Теги → asml
Быстрый переход

Ради экономии TSMC готова пойти на уменьшение количества слоёв с EUV в рамках 3-нм литографии

Представители TSMC не раз подчёркивали, что массовое производство 3-нм продукции будет развёрнуто во второй половине текущего года, и подготовка идёт по плану. Хорошо знакомая структура транзисторов FinFET позволит избежать сюрпризов, но количество слоёв, обрабатываемых при помощи EUV-литографии, придётся увеличить. Сейчас компания задумалась над тем, как ограничить их количество разумным числом.

Источник изображения: TSMC

Источник изображения: TSMC

Как поясняют тайваньские СМИ, растущая интенсивность использования литографических сканеров со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) увеличивает расходы TSMC, поскольку одна такая система стоит более $100 млн, а их приходится закупать десятками. По сути, TSMC сейчас покупает более половины всех EUV-сканеров, выпускаемых холдингом ASML. Растущие затраты неизбежно придётся перекладывать на себестоимость продукции и её отпускную стоимость для заказчиков. В рамках освоения 3-нм технологии TSMC пытается немного сэкономить, уменьшая количество слоёв полупроводниковых компонентов, изготавливаемых с использованием EUV.

Внедряя 7-нм техпроцесс, компания TSMC начала с четырёх слоёв, использующих EUV, следующим этапом стал 6-нм техпроцесс с пятью слоями, а к моменту освоения 5-нм технологии их количество выросло до 14 или 15 штук. Ожидается, что 3-нм техпроцесс может потребовать использования до 25 слоёв с EUV-литографией, и сейчас TSMC пытается сократить это количество до 20, чтобы снизить затраты и себестоимость продукции.

ASML оказалась завалена заказами на литографические сканеры для производства чипов, и это надолго

Нидерландская компания ASML отчиталась о работе во втором квартале календарного 2021 года. Единственный в мире производитель передовых литографических сканеров для выпуска чипов отмечает резкий и устойчивый рост спроса на свою продукцию. Это также означает, что рынок полупроводников долго будет безоблачным — автоматизация, искусственный интеллект, 5G и другое — это цифровая революция, которая изменит жизнь и наполнит карманы причастных деньгами.

Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

«Все очень усердно работают, мы и наши поставщики, чтобы на самом деле производить ... больше машин», — сказал главный исполнительный директор ASML Питер Веннинк (Peter Wennink), которого цитирует Reuters.

«Усердная» работа, которая на фоне дефицита чипов сменила год карантинных ограничений, помогла компании ASML увеличить квартальные выручку и чистую прибыль. Заказы на литографическое оборудование выросли за квартал на 75 % до 8,3 млрд евро ($9,78 млрд), а чистая квартальная прибыль компании увеличилась на 38 % до 1 млрд евро ($1,17 млрд). Перспективы радуют производителя, без сканеров которого не может работать производство ни в Китае, ни в США или где-либо ещё.

«Все это в основном обусловлено тем, что мы наблюдаем сегодня, а именно цифровой революцией. Это развертывание 5G и 6G. Это прогресс, которого мы добиваемся в области искусственного интеллекта, беспилотных автомобилей», — сказал генеральный директор ASML.

Радужные перспективы позволяют компании ASML ожидать дальнейшего роста выручки и прибыли. Так, компания прогнозирует рост продаж в 2021 году на 35 %. Это открывает путь к новой программе по выкупу акций. ASML только что закончила программу выкупа на сумму 6 млрд евро и объявила о новой программе на сумму 9 млрд евро. Стоимость акций ASML растёт как на дрожжах.

Из важного — во втором квартале AMSL отправила заказчику первую EUV-систему TWINSCAN NXE: 3600D нового поколения. Установка может обрабатывать в час более 180 кремниевых пластин диаметром 300 мм, что повышает производительность до 20 %. Это оборудование позволит выпускать как 3-5-нм логические чипы, так и оперативную память по передовым техпроцессам. Кстати, ASML подтвердила, что сканеры EUV интересуют всех трёх крупных производителей DRAM.

Интересен аспект восстановления оборудования. Есть мнение, что бывшее в употреблении литографическое оборудование компании AMD на российских заводах «Ангстрем-Т» сильно устаревшее. ASML сообщает, что она успешно отремонтировала и поставила клиенту 100-й сканер TWINSCAN. Некоторые системы успешно работают по 30 лет, и каждый год ASML восстанавливает до двух десятков таких. Это тем более актуально в условиях возникшего дефицита чипов. Для ASML — это дополнительный заработок, а для клиентов — существенная экономия.

По вине ASML внедрение следующего поколения EUV-литографии задержится на три года

Литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) обеспечила возможность уменьшения транзисторов на полупроводниковых чипах без дальнейшего увеличения количества фотошаблонов. Её внедрение задержалось на несколько лет относительно первоначальных сроков, но теперь становится ясно, что и EUV-литография следующего поколения тоже задержится.

Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Как отмечает один из постоянных авторов Seeking Alpha Арнэ Верхайде (Arne Verheyde), компании TSMC и Samsung начали применять литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением относительно недавно, по мере освоения 7-нм и 5-нм технологий, об аналогичных планах заявила и компания Intel, хотя первоначально считалось, что данный переход начнётся ещё в рамках 32-нм технологии. Длина волны лазера, используемая в литографии, долгие годы составляла 193 нм (DUV), а в рамках EUV-литографии она должна была сократиться до 13,5 нм. Поскольку переход от DUV к EUV затянулся, производители чипов вынуждены были сперва внедрить так называемую иммерсионную литографию, которая позволила увеличить показатель преломления с 1,0 до 1,35, а затем добиваться уменьшения размеров транзисторов за счёт использования множества фотошаблонов. По мере роста их количества увеличивались и затраты, не говоря уже об уровне брака и самом удлинении производственного цикла.

В первой половине прошлого десятилетия Intel, TSMC и Samsung в качестве заинтересованных в скорейшем освоении EUV-литографии клиентов купили крупные пакеты акций ASML на несколько миллиардов долларов США. По иронии судьбы, потратившая больше всех компания Intel в итоге оказалась в числе догоняющих, поскольку переход на использование EUV-литографии она собирается осуществить в рамках серийного производства не ранее конца следующего года. Очевидно, что и другие клиенты ASML освоили EUV-литографию позже, чем рассчитывали изначально.

Следующим технологическим этапом должен стать переход на EUV-литографию с высоким значением коэффициента преломления (high-NA EUV). Дело в том, что уменьшение длины лазера с 193 до 13,5 нм в рамках миграции с DUV снизило значение коэффициента преломления с 1,35 до 0,35. Переход на следующую ступень в развитии EUV-литографии должен поднять этот показатель до 0,55. Это обеспечит дальнейшее уменьшение размеров транзисторов без чрезмерного увеличения количества фотошаблонов.

ASML, как отмечается, ещё на январской отчётной конференции заявила, что задерживается с внедрением новой версии EUV как минимум на три года. Ранее считалось, что технология будет освоена к 2023 году, а теперь внедрение версии EUV с высоким значением коэффициента преломления откладывается до 2025 или 2026 года. Отрасль уже пережила задержку с внедрением первого поколения EUV, поэтому и в этом случае она продолжит компенсировать отсутствие прогресса со стороны литографических сканеров увеличением количества фотошаблонов. Для конечных потребителей это будет означать, что стоимость освоения новых техпроцессов в литографии продолжит увеличиваться. Собственно, один сканер для работы с high-NA EUV будет стоить примерно $300 млн, но он позволит сократить затраты на оснастку и ускорить обработку кремниевых пластин. ASML в сложившихся условиях сможет заработать на продаже EUV-оборудования первого поколения. Только в этом году она собирается увеличить профильную выручку на 30 %.

Дефицит чипов устремил выручку ASML ввысь. Компания ожидает роста поставок EUV-сканеров на треть

Холдинг ASML является крупнейшим поставщиком литографического оборудования, все тенденции последнего времени обеспечили его стабильной положительной динамикой выручки. В этом году выручка компании должна вырасти на 30 %, а в дальнейшем ASML выиграет от усилий регионов планеты по развитию локальной производственной инфраструктуры.

Источник изображения: Bloomberg

Источник изображения: Bloomberg

По словам генерального директора ASML Петера Веннинка (Peter Wennink), на которого ссылается Bloomberg, благодарить за превышение выручкой ожиданий аналитиков следует сложившуюся рыночную ситуацию: «Достаточно читать газеты, чтобы знать, что дефицит чипов наблюдается повсеместно». В первом квартале ASML выручил 4,4 млрд евро, что выше запланированных сторонними экспертами 4,05 млрд евро. Во втором квартале компания рассчитывает выручить от 4 до 4,1 млрд евро, а норма выручки ограничится 49 %. Аналитики в этом смысле поскромничали в отношении выручки (3,95 млрд евро), но ожидали большего от нормы прибыли (50,2 %). В любом случае, акции ASML на торгах в среду выросли на 5,8 % после оглашения результатов первого квартала.

Клиенты компании модернизировали программное обеспечение литографических сканеров, чтобы увеличить их производительность, поскольку профильные предприятия сейчас работают на пределе возможностей, пытаясь насытить рынок продукцией. Спрос подогревается и распространением сетей 5G, а также интересом к теме искусственного интеллекта. В первом квартале ASML отгрузила девять литографических сканеров для работы с EUV, но выручку засчитала только для семи единиц оборудования (1,1 млрд евро). По итогам года компания рассчитывает увеличить объёмы поставок EUV-сканеров на 30 %, а в следующем году поставить не менее 55 единиц оборудования данного класса.

По словам главы ASML, стремление США, Европы и Китая развивать локальное производство полупроводниковых компонентов приведёт к неэффективному использованию капитала, но компания от этого только выиграет, поскольку клиенты будут закупать больше литографических сканеров. На обретение достаточной технологической независимости у отдельных стран уйдут многие годы, как предупреждает руководство ASML. Действие лицензии на поставку EUV-систем в Китай до сих пор не возобновлено правительством Нидерландов.

ASML не сомневается, что санкции не остановят развитие китайской полупроводниковой отрасли

Холдинг ASML из Нидерландов является фактическим монополистом в поставках оборудования для работы со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) в сфере литографии. Власти страны пока не выдали компании лицензию на поставки такого оборудования китайским клиентам. Глава ASML заявил, что в этих ограничениях нет особого смысла, и страдать от них будет бизнес за пределами Китая.

Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Слова генерального директора ASML Петера Веннинка (Peter Wennink) приводит Bloomberg. В ходе одного из онлайн-мероприятий на этой неделе он заявил следующее: «Я считаю, что экспортный контроль не является верным способом управлять экономическими рисками. Если лишить Китай доступа к технологии, это будет стоить компаниям за пределами страны множества рабочих мест и существенной части прибыли». По итогам прошлого года рынок КНР стал крупнейшим по закупкам литографического оборудования.

Веннинк не сомневается, что на разработку собственного литографического оборудования у Китая уйдут годы, но рано или поздно цель будет достигнута, а зарубежные компании в итоге лишатся доступа к одному из крупнейших рынков. Приводятся и расчёты Министерства торговли США, согласно которым полная изоляция Китая от американских полупроводниковых компонентов и технологий сократит выручку компаний на величину от $80 до $100 млрд, а количество рабочих мест в США сократится на 125 тысяч человек.

ASML до сих пор не получила возможность продолжать поставки EUV-сканеров в Китай, поскольку правительство Нидерландов ведёт переговоры с европейскими и американскими властями об оформлении соответствующих экспортных лицензий. Один из «подвисших» литографических сканеров предназначался китайской компании SMIC, которая попала под санкции США в конце прошлого года. Китайские власти на ближайшие пять лет взяли курс на экстенсивное использование зрелых литографических технологий и параллельное развитие импортозамещения.

Полупроводниковое производство с применением EUV-литографии станет дешевле

Одна из причин отказа Intel от использования сканеров EUV для производства процессоров кроется в высоком уровне брака. Брак возникает от загрязнения фотошаблонов, а избежать этого можно только с помощью специальных защитных плёнок. Проблема в том, что до сих пор плёнок с необходимыми рабочими характеристиками для излучения EUV не было. Но с этого года всё должно измениться. К массовому производству защитных плёнок приступит компания Mitsui.

Защитная плёнка компании ASML (обратите внимание, она не прозрачна, что усложняет проверку на дефекты). Источник изображения: ASML

Защитная плёнка компании ASML (обратите внимание, она не прозрачна, что усложняет проверку на дефекты). Источник изображения: ASML

Ранее считалось, что сканеры EUV в процессе облучения фотошаблона (маски) создают настолько мало загрязнения (разного рода твёрдых частиц), что маски не придётся специально защищать. По факту использования сканеров EUV компаниями Samsung и TSMC выяснилось, что маски всё-таки загрязняются, приводя к росту брака. От этого никто из них использовать сканеры EUV не перестал, но процесс проверки фотошаблонов на дефекты существенно усложнился — эту работу приходится делать часто и тщательно.

Параллельно растёт сложность изготовления фотошаблонов и увеличивается число необходимых для изготовления одного чипа фотошаблонов. Например, для современных 193-нм сканеров стоимость одной маски доходит до $100 тыс., а стоимость маски для EUV доходит до $300 тыс. Для выпуска 32-нм чипа требовалось 50 масок, а для 16-нм уже необходимо до 75 фотошаблонов. Всё это означает, что фотошаблоны необходимо защищать как можно лучше.

Проблема с масками для проекции EUV возникла по той причине, что очень немного материалов могут выдержать среду в рабочей камере сканера. Более того, поскольку в случае EUV проекция ведётся с помощью отражения в системе зеркал, а не на просвет, как для 193-нм сканеров, 13,5-нм луч дважды проходит сквозь защитную плёнку, разогревая её до температур на уровне 1000 °C. Также защитная плёнка должна быть прозрачной для длины волны луча экспозиции, что накладывает дополнительные трудности, ведь сюда ещё добавляется прочность.

Перспективная защитная плёнка на углеродных нанотрубках (прозрачная для оптической инспекции). Источник изображения: Imec

Перспективная защитная плёнка на углеродных нанотрубках (прозрачная для оптической инспекции). Источник изображения: Imec

Создать защитную плёнку для сканеров EUV смогла компания ASML, которая является единственным в мире производителем сканеров этого диапазона. Её плёнки не могут похвастаться рекордными характеристиками, например, уровень прозрачности у них всего 90 % на мощности 400 Вт, что снижает производительность сканеров на 20 %. Но это лучше, чем ничего. Но по-настоящему хорошая новость заключается в том, что ASML передала права на производство защитных EUV-плёнок компании Mitsui. Утверждается, что Mitsui уже установила необходимое для производства оборудование и готова в этом году начать массовое производство защитных плёнок. Надёжный поставщик с продукцией со стабильными характеристиками — это то, что может сделать производство чипов с использованием сканеров EUV надёжнее и дешевле.

Разработчик оборудования для производства чипов ASML увеличит штат сотрудников на Тайване на 20 %

Холдинг ASML из Нидерландов является крупнейшим поставщиком литографического оборудования. На Тайване генерируется около 40 % его выручки, поскольку здесь сосредоточены основные клиенты компании. Закономерно, что численность персонала тайваньского представительства ASML в ближайшее время вырастет на 20 % до 3400 человек.

Источник изображения: Reuters

Источник изображения: Reuters

Как поясняет Nikkei Asian Review, это будет сделано преимущественно по запросу TSMC, которая контролирует более половины мирового рынка услуг по контрактному производству полупроводниковых компонентов. Сейчас компания возводит предприятие для серийного производства 3-нм продукции со второй половины следующего года, поэтому специалисты по литографическому оборудованию ей понадобятся.

TSMC одновременно расширяет производственные мощности, только в этом году компания наймёт около 9000 новых сотрудников. У ASML уже есть учебный центр на Тайване, который был открыт в августе прошлого года. Здесь под чутким руководством четырнадцати преподавателей могут обучаться до 360 инженеров в год. По данным ASML, на подготовку квалифицированного специалиста в области EUV-литографии уходит не менее 18 месяцев. Прошедшие повышение квалификации инженеры TSMC смогут эффективно работать с оборудованием ASML, закупленным для выпуска компонентов с применением литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV).

Основная часть персонала ASML находится в Нидерландах, всего в компании работает около 28 тысяч человек. В прошлом году холдингу удалось увеличить чистую прибыль на 37 % до 3,5 млрд евро, а выручка выросла на 18 % до 13,9 млрд евро. Спрос на литографическое оборудование растёт, поскольку пандемия подстегнула перевод многих отраслей на рельсы цифровизации, и теперь рынку требуется гораздо больше полупроводниковых компонентов.

За последний год китайская SMIC закупила у ASML оборудования для производства чипов на $1,2 млрд

Крупнейший китайский контрактный производитель полупроводников SMIC сообщил о завершении годичного контракта на закупку промышленного оборудования стоимостью $1,2 млрд у нидерландской компании ASML. Санкции США ограничили китайцев в сфере самого передового производственного оборудования, но не закрыли путь к зрелым (грубым) техпроцессам.

Компания SMIC попала в санкционный список США в конце прошлого года. Данное обстоятельство чревато тем, что для продажи фигуранту «чёрного» списка промышленного оборудования, программного обеспечения или комплектующих требуется получить разрешение от регулирующих органов США. Уже в январе этого года SMIC сообщила, что получила лицензию на закупку оборудования для использования в зрелых техпроцессах — с нормами от 28 нм и выше.

Вчера SMIC уведомила Гонконгскую фондовую биржу, что она заключала контракт с нидерландским производителем литографических сканеров компанией ASML на поставку оборудования стоимостью $1,2 млрд. Контракт был заключён сроком на один год на период с 16 марта 2020 года по 2 марта 2021 года. Судя по всему, контракт был выполнен в полном объёме. Очевидно, что SMIC получила от США лицензию на закупку интересного ей оборудования.

Также SMIC заявила, что сделает всё возможное, чтобы продолжить работу с партнёрами для обеспечения гарантии непрерывности производства и осуществления планов по расширению производства полупроводников. В частности, SMIC приступила к строительству двух новых заводов: одного в Пекине, второго — в Шанхае, для которых через год придётся закупать новое оборудование у ASML.

ASML считает, что спрос на полупроводниковые компоненты закрепится на новом уровне

Большинство автопроизводителей сошлись во мнении, что дефицит нужных им полупроводниковых компонентов сохранится до середины года. AMD и NVIDIA называют схожие сроки решения проблемы в своих сферах деятельности, а производитель литографического оборудования ASML убеждён, что спада спроса не будет, поскольку он просто закрепится на новом уровне.

Источник изображения: Reuters

Источник изображения: Reuters

Своими соображениями в интервью Reuters поделился исполнительный вице-президент ASML Рон Кол (Ron Kool). Многие клиенты компании, по его словам, сейчас находятся в стрессовом состоянии из-за высокого спроса на их продукцию. Тенденция к его сохранению наблюдается в телекоммуникационной сфере, центрах обработки данных, промышленной электронике и Интернете вещей. «Лично я считаю, что это не волна. Мы перешли на новый уровень, и это моя точка зрения», — пояснил Рон Кол.

В конце марта прошлого года, как вспоминает представитель ASML, многим казалось, что для полупроводниковой отрасли 2020 год будет проблематичным с точки зрения спроса, но уже месяц или два спустя всё кардинально изменилось. Востребованность компонентов, выпускаемых по передовым технологическим процессам, не означает, что более зрелые уже не пользуются спросом. Напротив, они подтягиваются вслед за передовой литографией.

По мнению исполнительного вице-президента ASML, в 2021 году холдинг сможет достичь прогнозируемых финансовых показателей, но не превзойти их, поскольку по всей цепочке поставок будет наблюдаться проблема дефицита. Было бы неплохо увеличить производственные мощности в текущем году, как резюмирует представитель компании.

Котировки акций в технологическом секторе взлетели на 11 % в ожидании хороших квартальных отчётов

Эстафету квартальных отчётов на этой неделе подхватит корпорация Intel, но первые итоги минувшего отчётного периода уже вдохновляют инвесторов, предпочитающих вкладываться в акции компаний технологического сектора. Биржевой индекс PHLX с начала января вырос на 11 %, поддержку ему оказала опубликованная вчера квартальная отчётность ASML.

Источник изображения: TSMC

Источник изображения: TSMC

Как отмечает Bloomberg, для индекса Philadelphia Semiconductor нынешний январь станет лучшим по динамике роста с 2012 года. Если охватывающий компании разных секторов экономики индекс S&P 500 с начала года вырос только на 1,8 %, то рост котировок акций в технологическом секторе говорит о вере инвесторов в способность профильных компаний увеличивать выручку в обозримом будущем.

Разработчики чипов, акции которых в прошлом году, за исключением Intel, активно росли в цене, сейчас проигрывают в динамике ценным бумагам поставщиков оборудования и материалов для производства полупроводниковых компонентов. Дефицит последних вынуждает производителей расширять мощности, поэтому капитальные затраты будут расти, а поставщики оборудования и материалов окажутся в числе бенефициаров этой тенденции.

По мнению аналитиков Evercore ISI, сейчас наиболее привлекательными для инвесторов являются ценные бумаги компаний ASML, Applied Materials и Lam Research. На следующей неделе квартальную отчётность опубликуют AMD, Texas Instruments и Lam Research, что может стать дополнительным катализатором роста профильных фондовых индексов.

ASML отгрузила сотый сканер для EUV-литографии

Холдинг ASML, выпускающий литографическое оборудование для изготовления полупроводниковых компонентов, отчитался о финансовых итогах прошедшего года. Компания смогла отгрузить сотый сканер для работы с EUV, а в текущем году профильную выручку она рассчитывает увеличить на 30 %. Начинаются работы над созданием EUV-оборудования следующего поколения.

Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Прошлый год ASML завершила с рекордной выручкой в сумме 14 млрд евро, которая оказалась на 18 % больше показателя 2019 года. Из этой суммы около 4,5 млрд евро пришлось на выручку от реализации оборудования, предназначенного для работы со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Оно применяется в прогрессивных техпроцессах компаниями TSMC и Samsung, корпорация Intel до недавних пор рассчитывала внедрить EUV в своём 7-нм техпроцессе.

Чистая прибыль ASML выросла с 2,6 до 3,6 млрд. В текущем году компания тоже рассчитывает неплохо заработать. По крайней мере, выручка от реализации EUV-оборудования должна увеличиться на 30 % до 5,8 млрд евро. Оптимизма поставщику добавляют планы TSMC потратить рекордные $28 млрд, основная часть этой суммы будет направлена на освоение передовых техпроцессов, которые требуют применения EUV-литографии.

Ушедший год символизировал для ASML важную веху — компанией был отгружен сотый сканер для работы с EUV-литографией. В четвёртом квартале ASML получила заказы на поставку ещё шести EUV-сканеров, в ближайшее время компания получит за них около 6,2 млрд евро. На находящемся в эксплуатации EUV-оборудовании ASML в прошлом году было выпущено 26 млн кремниевых пластин, девять миллионов из этого количества были обработаны в четвёртом квартале.

Примерно через пять лет отрасль потребует внедрения литографического оборудования для EUV нового поколения, использующего высокоапертурную оптику. Её ASML сейчас разрабатывает совместно с компанией Zeiss. Первые оптические модули нового поколения будут собраны к концу текущего года, в следующем прототип оборудования появится в лаборатории ASML, а клиенты получат первые экземпляры новых сканеров не ранее 2023 года. И лишь в 2025 году начнётся массовое внедрение подобных литографических машин в массовом производстве.

В текущем году, помимо сохраняющегося высокого спроса на процессоры различных типов, рынок литографического оборудования будет подогреваться оживлением в сегменте оперативной памяти и на направлении автомобильных компонентов. Последние остаются в дефиците, их кто-то должен производить, а свободных мощностей почти не осталось. Придётся вводить дополнительные, как считают участники рынка.

J.P. Morgan: за ближайшие полтора года акции компаний полупроводникового сектора вырастут в цене на 20 %

В прошлом году спрос на полупроводниковые компоненты, подстёгиваемый пандемией, вызвал не только их дефицит, но и рост котировок акций в полупроводниковом секторе. Эксперты J.P. Morgan считают, что потенциал дальнейшего роста ещё не выбран до конца, и в последующие полтора года котировки в среднем могут укрепиться на 15–20 %.

Источник изображения: Neowin

Источник изображения: Neowin

На аналитическую записку J.P. Morgan ссылается ресурс Seeking Alpha. По словам источника, выручка компаний полупроводникового сектора в 2021 году увеличится на 8–10 %, а доходы профильных компаний вырастут на 15–18 %. К числу фаворитов этого года авторы прогноза относят акции компании Broadcom, которая с точки зрения присутствия в различных сегментах рынка неплохо диверсифицирована. Компоненты для центров обработки данных и сетевого оборудования формируют примерно четверть её выручки.

Сохраняющийся высокий спрос на полупроводниковые компоненты позволяет экспертам J.P. Morgan рекомендовать инвесторам к покупке акции компаний, которые производят материалы и оборудование для литографического производства. Это KLA, Lam Research, Applied Materials и ASML. Динамика курса их акций будет восприимчива к новостям о торговой политике США в отношении Китая. Если санкции усилятся, то высокая степень зависимости трёх первых поставщиков от китайского рынка приведёт к снижению курса их акций.

К числу благоприятных факторов в этом году аналитики склонны относить улучшение макроэкономических показателей, расширение сетей связи 5G, рост спроса на смартфоны с поддержкой этих сетей, а также восстановление автомобильного рынка. По прогнозам IDC, рынок ПК по итогам 2021 года вырастет на 1,4 %, поскольку спрос всё ещё опережает предложение.

Micron решила быстрее освоить технологии производства оперативной памяти с помощью EUV-сканеров

Руководство компании Micron скептически относилось к переводу производства чипов оперативной памяти на техпроцессы с использованием сканеров диапазона EUV. Считалось, что этот вопрос не будет актуальным до 2023 года, хотя конкуренты в лице Samsung и SK Hynix уже вовсю заняты этой темой. Выяснилось, что Micron уже не так категорична в отношении техпроцессов EUV и в срочном порядке ищет специалистов.

Сборка сканера EUV

Сборка сканера EUV

По сообщению индустриальных источников, Micron разместила объявление с вакансией на должность специалиста по согласованию вопросов закупки, установки и эксплуатации сканеров диапазона EUV. Это инженерная должность на заводе в Бойсе, штат Айдахо, где находится штаб-квартира компании. Одной из обязанностей специалиста станут консультации и обсуждение закупок сканеров с производителем — нидерландской компанией ASML.

Как и остальные лидеры рынка DRAM, компания Micron находится на стадии массового производства чипов памяти с использованием третьего поколения техпроцесса класса 10 нм (1z). Можно рассчитывать, что выпуск чипов с использованием следующего техпроцесса — 1α (альфа) — начнётся в первой половине 2021 года. Для этого техпроцесса Micron уже не успевает адаптировать сканеры EUV, как и может пропустить поколение чипов 1β (бета). Использовать сканеры EUV компания намерена с выпуска микросхем поколения 1δ (дельта), которое станет седьмым в техпроцессе класса 10 нм. Возможно, Micron намерена сделать это раньше 2023 года.

Добавим, компания Samsung начала использовать сканеры EUV уже на этапе производства чипов поколения 1z. В этом она радикально опередила всех своих прямых соперников. Компания SK Hynix собирается начать использовать сканеры EUV в производстве в следующем году для выпуска чипов DRAM поколения 1α. Переход на EUV-литографию, хотя он очень затратный, обещает снижение себестоимости производства, что с лихвой окупится в длительной перспективе.

TSMC наращивает закупки оборудования ASML для EUV-литографии

В середине октября TSMC заявила, что в минувшем квартале реализация 5-нм продукции формировала до 8 % совокупной выручки компании, а в 2021 году эта доля только увеличится. EUV-литографию TSMC начала применять ещё в рамках 7-нм техпроцесса, но увеличение объёмов производства требует приобретения дополнительного количества сканеров ASML.

Источник изображения: TSMC

Источник изображения: TSMC

Тайваньское издание DigiTimes сегодня сообщило, что TSMC уже забронировала у ASML поставку в 2021 году не менее 13 литографических сканеров для работы со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Много это или мало, легко понять, обратившись к квартальной отчётности самой ASML — холдинга из Нидерландов, который является крупнейшим производителем подобного оборудования в мире.

За первые девять месяцев текущего года ASML удалось отгрузить 23 сканера для работы с EUV-литографией, по итогам всего года компания рассчитывает поставить не менее 35 сканеров. По сути, в третьем квартале ASML выпустила 14 сканеров EUV, поэтому TSMC могла зарезервировать количество систем, эквивалентное квартальному объёму производства ASML. Казалось бы, всё пропорционально, но не будем забывать, что TSMC является не единственным клиентом ASML. По данным TrendForce, к середине текущего года TSMC занимала 51,5 % рынка контрактных услуг по изготовлению полупроводниковых компонентов.

Безусловно, не всем клиентам ASML сейчас нужны именно EUV-сканеры, но в минувшем квартале выручка компании от их реализации впервые достигла 66 % совокупной, обойдя долю выручки от реализации традиционных DUV-сканеров. Другими словами, можно предположить, что TSMC забронировала примерно квартальную квоту на выпуск EUV-сканеров, оставив конкурентам не так много шансов получить подобное оборудование своевременно.

Подобная тенденция может объяснять беспокойство руководства Samsung Electronics, которое недавно целую неделю провело в Нидерландах, посещая предприятия ASML и ведя переговоры с этой компанией об углублении сотрудничества. Samsung уже начала серийное производство 5-нм изделий, поэтому в стабильных поставках EUV-сканеров корейская компания заинтересована не менее TSMC.

ASML не требуется экспортная лицензия для помощи Китаю в производстве 7-нм и даже 5-нм чипов

На днях представители нидерландской компании ASML — лидера в производстве сканеров для литографического производства чипов — сообщили, что экспортная лицензия необходима только для поставки в Китай сканеров EUV. Сканеры DUV (193 нм) и другое оборудование не требуют лицензии и продолжат поставляться в страну. Этого будет достаточно, чтобы развернуть в Китае выпуск 7-нм и даже 5-нм полупроводников.

В частности, на состоявшейся недавно в Китае выставке China Import Expo компания ASML развернула собственный стенд, где показала передовое оборудование для производства чипов со сканерами с длиной волны 193 нм. Речь идёт об устройстве по выравниванию масок, которое необходимо для высокоточного позиционирования фотошаблонов в процессе изготовления слоёв микросхем. От точности позиционирования зависит уровень брака. Чем точнее совмещён фотошаблон с кремниевой пластиной, тем выше уровень выхода годной продукции.

Современные сканеры DUV, пусть и за счёт большего числа проходов, способны заменить сканеры EUV на процессах вплоть до 5 нм. Очевидно, что это потребует намного большего количества масок (фотошаблонов) и операций по их выравниванию. Поэтому выравниватели масок начинают играть всё возрастающую роль в период запретов ввоза в Китай более совершенных сканеров EUV. К счастью для Китая, всё что связано с предыдущими технологиями производства микросхем всё ещё разрешено для ввоза. В качестве резервного варианта в Китае разрабатывают собственное оборудование для литографической проекции в диапазоне DUV.

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥