Сегодня 29 марта 2024
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Теги → asml
Быстрый переход

Власти США попытаются заставить нидерландскую ASML не обслуживать оборудование, установленное в Китае

Стремления и успехи Китая в развитии собственной полупроводниковой промышленности огорчают правительство США, и оно попытается надавить на Пекин через союзников — Вашингтон просит их ввести дополнительные ограничения на обслуживание соответствующего оборудования.

 Источник изображения: Applied Materials

Источник изображения: Applied Materials

«Мы обсуждаем с союзниками отказ от обслуживания ключевых компонентов», — заявил сегодня заместитель министра торговли по вопросам промышленности и безопасности Алан Эстевес (Alan Estevez). По его словам, США не планируют ограничивать поставки второстепенных компонентов, которые Китай может отремонтировать самостоятельно.

Американские чиновники были крайне удивлены, когда в 2023 году Huawei выпустила новый смартфон с 5G на базе 7-нм чипа китайского производства. Тем не менее, Huawei и её производственный партнёр Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC) по-прежнему используют зарубежное оборудование от Applied Materials Inc. и ASML Holding NV. Официальный Вашингтон запретил Applied Materials и другим американским компаниям обслуживать оборудование на включённых в санкционные списки китайских предприятиях, однако Япония и Нидерланды не присоединились к этим ограничениям.

Новая статья: Будущее чипмейкерства: FEL, SSMB, наноимпринт — или всё-таки LPP EUV?

Данные берутся из публикации Будущее чипмейкерства: FEL, SSMB, наноимпринт — или всё-таки LPP EUV?

Установлен первый литографический сканер ASML для выпуска 2-нм чипов по технологии Low-NA EUV

В контексте недавних достижений во взаимодействия компаний Intel и ASML как-то был упущен из виду тот факт, что производители чипов надеются освоить выпуск 2-нм продукции без перехода на использование более дорогих EUV-сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA). На этой неделе ASML сообщила, что первый сканер Twinscan NXE:3800E с низким значением числовой апертуры (Low-NA) был установлен одним из клиентов компании.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Данное оборудование, по словам AnandTech, характеризуется низким значением числовой апертуры (Low-NA), которое соответствует 0,33, но по сравнению с предыдущим поколением литографических сканеров ASML оно обладает увеличенной производительностью и более разумной стоимостью по сравнению со сканерами, использующими высокое значение числовой апертуры.

В любом случае, стоимость одного литографического сканера серии Twinscan NXE:3800E может превысить $200 млн, хотя конкретная сумма не раскрывается. Предполагается, что этот сканер сможет обрабатывать около 220 кремниевых пластин в час против прежних 160 штук, оправдывая свою высокую цену адекватной производительностью, ведь оборудование для EUV-литографии предыдущего поколения, мягко говоря, не отличалось высоким быстродействием.

Такой сканер клиенты ASML смогут применять для выпуска чипов по 2-нм и 3-нм технологиям. Новая система относится к пятому поколению оборудования ASML для работы со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) в сочетании с низким значением числовой апертуры (Low-NA). В планах ASML значится выпуск ещё как минимум одного поколения такого оборудования, которое получит обозначение Twinscan NXE:4600F и появится примерно в 2026 году.

Нидерланды призвали координировать антикитайские технологические санкции на уровне всего Евросоюза

Крупнейший поставщик литографического оборудования ASML базируется в Нидерландах, поэтому власти этой страны антикитайские санкции до сих пор координировали преимущественно с партнёрами в США и Японии. Тем не менее, власти Нидерландов настаивают на более тщательной координации санкций в технологической сфере на уровне всего Евросоюза.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Об этом стало известно с подачи Bloomberg, агентство пояснило, что Евросоюз сейчас разрабатывает общий для стран-участниц блока план по защите экономических интересов. Власти Нидерландов предлагают создать единый для Евросоюза список продукции и технологий, поставки которых в недружественные страны будут запрещены. Странам блока также предлагается предоставить больше полномочий в сфере определения правил поставок на экспорт оборудования и техники двойного назначения.

Давление США на своих союзников в Европе усиливается с прошлого года, но Нидерланды или Германия не хотят оказаться в условиях, когда соседние страны блока будут обладать некими послаблениями по сравнению с ними. Между странами Евросоюза, по мнению нидерландских чиновников, должно вестись более активное взаимодействие по обмену информацией в сфере экспортного контроля. Все вводимые в регионе меры должны предварительно обсуждаться со странами блока, а ключевые стратегические изменения приниматься только после обсуждения на высшем уровне заинтересованных государств. Страны Евросоюза должны обмениваться имеющейся у них аналитической информацией по конкретным проблемам, прежде чем выносить на общее обсуждение новые меры по решению этих проблем в сфере экспортного контроля.

ASML удалось запустить первый литографический сканер, позволяющий выпускать чипы по технологии Intel 14A

Недавно Intel призналась, что техпроцесс 14A будет первой ступенью EUV-литографии с использованием оборудования с высокой числовой апертурой (High-NA), а компоненты первого образца такого оборудования компания начала получать ещё в прошлом году от ASML. Теперь стало известно, что специалистам ASML удалось запустить соответствующее оборудование в Нидерландах.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Энн Келлехер (Ann Kelleher), которая в Intel отвечает за разработку технологий, во время конференции в Сан-Хосе на этой неделе подтвердила, что используемое для экспериментов оборудование с высоким значением числовой апертуры начало работу в лаборатории ASML, и тестовая кремниевая пластина уже была облучена с его помощью. Экземпляр литографического сканера ASML Twinscan EXE:5000 с аналогичными возможностями сейчас собирается в лаборатории Intel в Орегоне, но если судить по публикации Reuters, к полноценной работе он пока не готов.

Такое оборудование позволяет получить оптическое разрешение до 8 нм за одну экспозицию, что заметно лучше обычных EUV-сканеров, обеспечивающих разрешение 13,5 нм за одну экспозицию. Пока оборудование в Нидерландах проходит дальнейшую калибровку, и обрабатывать кремниевые пластины с целью получения полноценных тестовых чипов пока не готово. Предполагается, что после установки аналогичного сканера у себя в Орегоне Intel сможет начать подобные эксперименты, причём в рамках техпроцесса Intel 18A, хотя в серийном производстве соответствующее оборудование начнёт использовать не ранее 2026 года уже в рамках технологии Intel 14A. К концу 2027 года компания рассчитывает перейти на техпроцесс Intel 10A, который также будет использовать оборудование класса High-NA EUV.

ASML считает, что литографические сканеры нового поколения начнут использоваться в массовом производстве чипов с 2026 года

Отгрузить Intel первый литографический сканер с высокой числовой апертурой ASML успела ещё в декабре прошлого года, но уже тогда было известно, что в рамках серийного производства чипов по технологии Intel 18A подобное оборудование использоваться не будет. Сама ASML утверждает, что в массовом производстве сканеры поколения High-NA начнут использоваться клиентами с 2026–2027 года.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Напомним, что первый литографический сканер с высокой числовой апертурой Intel собирается использовать для экспериментов в своём исследовательском центре в Орегоне в сочетании с технологией Intel 18A, но в серийном варианте такое оборудование будет внедрено лишь на последующих ступенях литографии. На этой неделе, как сообщает Reuters, нидерландская компания ASML пригласила представителей прессы на своё предприятие, чтобы продемонстрировать образцы подобного оборудования и рассказать о перспективах их применения.

Интересно, что аналитики и представители ASML расходятся в своих представлениях о сроках разумного внедрения оборудования класса High-NA в условиях массового производства чипов. Эксперты Semianalysis, например, предполагают, что экономически целесообразным использование таких литографических сканеров станет не ранее 2030 года. Руководство ASML отвергает такие доводы, настаивая, что переход на новое поколение сканеров обеспечит экономическую отдачу гораздо раньше, и он начнётся уже в 2026 или 2027 году.

Интерес к такому оборудованию ASML уже проявляют Samsung и TSMC, но руководство последней недавно дало понять, что экономическая целесообразность будет серьёзно влиять на сроки внедрения технологии High-NA на конвейере этого крупнейшего контрактного производителя чипов в мире. Во-вторых, TSMC не готова переводить техпроцессы клиентов на новое оборудование, если это не будет им удобно. Словом, складывается впечатление, что TSMC пока не готова спешить с использованием литографического оборудования с высокой числовой апертурой.

Представители ASML на этой неделе пояснили, что выпускаемые ею литографические системы поколения High-NA весят 150 тонн, и в разобранном состоянии занимают 250 контейнеров. Чтобы привести такой сканер в готовность к работе, требуется труд 250 инженеров на протяжении шести месяцев. Сейчас ASML располагает от 10 до 20 заказами на поставку таких сканеров от клиентов, причём производители памяти в лице Micron и SK hynix тоже проявляют к ним интерес. К 2028 году компания ASML собирается наладит выпуск до 20 таких систем на ежегодной основе. Производители чипов при помощи нового оборудования могут уменьшить геометрические размеры полупроводниковых элементов на 40 %, увеличивая плотность размещения транзисторов до трёх раз. Одна такая система стоит около $380 млн. В течение этого года клиентам будет отгружено несколько экземпляров такого оборудования.

ASML показала первый рекламный фильм, который никто не снимал — почти всё в нём сделал ИИ

Нидерландская компания ASML — безусловный лидер рынка литографических сканеров для производства полупроводников — представила «первый рекламный фильм», созданный искусственным интеллектом. Видео создано с использованием моделей Midjourney и алгоритмов RunwayAI с минимальным вмешательством людей в процесс монтажа и редактирования, и оно поражает воображение. Это будущее, которое наступило, и которое скоро многое изменит в жизни каждого человека.

 Кадр из созданного ИИ фильма ASML «Стоя на плечах гигантов». Источник изображения: ASML

Кадр из созданного ИИ фильма ASML «Стоя на плечах гигантов». Источник изображения: ASML

Ролик ASML под названием «Стоя на плечах гигантов» отсылает к известному высказыванию Исаака Ньютона: «Если я видел дальше других, то потому, что стоял на плечах гигантов». В представлении ASML, сотрудники которой составляли текстовые подсказки, микропроцессорная индустрия и все современные достижения в области вычислений также стоят на плечах гигантов, включая самого сэра Ньютона.

Кстати, с Ньютоном и яблоком в его руке пришлось особенно помучиться, признаются в ASML. Это оказалась самая сложная сцена. Команде операторов потребовалось более 20 попыток, чтобы правильно её воспроизвести. Для этого было сгенерировано более 9800 кадров, после чего можно было удовлетвориться результатом.

В целом фильм был создан с использованием 1963 подсказок, которые дали 7852 изображения. Цифровые картинки были отредактированы, а затем отрисованы на более чем 900 компьютерах. Наконец, полученные рендеры были обработаны алгоритмами RunwayAI, и общий объём кадров составил 25 957 штук по 1000 Мбайт на каждый из них.

В прошлом квартале Китай определял по 40 % выручки компаний ASML и Lam Research

Заявленная на недавней квартальной отчётной конференции ASML доля выручки на китайском рынке в 39 % от совокупной не является уникальным для этого поставщика литографических сканеров феноменом. Статистика американской Lam Research гласит, что в прошлом квартале китайские клиенты формировали 40 % её выручки.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Ресурс South China Morning Post отследил динамику выручки американского поставщика оборудования для травления кремниевых пластин Lam Research в Китай, и обнаружил, что во втором квартале прошлого года данное направление формировало 26 % всей выручки компании, в третьем квартале доля Китая выросла до 48 %, а в четвёртом ограничилась 40 %. Примечательно, что год назад Китай и Южная Корея сохраняли паритет с точки зрения важности для Lam Research, занимая по 22 % выручки компании. В дальнейшем влияние Китая только увеличивалось, поскольку в четвёртом квартале Южная Корея формировала лишь 19 % выручки компании, а Япония занимала третье место с 14 %.

ASML, как уже сообщалось, в прошлом квартале 39 % своей выручки получила в Китае, тем самым обеспечив превосходство Поднебесной над Тайванем, Японией и Южной Кореей. В третьем квартале доля КНР в структуре выручки этого нидерландского производителя литографического оборудования тоже была выше, чем в четвёртом, и достигала 46 %. Можно утверждать, что усугубление санкций США сказывается на динамике поставок литографического оборудования в Китай, а ведь оно произошло как раз осенью прошлого года. По итогам всего 2023 года доля выручки ASML, полученной в Китае, выросла с 14 до 29 % по сравнению с 2022 годом. В прошлом году, как уточняет руководство AMSL, компании пришлось удовлетворять заказы, размещённые до конца 2022 года.

Статистика китайских таможенных органов отдельно показала, что с сентября по декабрь Китай получил на 47 % меньше литографических систем из Нидерландов, а в стоимостном выражении импорт сократился на 72 % до $58,8 млрд. В то же время поставки оборудования для очистки кремниевых пластин в КНР выросли на 667 % до $3,85 млрд, поэтому говорить о наличии однонаправленных тенденций нельзя.

Аналитики отмечают, что рост выручки ASML в целом по итогам прошлого квартала в большей мере отображает ситуацию на рынке памяти типа HBM, поскольку её производители на фоне бума систем искусственного интеллекта бросились активно наращивать объёмы выпуска и закупать оборудование. В данном случае для выпуска HBM требуются EUV-сканеры, которые приносят ASML немало выручки в силу своей дороговизны.

Объём заказов ASML располнел в 3,5 раза за квартал, а Китай стал крупнейшим покупателем её оборудования для выпуска чипов

Нидерландская компания ASML остаётся крупнейшим производителем литографических сканеров — оборудования, необходимого для производства полупроводниковых компонентов. В прошлом квартале ей удалось увеличить объём заказов в денежном выражении в 3,5 раза по сравнению с предыдущими тремя месяцами года, до рекордных €9,2 млрд.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Как поясняет Bloomberg, в числовом выражении сумма заказов выросла по итогам минувшего квартала с 2,6 до 9,19 млрд евро. Спрос толкали вверх преимущественно самые современные литографические сканеры. В прошлом году выручка ASML выросла на 30 % до 27,6 млрд евро, и генеральный директор Петер Веннинк (Peter Wennink) заявил, что это было пиковым значением прироста, поскольку повторить его в текущем году уже не получится.

Примечательно, что отраслевые аналитики оценивали портфель заказов ASML в четвёртом квартале примерно в 3,6 млрд евро, а по факту он оказался почти в три раза больше. Из общей суммы 9,19 млрд евро на долю самых современных систем для работы с EUV-литографией пришлось 5,6 млрд евро. Финансовый директор компании Роджер Дассен (Roger Dassen) пояснил, что товарные запасы на стороне клиентов приближаются к норме и определённо находятся на лучших уровнях, чем пару кварталов назад.

Высокий спрос на литографическое оборудование ASML со стороны китайских производителей чипов на протяжении 2023 года позволил компании компенсировать негативное влияние кризисных явлений в мировой экономике на собственную выручку. Если в первом квартале прошлого года китайские клиенты формировали только 8 % выручки ASML, то в четвёртом квартале их доля выросла до 39 %, превратив КНР в крупнейший рынок сбыта продукции компании. Кстати, в третьем квартале доля Китая достигала 46 % выручки ASML, поэтому в четвёртом квартале наблюдался некоторый спад, вызванный вступлением в силу новых санкций. Южная Корея остаётся вторым по величине рынком сбыта для ASML со своими 25 % общей выручки, на Тайвань приходятся 13 %, США довольствуются 11 %, а страны Европы, Африки и Ближнего Востока (EMEA) сообща формируют 8 % выручки компании, тогда как в первом квартале их доля не превышала 1 %. Переток заказов из Тайваня и США наблюдался не только в Китай, но и в регион EMEA.

Аналитики Citigroup ожидали роста портфеля заказов ASML в первой половине текущего года, но он произошёл несколько раньше, ещё в прошлом квартале. В следующем году бизнес ASML тоже будет расти. В прошлом квартале выручка компании последовательно увеличилась с 6,67 до 7,24 млрд евро. В текущем году, по оценкам руководства ASML, до 15 % китайской выручки компании пострадает от введённых ранее экспортных ограничений США. На фоне оптимистичной отчётности акции ASML выросли в Амстердаме в цене на 7,5 %, что является максимальным приростом с ноября 2022 года.

США вынудили ASML разрывать контракты на поставку литографических систем в Китай

Как сообщает информагентство Bloomberg, по прямому указанию из Белого дома компания ASML раньше срока разорвала ряд контрактов с китайскими компаниями на поставку оборудования для производства чипов. Очередной пакет санкций против Китая начинает действовать в январе 2024 года. Оборудование надеялись отгрузить до установленной даты, но этому помешал звонок из администрации Байдена.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Если верить сообщению из анонимного источника, слова которого приводит информагентство, советник по национальной безопасности США Джейк Салливан (Jake Sullivan) позвонил правительству Нидерландов по этому вопросу в конце прошлого года. Однако голландские официальные лица попросили США обсудить поставки в Китай систем для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV, длина волны 193 нм) напрямую с ASML.

Литографические сканеры для производства полупроводников диапазона EUV с длиной волны 13,5 нм были запрещены к поставкам в Китай около двух лет назад. Они могут помочь с выпуском чипов с разрешением до 3 нм и менее. Сканеры DUV тоже могут приблизиться к таким нормам, но только за счёт множественного применения масок для каждого критически важного слоя, что удорожает производство. Впрочем, это не помешало китайским производителям наладить выпуск 7-нм чипов и продолжить совершенствовать техпроцессы.

Поэтому в США расценивают поставки сканеров DUV в Китай как значительную угрозу. Нюанс в том, что это бьёт по производителю оборудования — нидерландской компании ASML. Руководство компании пытается уверить инвесторов, что всё не так страшно, и доля китайских клиентов едва превышает 15 %. Однако статистика говорит, что осенью 2023 года от продаж в Китай ASML получала почти половину выручки.

 Источник изображения: www.bloomberg.com

Источник изображения: www.bloomberg.com

Ожидая очередного запрета с нового 2024 года, Китай сильно нарастил закупки оборудования, и доля продаж продукции ASML в Китай поднялась последовательно с 8 % в первом квартале до 24 % во втором и до 46 % в третьем. Можно только представлять, что покажет четвёртый квартал, когда в захлопывающуюся дверь пытались протолкнуть как можно больше литографических систем и смежной техники.

Власти Нидерландов якобы попытались уйти от ответственности, перебросив решение неприятного вопроса непосредственно руководству ASML. В то же время представитель ASML прокомментировал происшествие изданию Bloomberg. Компания утверждает, что в последний момент экспортная лицензия была отменена властями страны.

 Источник изображения:

Данные китайской таможни по темпам ввоза оборудования ASML в Китай в 2023 году в сравнении с 2022 годом. Источник изображения: www.bloomberg.com

Подробности происшедшего не сообщаются. По словам ASML, отмена поставок в последний момент не сильно повлияет на доходы компании, поскольку она затронула небольшое количество оборудования считаным покупателям. Механизм разрыва сделки и ответственности сторон тоже не раскрыты. Но ясно одно, США крайне обеспокоены способностью Китая выпускать даже не самые передовые чипы, и любой новый станок в Поднебесную рассматривается как угроза.

Развитие под санкциями: китайская SMIC разрабатывает технологии выпуска 3-нм чипов без EUV

Несмотря на отсутствие доступа к оборудованию для выпуска чипов с литографией в экстремальном ультрафиолете (EUV) из-за санкций, китайская компания SMIC продолжает разработку 5-нм и 3-нм техпроцессов производства чипов. Ранее SMIC удалось наладить серийное производство 7-нм микросхем, опираясь исключительно на литографию в глубоком ультрафиолете (DUV), что само по себе не является невозможным — техпроцесс TSMC N7P также не использует EUV.

 Источник изображения: SMIC

Источник изображения: SMIC

В отчёте Nikkei утверждается, что сразу после запуска 7-нм техпроцесса 2-го поколения, SMIC создала исследовательскую группу для работы над 5-нм и 3-нм техпроцессами. Команду возглавляет ранее работавший в TSMC и Samsung содиректор SMIC Лян Монг-Сонг (Liang Mong-Song). «Нет более умного учёного или инженера, чем этот парень, — так охарактеризовал его Дик Терстон (Dick Thurston), бывший главный юрисконсульт TSMC. — Он действительно один из самых блестящих умов, которых я видел в области полупроводников».

SMIC прошла долгий путь от небольшой полупроводниковой фабрики до пятого по величине контрактного производителя микросхем в мире. На фоне растущей напряжённости между США и Китаем компания была включена в санкционный список Министерства торговли США и потеряла доступ к передовым инструментам для обработки кремниевых пластин, что серьёзно замедлило её развитие и внедрение новых технологических процессов.

На данный момент литографические машины ASML Twinscan NXT:2000i являются лучшими инструментами, которыми располагает SMIC — они могут производить травление с разрешением до 38 нм. Этот уровень точности обеспечивает экспонирование с шагом 38 нм с использованием двойной фотомаски, чего достаточно для производства чипов класса 7 нм. Согласно исследованиям ASML и IMEC, при 5 нм шаг металла уменьшается до 30-32 нм, а при 3 нм — до 21-24 нм, что уже требует применения EUV.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Но использование инструментов литографии со сверхвысоким разрешением (13 нм для EUV с низкой числовой апертурой) — не единственный путь к достижению сверхмалых размеров транзисторов. Другой вариант предусматривает нанесение нескольких последовательных масок, но это сложный процесс, который увеличивает продолжительность производственного цикла, снижает процент выхода годных изделий, увеличивает износ оборудования и повышает затраты. Однако без доступа к EUV-литографии у SMIC просто нет другого выбора, кроме как использовать тройное, четверное или даже пятикратное паттернирование.

Терстон считает, что под руководством Лян Монг-Сонга SMIC сможет производить (если уже не производит) 5-нм чипы в больших количествах без использования инструментов EUV. Однако сегодняшний отчёт Nikkei впервые сообщает о возможной способности SMIC разработать в обозримом будущем 3-нм производственный процесс на оборудовании класса DUV.

ASML отгрузила Intel первый литографический сканер с высокой числовой апертурой

Длительное время способность Intel выпускать чипы по передовому для компании техпроцессу 18A привязывалась к литографическому оборудованию с высоким значением числовой апертуры (High-NA), но недавно выяснилось, что оно имеет значение лишь для экспериментов, а не серийного производства. Тем не менее, первая такая система производства ASML лишь недавно была отгружена поставщиком для нужд Intel.

 Источник изображения: Intel, X

Источник изображения: Intel, ASML, X

Представители Intel уже давно не без гордости регулярно говорили о намерениях компании стать первым клиентом ASML, получающим литографические сканеры с увеличенным с 0,33 до 0,55 значением числовой апертуры. Данная характеристика позволяет при использовании сверхжёсткого ультрафиолетового излучения (EUV) добиться линейного разрешения 8 нм против 13 нм у оборудования со значением числовой апертуры 0,33. Формально, последнее тоже позволяет изготавливать чипы по технологиям «тоньше» 2 нм, но потребует более сложной оснастки из-за необходимости двойной экспозиции и увеличит продолжительность производственного цикла.

Впрочем, если учесть, что ASML лишь на этой неделе подтвердила отправку первого литографического сканера с высокой числовой апертурой для нужд Intel, и в массовом производстве по техпроцессу 18A последняя всё равно будет полагаться на оборудование предыдущего поколения, для данного клиента это событие в большей степени обеспечивает некоторую фору при освоении последующих техпроцессов, которые в массовом производстве будут внедрены уже в 2026 и 2027 годах. Напомним, что во второй половине десятилетия Intel рассчитывает войти в число двух крупнейших контрактных производителей чипов, и новейшие техпроцессы она будет предлагать сторонним клиентам с минимальной задержкой относительно момента внедрения на собственном производстве. К середине десятилетия Intel рассчитывает превзойти TSMC и Samsung по степени продвинутости используемых техпроцессов. Первые образцы изделий, выпускаемых по технологии Intel 18A, появятся уже в следующем квартале.

В заявлениях ASML не говорится о модели литографического сканера, который был отгружен компании Intel, ни о конечном адресе доставки, но из неофициальных источников известно, что речь идёт о прототипе Twinscan EXE:5000, который будет доставлен в исследовательский центр Intel в штате Орегон, где расположена передовая лаборатория компании. Система упакована в 250 крупных ящиков и занимает 13 контейнеров, с учётом времени доставки и последующего монтажа Intel сможет приступить к её эксплуатации лишь через несколько месяцев. Считается, что в серийном производстве Intel будет использовать более совершенные сканеры Twinscan EXE:5200, которые будут поставлены позже. Стоимость каждой такой системы измеряется несколькими сотнями миллионов долларов США. По крайней мере, Twinscan EXE:5200 оценивается аналитиками в 250 млн евро.

Intel оказалась самым активным покупателем оборудования ASML для 2-нм литографии

Нидерландская компания ASML является крупнейшим поставщиком литографических сканеров, поэтому спрос на её передовые решения очень высок. В следующем году она собирается поставить клиентам не более 10 единиц оборудования, пригодного для выпуска 2-нм чипов. Из них шесть единиц получит компания Intel, которая соответствующие техпроцессы называет 20A и 18A.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

По крайней мере, об этом сообщает TrendForce со ссылкой на южнокорейские СМИ. Samsung Electronics, по их данным, тоже проявляет активность в закупке профильного оборудования ASML, поэтому интересы TSMC в данной ситуации будут учитываться в наименьшей степени. После 2024 года количество ежегодно выпускаемых ASML литографических сканеров, пригодных для выпуска 2-нм продукции, может увеличиться до 20 штук.

По всей видимости, речь идёт о так называемых EUV-сканерах с высоким значением числовой апертуры. Как отмечалось ранее, компания Intel начала получать их от ASML в числе первых, хотя даже в рамках серийного производства по технологии Intel 18A использовать их не планирует, а применяет данное оборудование исключительно в экспериментальных целях. Уже в следующем квартале Intel начнёт тестовый выпуск продукции по «ангстремному» техпроцессу 18A, а серийное производство будет развёрнут к концу 2024 года.

Samsung, которая недавно заключила дополнительное соглашение с ASML, не скрывает своих намерений использовать будущий исследовательский центр в Южной Корее для ускорения освоения новых технологий, включая 2-нм техпроцесс, который в массовом производстве должен быть внедрён к концу 2025 года. Корейская компания собирается применять литографическое оборудование ASML с высоким значением числовой апертуры при производстве микросхем памяти DRAM и логических компонентов.

TSMC уже продемонстрировала крупным клиентам вроде Apple и NVIDIA прототипы 2-нм изделий, а в массовом производстве рассчитывает внедрить этот техпроцесс в 2025 году, как и планировалось изначально. Ко второй половине 2025 года она внедрит выпуск микросхем с подводом питания с оборотной стороны кремниевой пластины в сочетании с 2-нм техпроцессом, а массово такие изделия будут выпускаться с 2026 года.

ASML и Samsung потратят $760 млн на исследовательский центр в Южной Корее

На этой неделе состоялся важный государственный визит — президент Южной Кореи Юн Сок Ёль (Yoon Suk Yeol) отправился в Нидерланды, где располагается штаб-квартира ASML — крупнейшего в мире поставщика литографических сканеров. Результатом визита стало соглашение между ASML и Samsung о строительстве исследовательского центра в Южной Корее.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Как поясняет Bloomberg со ссылкой на комментарии представителей ASML, новый исследовательский центр, в развитие которого стороны собираются вложить $760 млн, будет специализироваться на оборудовании и технологиях, связанных со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Когда оно применяется в литографии, то позволяет выпускать полупроводниковые компоненты с самыми «тонкими» на сегодняшний день технологическими нормами.

У ASML в Южной Корее уже есть четыре сервисных центра, которые нужны для обслуживания местных клиентов, включая и Samsung. Появление исследовательского центра позволит той же Samsung быстрее осваивать использование нового технологического оборудования ASML и эффективнее адаптировать собственные техпроцессы под возможности такого оборудования. В свою поездку в Нидерланды президент Южной Кореи прихватил исполнительного председателя совета директоров Samsung Electronics Ли Джэ Ёна (Lee Jae-yong) и председателя правления SK Group Чей Тэ Вона (Chey Tae-won).

Лидерам двух стран также удалось договориться о сотрудничестве в образовательной сфере. Южнокорейские рабочие и студенты смогут получать профильное образование в Нидерландах, чтобы в случае необходимости получать рабочие места как в европейской, так и в южнокорейской полупроводниковых отраслях. Компания ASML в подобных трудовых мигрантах крайне заинтересована, поскольку на фоне ужесточения иммиграционного законодательства и необходимости расширения производства испытывает кадровый голод.

Программа визита президента Южной Кореи в Нидерланды включала и посещение предприятия ASML, на котором производят сканеры для работы со сверхжёсткой ультрафиолетовой литографией. Компанию Юн Сок Ёлю, который стал первым главой государства, посетившим «святая святых» ASML, составили генеральный директор компании Петер Веннинк (Peter Wennink) и король Нидерландов Виллем-Александр (Willem-Alexander).

Машины для печати 5-нм чипов Canon будет продавать в десять раз дешевле ASML

В середине прошлого месяца японская компания Canon начала поставлять клиентам оборудование для печати 5-нм чипов без использования фотолитографии, а в этом месяце представители японского производителя пояснили, что такое оборудование будет примерно в десять раз дешевле систем для выпуска 5-нм чипов от ASML, а также будет потреблять в десять раз меньше электроэнергии.

 Источник изображения: Canon

Источник изображения: Canon

Напомним, ранее Canon хоть и выпускала литографическое оборудование, по его разрешающей способности могла конкурировать с ASML лишь в некоторой части ассортимента последней, причём в не самой передовой. На протяжении десяти лет Canon разрабатывала технологию нанопечати чипов, которая не подразумевает использования проекции фотошаблонов на кремниевую пластину. Стоит отметить, что оборудование для нанопечати предназначено для создания сравнительно небольших партий чипов, и не может претендовать на соперничество с системами ASML в массовом производстве. Уступая в производительности традиционному фотолитографическому оборудованию, новое технологическое решение обладает рядом преимуществ, по словам генерального директора Canon Фудзио Митараи (Fujio Mitarai), на которого ссылается Bloomberg.

По сравнению с оборудованием ASML для выпуска 5-нм чипов, предлагаемые Canon машины окажутся в 10 раз дешевле, как считает руководитель компании. Впрочем, окончательное решение по принятой ценовой политике пока не принято, но совершенно очевидно, что новый тип технологического оборудования Canon сделает выпуск чипов более доступным для небольших компаний. Даже крупные контрактные производители смогут охотнее браться за небольшие партии изделий, используя оборудование Canon, по мнению главы последней. Во-вторых, оборудование Canon данного семейства потребляет в десять раз меньше электроэнергии, чем используемое ASML для EUV-литографии. В наш век борьбы за экологию это важно, да и расходы на электроэнергию как таковые тоже удастся снизить.

Санкции японских властей против Китая, которые действуют с июля этого года, оборудование для нанопечати чипов напрямую не упоминают, но руководство Canon считает, что компания всё равно не сможет поставлять его китайским клиентам, поскольку с его помощью последние смогли бы выпускать компоненты «тоньше» 14-нм, а это не приветствуется ни японскими властями, ни США, ни другим их важным союзником — Нидерландами.


window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Крупное обновление добавило в No Man’s Sky возможность создавать собственные космические корабли — фанаты мечтали об этом с 2016 года 2 ч.
CD Projekt раскрыла, как продвигается разработка The Witcher 4, и похвасталась успехами Cyberpunk 2077 3 ч.
Громкие анонсы «без рекламы и лишней болтовни»: ведущие инди-разработчики устроят собственную игровую презентацию The Triple-i Initiative 4 ч.
Databricks представила открытую LLM DBRX, превосходящую GPT-3.5 Turbo 4 ч.
«Всегда обидно, когда хейтеры оказываются правы»: Earthblade от авторов Celeste не выйдет и в 2024 году 5 ч.
США запретили властям использовать ИИ, который ущемляет американцев 5 ч.
Экшен-платформер Nine Sols от создателей Devotion наконец получил дату выхода — это смесь Hollow Knight и Sekiro: Shadows Die Twice в стиле даопанка 7 ч.
Разработчики Homeworld 3 раскрыли, как улучшат игру после критики фанатов 8 ч.
Экс-глава EA Russia Тони Уоткинс сделает Astrum Entertainment «компанией №1» на российском рынке видеоигр 10 ч.
Магазин чат-ботов ChatGPT провалился, но им пользуются ученики школ и университетов 11 ч.
Amazon потратит почти $150 млрд на расширение ЦОД, чтобы стать лидером в области ИИ 20 мин.
Новая статья: Обзор лазерного 4К-проектора Hisense Laser Mini Projector C1: передовые технологии в действии 2 ч.
В Китае запустили связь 5.5G — первыми её поддержку получили смартфоны Oppo Find X7 3 ч.
Apple представит обновлённые планшеты iPad Pro и iPad Air в начале мая, если слухи верны 4 ч.
Глобальное потепление замедлило вращение Земли, и в этом уже нашли плюсы 5 ч.
Nautilus запустила линейку инфраструктурных решений EcoCore для модульных ЦОД 5 ч.
Китай нарастил закупки нидерландского оборудования для выпуска чипов в несколько раз, несмотря на санкции 6 ч.
Оптика для HBM: стартап Celestial AI получил ещё $175 млн инвестиций, в том числе от AMD и Samsung 6 ч.
Logitech представила беспроводную низкопрофильную клавиатуру Signature Slim K950 6 ч.
Под давлением пользователей Google преодолела аппаратные ограничения для внедрения ИИ в Pixel 8 7 ч.