своевременными. По данным южнокорейских СМИ, компания получила первый экземпляр сканера ASML TwinScan EXE:5000 для работы с ним на предприятии в Хвасоне в начале этого месяца. Оборудование такого класса понадобится Samsung для экспериментов по выпуску чипов по технологиям тоньше 2 нм.

В четвёртом квартале прошлого года Samsung, по данным TrendForce, занимала 8,1 % мирового рынка услуг по контрактному производству чипов. Буквально за один квартал потери составили один процентный пункт, тогда как TSMC укрепили свои позиции на 2,4 п.п. до 67,1 %. Выручка Samsung при этом сократилась последовательно на 1,4 % до $3,26 млрд. Своевременное освоение передовых техпроцессов позволит Samsung эффективнее удерживать свои рыночные позиции. К 2028 году TSMC рассчитывает внедрить оборудование класса High-NA EUV в массовом производстве чипов, Intel рассчитывает сделать это значительно раньше.

Прежние американские власти старались склонять Нидерланды к синхронизации усилий по ограничению доступа китайских компаний к оборудованию для производства чипов, но в этом году компания ASML намерена открыть в Китае центр по ремонту и обслуживанию своего оборудования, используемого местными клиентами для выпуска чипов.

Источник изображения: ASML

В годовом отчёте ASML, как отмечает South China Morning Post, открыто упоминается о намерениях нидерландской компании открыть новый сервисный центр в китайской столице в текущем году. До сих пор считалось, что по настоянию американской стороны власти Нидерландов могут ограничить ASML в возможности не только поставлять в КНР новое оборудование для производства чипов, но и обслуживать уже имеющееся, включая командировки специалистов.

При этом по итогам 2024 года выручка ASML на китайском рынке достигла 36,1 % от совокупной, впервые обойдя Тайвань и сделав данное географическое направление ключевым для нидерландского поставщика оборудования. По сути, Тайвань ограничился лишь долей в 15,4 % и суммой €4,3 млрд против €10,2 млрд в Китае. Как отмечает ASML в своём годовом отчёте, серьёзное увеличение выручки на китайском рынке обусловлено большим портфелем заказов, сформированным в предыдущие годы. Как только они будут выполнены, поток выручки нормализуется.

В глобальном масштабе только сегмент производства памяти демонстрировал высокую динамику спроса на оборудование ASML, как отмечается в документации компании. Санкции США и их союзников неминуемо приведут к снижению выручки компании на китайском рынке. В октябре она заявила, что доля Китая в текущем году в структуре всей выручки снизится до 20 %. По всей видимости, сервисный центр в Пекине сосредоточится на обслуживании уже ввезённого оборудования и будет в той или иной мере соответствовать санкционным ограничениям.

Желая отвлечь аудиторию от слухов о поиске стратегического партнёра в сфере производства чипов, руководство Intel на этой неделе заявило, что успешно использует полученные от ASML литографические системы новейшего поколения для мелкосерийного производства чипов. При помощи технологии High-NA EUV за один квартал компании удалось обработать 30 000 кремниевых пластин.

Источник изображения: Intel

Литографическое оборудование ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) компания Intel получила ещё в прошлом году, и два экземпляра систем (предположительно, TwinScan EXE:5000) уже настроены на выпуск опытной продукции в достаточных количествах. По словам представителей Intel, новое оборудование позволяет сократить количество технологических этапов при производстве современных чипов и ускорить изготовление передовой продукции. На подготовку к запуску такой технологии у Intel в общей сложности ушло семь лет.

На ранних этапах экспериментов возникали проблемы с надёжностью EUV-систем, но оборудование класса High-NA EUV, по словам ведущего инженера Intel Стива Карсона (Steve Carson), в два раза надёжнее решений предыдущего поколения. Продолжительность производственного цикла сокращается при переходе на оборудование с высокой числовой апертурой. Например, если ранее на обработку кремниевой пластины тратилось три экспозиции и 40 технологических операций, то теперь количество последних удалось сократить менее чем до десяти, а экспозиция требуется всего одна.

Как известно, Intel использовала оборудование класса High-NA EUV в качестве экспериментального при подготовке к выпуску чипов по технологии Intel 18A, но в серийном варианте применять его не будет. Оно должно быть внедрено уже при выпуске чипов по технологии Intel 14A не ранее следующего года. При этом будет использоваться ещё более новое оборудование ASML семейства TwinScan EXE:5200, первые компоненты которого компания должна получить в ближайшие месяцы. Конкурирующая TSMC переход на High-NA EUV осуществит не ранее 2028 года, как ожидают эксперты.

Необходимость Intel снизить капитальные затраты на этот год на $4 млрд, как отмечают представители ресурса Tweakers, никак не влияет на готовность компании получить от нидерландской ASML первый литографический сканер TwinScan EXE:5200, пригодный для серийного производства чипов по технологии Intel 14A. Система относится к поколению EUV-оборудования с высоким значением числовой апертуры (High-NA).

Формально, ASML уже отгрузила три экземпляра подобной техники, но они относились к модели TwinScan EXE:5000, предназначенной для экспериментов и проведения исследовательской деятельности, а в серийных количествах чипы могут выпускаться только при использовании сканеров модели TwinScan EXE:5200 и более поздних. Помимо Intel, ранние образцы оборудования должна была получить и тайваньская TSMC.

Как сообщают нидерландские источники со ссылкой на руководство производителя оборудования, Intel уже в ближайшие месяцы начнёт получать от ASML компоненты сканера TwinScan EXE:5200. Помимо прочего, такой сканер позволяет за час обрабатывать более 185 кремниевых пластин, обеспечивая более высокую производительность по сравнению с экспериментальной моделью TwinScan EXE:5000. Выпуск чипов по технологии Intel 14A может быть налажен в следующем году, пусть и в ограниченных количествах. Оборудование класса High-NA EUV компания ASML начнёт массово поставлять в 2028 году.

Ещё более высокое значение числовой апертуры на уровне 0,75 может появиться у оборудования ASML в 2032 году. Каждый литографический сканер такого класса стоит несколько сотен миллионов долларов США, но если верить нидерландским СМИ, пока Intel не готова экономить на их закупке, понимая важность своевременного освоения передовых технологий.

По сравнению с другими отчётными периодами, четвёртый квартал вынуждает публичные компании чуть дольше готовить финансовую статистику, но ASML уложилась до конца января, заявив, что объём заказов на её оборудование для производства чипов в денежном выражении вырос до €7,09 млрд, в два с небольшим раза превысив ожидания аналитиков.

Источник изображения: ASML

Генеральный директор нидерландской компании Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), комментируя итоги прошлого фискального квартала, пояснил, что «ИИ является очевидным драйвером» финансовых результатов этого поставщика литографических сканеров. Такое оборудование необходимо для выпуска любых полупроводниковых компонентов, а в случае с вычислительными решениями для инфраструктуры ИИ востребованы как раз наиболее дорогие литографические системы этой марки. «Мы искренне верим, что ИИ откроет перед полупроводниковой отраслью ещё большие возможности», — пояснил глава ASML.

Акции ASML успели вырасти на хороших новостях на 12 %, максимально для одной торговой сессии с 2020 года, но ранее на этой неделе капитализация компании сократилась более чем на €19 млрд из-за опасений инвесторов по поводу возможного сокращения расходов производителей чипов на оборудование для их выпуска. Всё из-за успехов китайского стартапа DeepSeek, который показал возможность создавать эффективные языковые модели при умеренных материальных затратах и ограниченных вычислительных ресурсах. В понедельник акции ASML подешевели на 7 %.

Из указанных 7 млрд евро, сформировавших заказы на оборудование ASML в прошлом квартале, на передовые EUV-сканеры пришлось около €3 млрд. При этом санкции против Китая начали неизбежно сказываться на бизнесе ASML в регионе, и если на протяжении основной части прошлого года и части позапрошлого страна была главным источником выручки для компании, то в четвёртом квартале она уступила США и оказалась на втором месте. Важно учитывать, что развитие американской полупроводниковой отрасли тоже способствовало смещению приоритетов в поставках ASML.

В прошлом квартале китайская выручка компании достигла €1,92 млрд или 27 % от совокупной. По итогам текущего года доля Китая в выручке ASML должна опуститься до 20 %, как уже отмечалось ранее. Впрочем, в компании этот процесс называют возвращением к нормальным соотношениям, соответствующим историческим тенденциям. Выручка ASML по итогам текущего года должна уложиться в диапазон до 30 до 35 млрд евро, как считает руководство. По итогам минувшего квартала выручка поставщика достигла €9,26 млрд евро и превысила ожидания рынка, чистая прибыль составила €2,69 млрд и тоже оказалась выше прогноза.

В прошлом квартале ASML получила выручку от поставки ещё двух передовых литографических сканеров класса High-NA EUV, каждый из которых стоит более €350 млн. Кто является их получателями, из-за затяжной логистики и специфики бухгалтерского учёта судить сложно, но Intel и TSMC такие системы уже получать начали. Они позволят им выпускать чипы с литографическими нормами менее 2 нм.

Приложение китайского стартапа DeepSeek для работы с фирменным ИИ-чат-ботом по своей популярности успело обойти в Apple App Store знаменитый ChatGPT. Это пошатнуло веру инвесторов в могущество американской ИИ-отрасли — курсы акций многих западных компаний, включая Nvidia и ASML, начали ощутимо снижаться в цене в понедельник.

Источник изображения: Nvidia

Откровением для участников фондового рынка стала способность китайской компании предложить сопоставимый по быстродействию с ChatGPT чат-бот с ИИ не только бесплатно для пользователей, но и с гораздо меньшими затратами для самого разработчика. Получается, что для создания эффективных языковых моделей можно ограничиться гораздо более скромными аппаратными ресурсами и материальными затратами. На предварительных торгах в понедельник акций Nvidia падали в моменте на величину свыше 11 %, из-за чего капитализация компании просела на 384 млрд долларов. Ценные бумаги ASML просели на 11 %, что является новым антирекордом для одной торговой сессии за период с 15 октября прошлого года. Фьючерсы на технологический индекс Nasdaq 100 также потеряли в цене.

Как известно, Nvidia на протяжении последних двух с лишним лет считается одним из главных бенефициаров так называемого бума искусственного интеллекта, поскольку разрабатывает и поставляет ускорители для соответствующих вычислительных систем. ASML, которая на этой неделе должна опубликовать свой квартальный отчёт, является крупнейшим поставщиком литографических сканеров, которые нужны для выпуска чипов, используемых в вычислительной инфраструктуре.

Активность американских компаний и властей в сфере развития подобной инфраструктуры в последние дни широко освещалась в прессе. Так, компания Meta✴ Platforms заявила о готовности потратить на строительство центров обработки данных до $65 млрд. Анонсированный при участии президента США Дональда Трампа (Donald Trump) проект Stargate подразумевал инвестиции в сумме до $500 млрд в последующие четыре года. Всё указывало на то, что для сохранения своего лидерства в сфере искусственного интеллекта США не остановятся перед высокими расходами. Прорыв DeepSeek доказал, что они не всегда требуются, если сосредоточиться на оптимизации ПО в условиях ограниченности ресурсов. Если все игроки отрасли осознают данный дисбаланс, потребность в продукции тех же ASML и Nvidia может быть пересмотрена в сторону уменьшения. Это и толкает акции западных компаний технологического сектора вниз на торгах в понедельник.

Нидерланды ужесточили экспортный контроль, в результате чего ASML сможет получать экспортные лицензии на поставки оборудования для выпуска чипов у властей своей страны, а не США. Новые нормы вступят в силу 1 апреля, и они, вероятно, стали ответом на обновлённый список подсанкционного оборудования США — в него входят измерительные и инспекционные системы, которые выпускают производители полупроводникового оборудования, в том числе ASML.

Источник изображения: asml.com

Власти Нидерландов не упомянули новые санкции, введённые Вашингтоном, но, по сведениями Bloomberg, эта мера напрямую связана с политикой Белого дома. Страна уже не первый раз обновляет правила экспортного контроля, чтобы сохранить за собой право определять действия местных производителей полупроводникового оборудования — в сентябре 2024 года они внесли в этот список оборудование, работающее в глубоком ультрафиолете (DUV). Из-за этого Китай лишился возможности покупать оборудование, на котором можно было бы выпускать чипы по нормам 7 нм.

В Пекине утверждают, что страна способна обеспечить свой технический прогресс и без оборудования ASML, но есть мнение, что Китай отстаёт от её уровня на 10, а то и 15 лет. Поэтому китайцы не теряют времени и предпринимают шаги, чтобы сократить отставание в гонке полупроводниковых технологий. В частности, они пытаются переманивать сотрудников компаний, выпускающих производственное оборудование, чтобы строить собственное. Тем временем США радикально ужесточили ограничения на экспорт чипов для систем искусственного интеллекта, создав большей части стран сложности для их закупки — эта мера вызвала недовольство в Nvidia, Ассоциации полупроводниковой промышленности и в Евросоюзе.

Несмотря на санкции, китайские клиенты обеспечили ASML около половины продаж в 2024 года на общую сумму €2,79 млрд. В новых условиях доля Китая в продажах ASML грозит сократиться до 20 % выручки компании.

В апреле этого года нидерландскую компанию ASML, которая снабжает большинство производителей чипов в мире своими литографическими сканерами, возглавил Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), и до сих пор он мало выступал публично за пределами квартальных отчётных мероприятий. В интервью NRC он признался, что санкции США могут увеличить отставание Китая в полупроводниковой промышленности на 10–15 лет.

Источник изображения: ASML

«Запрещая экспорт EUV в Китай, можно добиться отставания на десять, пятнадцать лет от Запада. Это действительно имеет свой эффект», — признался глава ASML. Американские политики настаивают на том, чтобы эта компания прекратила обслуживать своё оборудование, эксплуатируемое на территории КНР. Правительство Нидерландов свою позицию по этому вопросу ещё не сформировало, но руководство ASML считает, что лучше сохранить контроль за своим китайским оборудованием. Если китайские компании начнут обслуживать его самостоятельно, по словам Фуке, это грозит утечкой коммерческих секретов ASML. Глава компании верит, что будущий президент США Дональд Трамп (Donald Trump) проникнется этой логикой и поддержит точку зрения производителя.

Говоря о развитии полупроводниковой отрасли в целом, Фуке считает, что для технического прогресса в данной сфере хорошо, когда на рынке присутствуют несколько крупных игроков. «Я не сомневаюсь, что Samsung восстановится. И с точки зрения конкуренции было бы здорово вновь увидеть благополучие Intel, но если делать много ошибок, то наладить бизнес будет очень сложно», — прокомментировал неудачи данных производителей чипов глава ASML. Он добавил, что для США стратегически важно восстановление бизнеса Intel, поскольку это единственный способ для страны сохранить собственное производство передовых чипов.

На вопрос о склонности американских властей к недооценке масштабов проблем в полупроводниковой отрасли Фуке ответил, что подобное отношение свойственно всем. Чтобы успешно запустить предприятие по выпуску чипов, одних только денег будет мало. Нужно инвестировать в исследования, учиться и предпринимать попытки сделать что-то новое. Даже если не с первого раза, то со второго или третьего это начинает работать. Подобные усилия порой отнимают годы, как резюмировал глава ASML.

Молодая японская компания Rapidus рассчитывает к 2027 году наладить серийный выпуск 2-нм полупроводниковых изделий по заказу различных клиентов, уже в апреле следующего года она рассчитывает наладить выпуск опытной продукции такого класса. Для этого она приступила к монтажу литографического оборудования ASML, которое уже получает через аэропорт острова Хоккайдо.

Источник изображения: ASML

Как сообщает DigiTimes со ссылкой на японские средства массовой информации, на этой неделе Rapidus провела символическую церемонию получения первого литографического сканера ASML Twinscan NXE:3800E для работы с EUV — сверхжёстким ультрафиолетовым излучением. Такое оборудование применяется при производстве 2-нм чипов, и впервые попало на территорию Японии для использования при выпуске полупроводниковых компонентов.

Сколько всего подобных систем Rapidus получит для нужд запуска опытного производства 2-нм чипов к апрелю 2025 года, компания уточнять не хочет, но даёт понять, что одной или двух ей не хватит. Каждая система транспортируется в нескольких больших контейнерах, в сборе весит 71 тонну и имеет высоту 3,4 метра. Монтаж подобного оборудования подразумевает хорошую защиту от сейсмического воздействия, что для Японии довольно актуально. По словам представителей Rapidus, подготовка к освоению производства 2-нм чипов идёт по плану. Компания отправила на стажировку в США около 150 технических специалистов, которые набираются опыта в IBM. К моменту запуска опытного производства 2-нм чипов в апреле следующего года на предприятии будет работать от 300 до 400 сотрудников. Необходимое для запуска опытного производства 2-нм чипов оборудование ASML компания Rapidus рассчитывает получить до конца текущего года.