Сегодня 25 июля 2024
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Теги → euv
Быстрый переход

В рамках 2-нм техпроцесса Samsung увеличит количество EUV-слоёв на 30 %

Производители полупроводниковых компонентов используют так называемую EUV-литографию лишь на определённых этапах технологического процесса, их количество от поколения к поколению возрастает. Так, если Samsung при производстве 3-нм чипов ограничивалась 20 слоями с EUV, то после перехода на 2-нм техпроцесс их количество вырастет на 30 %.

 Источник изображения: Samsung Electronics

Источник изображения: Samsung Electronics

Об этом со ссылкой на собственные источники на прошлой неделе сообщило южнокорейское издание The Elec. Другими словами, в рамках 2-нм технологии Samsung будет применять литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением для обработки примерно 27 слоёв. Для сравнения, TSMC при производстве чипов по техпроцессу N3 обрабатывает с помощью EUV-литографии 25 слоёв. По данным корейских источников, после перехода в 2027 году на выпуск 1,4-нм чипов компания Samsung рассчитывает обрабатывать по методу EUV более 30 слоёв.

Соответственно, все эти планы подразумевают, что Samsung потребуется больше литографических сканеров, а также сопутствующей оснастки, рассчитанной на работу с EUV-литографией. Крупнейший поставщик такого оборудования, нидерландская ASML, намеревается за ближайшие два года отгрузить клиентам около 70 соответствующих сканеров, каждый из которых стоит более $100 млн. Потребность производителей чипов в капитальных затратах вырастет после перехода на оборудование с высоким значением числовой апертуры (High-NA), поскольку соответствующий сканер будет обходиться в $300 млн. Наиболее активным покупателем этих сканеров станет Intel, а вот TSMC не торопится внедрять данную технологию именно из экономических соображений.

Micron запустит опытное производство на EUV-оборудовании в этом году

В отличие от крупнейших производителей полупроводниковой продукции, таких как Intel и TSMC, компания Micron не спешит развёртывать оборудование со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) для производства DRAM. Но уже в этом году Micron намеревается запустить опытное производство с использованием EUV на своём техпроцессе 1γ (1-gamma) класса 10 нм, передаёт Technews.

 Источник изображения: micron.com

Источник изображения: micron.com

Сейчас вся серийная продукция компании выпускается с использованием DUV-литографии, то есть на основе глубокого ультрафиолета. Но уже до конца года Micron запустит опытное производство на EUV-оборудовании, а в 2025 году оно может стать полномасштабным. Корейская Samsung ещё в 2020 году доложила, что успешно отгрузила миллион первых в отрасли модулей DDR4 класса 10 нм (D1x), произведённых на EUV-оборудовании. SK hynix стала применять такую литографию в 2021 году для выпуска чипов DDR класса 10 нм; и уже в этом году она намеревается потратить на закупку этого оборудования $1,5 млрд.

Ранее гендиректор Micron Санджай Мехротра (Sanjay Mehrotra) сообщил инвесторам, что подготовка опытного производства на основе техпроцесса 1γ класса 10 нм продвигается успешно, а запуск массового выпуска продукции нового поколения запланирован на 2025 год. Технология выпуска памяти DRAM с использованием 1γ разрабатывается на заводе компании в японской Хиросиме — предприятие станет первой площадкой для опытного производства.

Чтобы удовлетворить спровоцированный бумом технологий искусственного интеллекта высокий спрос на высокопроизводительные чипы памяти Micron строит пилотную производственную линию для выпуска HBM в США и рассматривает возможность запуска второй линии в Малайзии.

ASML обновила рекорд плотности транзисторов на EUV-сканере и рассказала о перспективной технологии Hyper-NA

ASML доложила на конференции Imec ITF World 2024, что ей удалось побить собственный рекорд плотности размещения транзисторов с помощью своего первого литографического сканера с высокой числовой апертурой (High-NA), установленный немногим более месяца назад. Компания также сообщила о перспективной разработке более совершенного оборудования класса Hyper-NA и изложила план по двухкратному повышению производительности, сообщает Tom’s Hardware.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Бывший президент и технический директор ASML Мартин ван ден Бринк (Martin van den Brink), сейчас работающий в компании консультантом, сообщил, что ASML разработает сканер Hyper-NA, более совершенный, чем существующий High-NA. Он также изложил план по снижению затрат на производство чипов на оборудовании со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) за счёт увеличения скорости обработки до 400–500 кремниевых пластин в час — это более чем вдвое превышает актуальный показатель в 200 пластин в час. И предложил модульную унифицированную конструкцию перспективных линеек EUV-оборудования ASML.

 Источник изображения: tomshardware.com

Источник изображения: tomshardware.com

Осуществив дополнительную настройку оборудования, сообщил Мартин ван ден Бринк, ASML удалось напечатать на оборудовании High-NA EUV линии плотностью 8 нм — это рекорд для производственного сканера. Предыдущий рекорд компания установила в апреле, напечатав линии плотностью 10 нм на машине в совместной с Imec лаборатории в нидерландском Вельдховене. Для сравнения, стандартные машины ASML Low-NA EUV способны печатать элементы размером до 13,5 нм (критический размер — critical dimensions или CD), а новый сканер EXE:5200 High-NA позволяет создавать транзисторы с элементами до 8 нм, и ASML продемонстрировала, что он соответствует заявленным характеристикам.

Теперь компании предстоит провести работу по оптимизации системы и её подготовке к массовому производству. Эта работа уже ведётся в Нидерландах, а Intel, единственный производитель чипов, располагающий полностью собранной системой High-NA, повторяет шаги разработчика по мере её ввода в эксплуатацию на заводе D1X в Орегоне. На начальном этапе Intel будет использовать её в исследованиях и разработке, после чего запустит на EXE:5200 производство продукции класса 14A. Ван дер Бринк ещё раз упомянул машину Hyper-NA EUV, но окончательное решение по ней ещё не принято — ASML, вероятно, пока оценивает интерес отрасли.

 Источник изображения: tomshardware.com

Источник изображения: tomshardware.com

Современная стандартная машина EUV работает со светом длиной волны 13,5 нм и числовой апертурой 0,33 (это мера способности оборудования фокусировать свет). Оборудование с высокой числовой апертурой 0,55 использует ту же длину волны, но позволяет печатать более мелкие элементы. Система Hyper-NA, о которой говорит Мартин ван дер Бринк, сохранит ту же длину волны света, но числовая апертура увеличится до 0,75, позволив печатать ещё более мелкие элементы. Критический размер элементов для такого оборудования компания не указала, но привела соответствующий Hyper-NA шаг металлизации (metal pitch), то есть минимальное расстояние между металлическими элементами на чипе — этот показатель варьируется от 16 нм на узлах A3 до 10 нм на узлах менее A2 и датируется второй половиной следующего десятилетия.

SK hynix начнёт изучать оборудование ASML для EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры

В конце декабря прошлого года нидерландская компания ASML отгрузила первый экземпляр литографического сканера поколения EUV High-NA, который характеризуется высоким значением числовой апертуры и повышает разрешающую способность оборудования при производстве полупроводниковых компонентов. Получателем этой установки стала компания Intel, но руководство SK hynix утверждает, что этот корейский производитель памяти тоже интересуется таким оборудованием.

 Источник изображения: SK hynix

Источник изображения: SK hynix

Отметим, что производители памяти в целом достаточно долго тянули с переходом на так называемую EUV-литографию, и та же SK hynix начала применять профильное оборудование только в 2021 году при производстве микросхем памяти типа DRAM. По информации Business Korea, генеральный директор SK hynix Квак Но Чон (Kwak Noh-jung) на мероприятии Ассоциации производителей полупроводниковой продукции Южной Кореи поделился некоторыми планами компании относительно развития бизнеса.

Во-первых, он заявил, что не может комментировать слухи о готовности SK hynix построить предприятие по упаковке чипов HBM непосредственно в штате Индиана. По его словам, все американские штаты являются потенциальными кандидатами на размещение подобного предприятия.

Во-вторых, глава SK hynix опроверг возобновление переговоров между Western Digital и Kioxia о покупке бизнеса последней. Как известно, именно SK hynix своими возражениями сорвала эти переговоры в прошлом году. Неизменной остаётся позиция SK hynix по этому вопросу и сейчас, как отметил глава компании. Впрочем, он добавил, что если Kioxia готова к взаимовыгодному сотрудничеству с SK hynix, то последняя всегда готова рассмотреть соответствующие предложения.

Наконец, глава SK hynix признался, что компания готовится получить от ASML оборудование для производства чипов памяти с использованием EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры. При этом он отказался пояснять, когда данное оборудование начнёт применяться компанией в условиях массового производства, но дал понять, что это произойдёт в нужный момент.

Объём заказов ASML располнел в 3,5 раза за квартал, а Китай стал крупнейшим покупателем её оборудования для выпуска чипов

Нидерландская компания ASML остаётся крупнейшим производителем литографических сканеров — оборудования, необходимого для производства полупроводниковых компонентов. В прошлом квартале ей удалось увеличить объём заказов в денежном выражении в 3,5 раза по сравнению с предыдущими тремя месяцами года, до рекордных €9,2 млрд.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Как поясняет Bloomberg, в числовом выражении сумма заказов выросла по итогам минувшего квартала с 2,6 до 9,19 млрд евро. Спрос толкали вверх преимущественно самые современные литографические сканеры. В прошлом году выручка ASML выросла на 30 % до 27,6 млрд евро, и генеральный директор Петер Веннинк (Peter Wennink) заявил, что это было пиковым значением прироста, поскольку повторить его в текущем году уже не получится.

Примечательно, что отраслевые аналитики оценивали портфель заказов ASML в четвёртом квартале примерно в 3,6 млрд евро, а по факту он оказался почти в три раза больше. Из общей суммы 9,19 млрд евро на долю самых современных систем для работы с EUV-литографией пришлось 5,6 млрд евро. Финансовый директор компании Роджер Дассен (Roger Dassen) пояснил, что товарные запасы на стороне клиентов приближаются к норме и определённо находятся на лучших уровнях, чем пару кварталов назад.

Высокий спрос на литографическое оборудование ASML со стороны китайских производителей чипов на протяжении 2023 года позволил компании компенсировать негативное влияние кризисных явлений в мировой экономике на собственную выручку. Если в первом квартале прошлого года китайские клиенты формировали только 8 % выручки ASML, то в четвёртом квартале их доля выросла до 39 %, превратив КНР в крупнейший рынок сбыта продукции компании. Кстати, в третьем квартале доля Китая достигала 46 % выручки ASML, поэтому в четвёртом квартале наблюдался некоторый спад, вызванный вступлением в силу новых санкций. Южная Корея остаётся вторым по величине рынком сбыта для ASML со своими 25 % общей выручки, на Тайвань приходятся 13 %, США довольствуются 11 %, а страны Европы, Африки и Ближнего Востока (EMEA) сообща формируют 8 % выручки компании, тогда как в первом квартале их доля не превышала 1 %. Переток заказов из Тайваня и США наблюдался не только в Китай, но и в регион EMEA.

Аналитики Citigroup ожидали роста портфеля заказов ASML в первой половине текущего года, но он произошёл несколько раньше, ещё в прошлом квартале. В следующем году бизнес ASML тоже будет расти. В прошлом квартале выручка компании последовательно увеличилась с 6,67 до 7,24 млрд евро. В текущем году, по оценкам руководства ASML, до 15 % китайской выручки компании пострадает от введённых ранее экспортных ограничений США. На фоне оптимистичной отчётности акции ASML выросли в Амстердаме в цене на 7,5 %, что является максимальным приростом с ноября 2022 года.

США опоздали с санкциями: китайский 7-нм чип для Huawei Mate 60 Pro был изготовлен на оборудовании ASML

США активно сотрудничают с Японией и Нидерландами, чтобы запретить Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям, использованным в 7-нанометровом чипе для Huawei Mate 60 Pro. Китайская компания SMIC, создавшая чип, продемонстрировала производственные возможности, вызвавшие серьёзную озабоченность в США. По информации от инсайдеров, SMIC пользовалась оборудованием ASML в сочетании с инструментами других компаний, что вызвало в Вашингтоне вопросы об эффективности контроля за передовыми технологиями.

 Источник изображений: ASML

Источник изображений: ASML

ASML играет ключевую роль в глобальной цепочке поставок чипов. Она обладает монополией на передовые системы литографии в сверхжёстком ультрафиолете (EUV), которые необходимы для производства самых передовых чипов, а также поставляет литографические сканеры для производства полупроводников по более зрелым техпроцессам.

ASML никогда не могла продавать свои системы EUV-литографии в Китай из-за экспортных ограничений. Но, по мнению отраслевых аналитиков, менее продвинутые системы для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) могут быть переоснащены оборудованием для осаждения и травления для производства 7-нанометровых и, возможно, даже более совершенных чипов.

Безусловно, этот процесс намного дороже, чем непосредственное использование EUV-литографии, что затрудняет масштабирование производства в конкурентной рыночной среде, однако китайское правительство готово взять на себя значительную часть затрат. Китайские компании уже много лет законно накапливают запасы DUV-оборудования, особенно после того, как в прошлом году США ввели экспортный контроль, к которому затем подключили Японию и Нидерланды. Но по словам источников, экспортные ограничения в отношении ASML были введены слишком поздно, чтобы остановить китайские успехи в производстве микросхем.

Давление со стороны США подтолкнуло правительство Нидерландов прошлым летом объявить о планах запретить компании ASML поставлять в Китай без лицензии три из четырёх своих самых передовых моделей машин для DUV-литографии, второй по мощности категории оборудования. В настоящее время ASML по-прежнему может экспортировать эту продукцию в Китай, но с января следующего года поставки будут полностью прекращены.

В этом году китайские производители микросхем увеличили количество заказов на литографическое оборудование в преддверии вступления экспортного контроля в полную силу в 2024 году. На долю Китая пришлось 46 % от всех продаж ASML в третьем квартале по сравнению с 24 % в предыдущем квартале и 8 % в первом.

Новые меры контроля, о которых администрация США объявила в этом месяце, ещё больше ограничивают экспорт оборудования для DUV-литографии. Согласно новым правилам, ASML по-прежнему сможет поставлять лишь свою наименее совершенную машину NXT:1980Di на китайские предприятия, производящие старые чипы. Это затронет поставки ASML на шесть заводов в Китае, включая одно предприятие SMIC. По прогнозам, новые экспортные ограничения в США и Нидерландах снизят поставки оборудования ASML в Китай на 15 %.

Эксперты полагают, что новые ограничения США на поставку оборудования для EUV-литографии теперь соответствуют ограничениям в Нидерландах. Но в вопросе регулирования DUV-машин США пошли дальше, что вызвало недовольство: группа голландских политиков, включая законодателей от двух партий правящей коалиции, призвала своё правительство выступить против новых мер США.

Генеральный директор ASML Питер Веннинк (Peter Wennink) также публично выступил против этих мер и предупредил, что они могут побудить Китай к разработке конкурирующих технологий. «Чем больше вы будете оказывать на них давление, тем больше вероятность, что они удвоят свои усилия», — заявил он.

«Соединённые Штаты провели свой собственный анализ безопасности. Они имеют на это право», — заявила министр внешней торговли Нидерландов Лейсье Шрайнемахер (Leisje Schreinemacher) в парламенте на этой неделе. Она полагает, что Европейский Союз должен играть более важную роль в обсуждениях с США по контролю за экспортом чувствительных технологий и собирается поднять этот вопрос перед премьер-министром Марком Рютте (Mark Rutte) в Брюсселе.

Китай пока не способен выпускать чипы тоньше 90 нм без импортного оборудования

Несмотря на активную закупку ещё не попавшего под санкции зарубежного оборудования китайскими производителями чипов и некоторому прогрессу в части его импортозамещения, местная полупроводниковая промышленность всё ещё не может похвастать наличием адекватной для последующего прогресса производственной базой. Всё передовое оборудование китайского производства сосредоточено в научных лабораториях, а не на предприятиях отрасли.

 Источник изображения: Bloomberg

Источник изображения: Bloomberg

Об этом, как поясняет South China Morning Post, на отраслевом мероприятии в августе рассказал заместитель председателя Китайской ассоциации производителей оборудования для выпуска электроники. Ли Цзиньсян (Li Jinxiang) дал понять, что китайской полупроводниковой отрасли предстоит преодолеть долгий путь, прежде чем удастся снизить зависимость от импортного оборудования. Ни одна из производственных линий на территории Китая, как он отметил, не оснащена литографической системой отечественного производства, поскольку основная их часть имеет статус прототипов и используется для научных изысканий.

Возможно, именно на этом убеждении основаны и выводы американских чиновников, которые после выхода на рынок смартфона Huawei Mate 60 Pro на базе выпущенного в условиях санкций китайского 7-нм процессора HiSilicon Kirin 9000s запустили собственное расследование. По словам министра торговли США Джины Раймондо (Gina Raimondo), это расследование установило, что у Китая нет возможности выпускать 7-нм чипы в массовых масштабах, если опираться на имеющиеся в распоряжении США доказательства.

Безусловно, Китай долгие годы пытается разработать собственные литографические системы передового класса, но лучшие модели полностью китайского оборудования этого типа, которые выпускает шанхайская компанией SMEE, сейчас способны работать только с 90-нм литографическими нормами. В этом отношении такой сканер на порядок уступает возможностям как японских, так и нидерландских образцов. Впрочем, китайские эксперты утверждают, что возлагать всю вину за отставание на туже компанию SMEE было бы несправедливо. Литографическая система состоит из множества компонентов, которые поставляются сторонними компаниями, и поставщики SMEE тоже заметно отстают от западных конкурентов. Сама компания только к концу года начнёт поставлять литографические системы, способные работать с 28-нм технологией. Чтобы продвинуться дальше возможности выпуска 7-нм чипов по обходным технологиям, как считают эксперты, китайским поставщикам нужно существенно продвинуться по всем ключевым компонентам.

По прогнозам аналитиков Albright Stonebridge Group, пройдёт не менее четырёх или пяти лет, прежде чем применимая в условиях массового производства литографическая система класса EUV появится в Китае стараниями местных разработчиков оборудования, полагающихся исключительно на локальных поставщиков компонентов. Лидером в поставках таких литографических сканеров на мировом рынке является компания ASML из Нидерландов, но власти этой страны запретили ей снабжать таким оборудованием китайских клиентов ещё в 2019 году, а теперь новые санкции готовятся расширить перечень запретов на более зрелую технику.

Intel начнёт выпускать чипы по техпроцессу Intel 4 в Ирландии на этой неделе

Во время пандемии расширение предприятий Intel в Ирландии сталкивалось с проблемами и задержками, а в декабре прошлого года часть местных сотрудников было решено отправить в длительный неоплачиваемый отпуск, но тогда же стало известно об успешном включении первого литографического сканера для работы с EUV, установленного на предприятии Fab 34. На этой неделе компания объявит о запуске серийного выпуска чипов по технологии Intel 4 в Ирландии.

 Источник изображения: Intel

Источник изображения: Intel

Пока что на сайте Intel красуется лишь лаконичный пресс-релиз, предвосхищающий соответствующее мероприятие, которое будет транслироваться 29 сентября. В эту пятницу, если верить заявлениям компании, её руководство примет участие в церемонии запуска массового производства полупроводниковых изделий по техпроцессу Intel 4 на территории Ирландии в Лейкслипе. Впервые в Европе, тем самым, будет налажен выпуск компонентов с использованием сверхжёсткого ультрафиолетового излучения (EUV).

В пресс-релизе отмечается, что данный технологический этап позволит Intel создавать лидирующие продукты: от процессоров для ПК, поддерживающих работу с командами для систем искусственного интеллекта (намёк делается на Meteor Lake) до чипов, работающих в составе крупнейших центров обработки данных в мире. Считается, что выпускать процессоры по технологии Intel 4, помимо Ирландии, компания будет также на предприятии в американском штате Орегон. В ближайшие годы EUV-оборудование для серийного производства чипов будет использоваться в США, Тайване, Южной Корее и Ирландии, во второй половине десятилетия к ним присоединится и Япония.

Серийное производство по техпроцессу Intel 18A обойдётся без передовых сканеров High-NA EUV

На конференции Innovation 2023 компания Intel обновила информацию о своих планах по использованию литографических установок со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением и высокой числовой апертурой (High-NA EUV), которые должны стать краеугольным камнем её будущих техпроцессов. Согласно новому плану, серийное производство продукции на основе техпроцесса Intel 18A будет вестись на существующем оборудовании, а сканеры high-NA EUV станут использоваться для выпуска компонентов последующих поколений.

 Источник изображения: anandtech.com

Источник изображения: anandtech.com

Системы с высокой числовой апертурой представляют собой новое поколение фотолитографических машин со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением. Они оборудуются оптикой с числовой апертурой 0,55 — на EUV-машинах первого поколения используется оптика с 0,33. Сканеры нового образца будут незаменимы при выпуске продукции по нормам менее 2 нм или 20 Å. В 2021 году Intel представила дорожную карту, согласно которой взяла на себя обязательство освоить «5 техпроцессов за 4 года», а также объявила, что станет ведущим заказчиком машин High-NA EUV от ASML и получит первый серийный экземпляр такой машины — она должна была заложить основу для узла Intel 18A.

Но уже после 2021 года компания скорректировала планы в «хорошую» сторону — ей удалось опередить график, и в 2022 году стало известно, что во второй половине 2024 года или в 2025 году производство по технологии Intel 18A будет уже прекращено. Но с учётом того, что дата выпуска машин High-NA EUV нидерландской ASML не изменились, возник вопрос, как эти системы впишутся в данную стратегию, и в особенности её часть, касающуюся узла Intel 18A. Как выяснилось, эта технология больше не предусматривает работы с передовым оборудованием — серийное производство компонентов на основе Intel 18A будет осуществляться на существующей технике, то есть на EUV-сканерах ASML NXE 3000. А линейка 18A станет лишь испытательной площадкой для оборудования High-NA EUV — в серийном производстве оно будет применяться для продукции последующих поколений. Пока эта продукция в документах компании проходит под общим обозначением Intel Next.

Глава Intel Пэт Гелсингер (Pat Gelsinger) в своём выступлении на Innovation 2023 заявил, что первая машина High-NA EUV поступит в конце текущего года. Он даже пошутил, что это будет рождественский подарок для доктора Энн Келлехер (Ann Kelleher), исполнительного вице-президента Intel и директора компании по развитию технологий. Производитель, по его заверению, хорошо продвинулся в работе над Intel 18A: уже почти готов комплект PDK 0.9 (Process Design Kit) — последняя предсерийная версия. Запуск серийного производства на основе этой технологии запланирован на I квартал 2024 года. Предположительно речь идёт о процессорах семейства Panther Lake.

Для выпуска 2-нм чипов в условиях санкций Китай построит 150-метровую синхротронную EUV-пушку

В условиях запрета на поставку в Китай EUV-сканеров компании ASML, китайским производителям придётся создавать собственные инструменты для литографии в сверхжёстком ультрафиолете для выпуска самых передовых чипов. Поскольку Китай в этом заметно отстаёт, он может выбрать другой путь для достижения цели и, в конечном итоге, может даже превзойти западные технологии. Этим путём обещают стать синхротронные источники света, мощность которых превзойдёт возможности плазменных лазеров ASML.

 Электроны из накопительного кольца возбуждают лазерное излучение в сверхжёстком ультрафиолете. Источник изображения: Tsinghua University

Электроны из накопительного кольца возбуждают лазерное излучение в сверхжёстком ультрафиолете. Источник: Tsinghua University

Синхротронные источники света — это обычно кольцевые ускорители электронов. Кольцо служит накопителем электронов, которые для формирования стабильного пучка сверхжёсткого ультрафиолетового излучения выводятся из него через специальную установку, в которой возникает когерентное излучение на длине волны лазера (плюс гармоники). В сканерах ASML излучение возникает из возникающей в процессе испарения капли олова плазмы. Очевидно, что во втором случае можно создать компактную литографическую машину, а при использовании синхротрона придётся строить фактически завод.

По оценкам китайских источников, для формирования EUV-излучения мощностью около 1 кВт потребуется создать накопительное кольцо диаметром от 100 до 150 м (не говоря о вспомогательных установках и строениях). Этой мощности хватит для производства чипов с технологическими нормами до 2 нм. Компания ASML сейчас массово производит передовые литографические EUV-сканеры мощностью до 500 Вт, что обеспечивает выпуск 3-нм чипов. Перед ней также стоит задача разработки более мощных источников EUV-света, которая по сложности не так уж далеко от китайских проектов EUV-«пушки».

Для обычной коммерческой компании, такой, как ASML, проект синхротрона как источника EUV-света неприемлем. Он тянет за собой большие затраты на создание объёмной инфраструктуры. В США, кстати, в лаборатории SLAC изучали возможность использования синхротронов для полупроводниковой литографии, но признали его неперспективным. В Китае же, где ресурсов и рабочей силы в избытке, построить завод с ускорительной установкой особого труда не составит. Если верить источникам, место для EUV-«пушки» уже подобрано. Её начнут строить в Сюньгане.

За последние два года вышло немало статей на тему создания стабильных микропучков для производства EUV-излучения (steady-state microbunching, SSMB). Большинство работ принадлежит китайским авторам. Также в Китае прошли тематические конференции на эту тему. Понятно, что для создания законченной инфраструктуры по производству чипов с использованием EUV-излучения потребуется намного больше усилий, чем постройка синхротрона. Прежде всего, это научная работа на многие годы вперёд. Китай показывает решимость пройти этот путь, а это дорого стоит.

Россия, кстати, тоже может пойти по этому пути. В ближайшие годы в стране начнут строить достаточно много синхротронов для решения целого спектра задач от материаловедения до фармацевтики. Из одного из них вполне может родиться проект фабрики по выпуску чипов с использованием синхротронных ускорителей.

Экспорт EUV-сканеров ASML в Китай в 2020 году был запрещён по настоянию оборонного ведомства Нидерландов

Опубликованные в местных СМИ выдержки из официальных документов подтверждают, что в 2020 году запрет на поставку передового литографического оборудования из Нидерландов в Китай был осуществлён по настоянию министерства обороны этой страны, которое, в свою очередь, действовало по настоянию властей США. В ближайшее время правительство Нидерландов должно дополнительно ограничить поставки оборудования ASML в Китай.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Как поясняет Reuters со ссылкой на собственные источники, экспорт оборудования ASML в Китай должен быть в обозримом будущем дополнительно ограничен, и соответствующие переговоры по линии национальной безопасности сейчас ведутся между Нидерландами и США. Данная новость для фондового рынка затмит влияние публикации финансового отчёта ASML за прошлый квартал, которая ожидается на следующей неделе. Сейчас компания до 15 % всей выручки получает именно на китайском направлении и местный рынок продолжает активно расти.

В начале октября, напомним, власти США ввели собственные дополнительные экспортные ограничения в отношении Китая, и с тех пор уговаривают Нидерланды и Японию присоединиться к ним в той или иной степени. Чиновники в Нидерландах пытаются учитывать экономические интересы национальных поставщиков оборудования, крупнейшим из которых является ASML. Министр торговли страны Лизе Шрайнемахер (Liesje Schreinemacher) с трибуны ВЭФ в Давосе вчера заявила: «Я знаю, что оказывается серьёзное международное давление, но буду бороться за принципы свободной торговли и против протекционизма».

Власти страны сейчас пытаются выработать такие правила, которые не ограничивали бы компании из Нидерландов сильнее, чем американские. Во-вторых, эти ограничения нужно синхронизировать с Японией. В-третьих, нужно убедиться, что новые ограничения не станут потрясением для мирового рынка полупроводниковых компонентов, который и так находится не в лучшем состоянии.

Аналитики ожидают, что в прошлом квартале ASML удалось получить чистую прибыль в размере 1,68 млрд евро и рекордную выручку в сумме 6,37 млрд евро. В ноябре руководство компании подняло свой прогноз по величине ежегодно получаемой выручки на 25 %, к 2030 году компания рассчитывает ежегодно получать не менее 30 млрд евро. Октябрьские санкции США сами по себе способны сократить портфель заказов ASML на 5 %, но если Нидерланды усилят ограничения на своей стороне, то потери могут оказаться больше.

До 2014 года поставки оборудования для DUV-литографии в Китай были ограничены, но потом запрет сняли, и компания ASML с тех пор смогла выручить на этом направлении более 8 млрд евро. Есть вероятность, что подобные ограничения могут вернуться.

Из откровений издания Financieele Dagblad стало известно, что в 2020 году власти Нидерландов прислушались к рекомендации местного министерства обороны воздержаться от поставок в Китай оборудования для работы с EUV-литографией. По словам представителей оборонного ведомства Нидерландов, если бы поставки такого оборудования в Китай не были прекращены, то многократно бы выросли шансы любой из стран НАТО столкнуться с необходимостью защищаться от передового оружия, произведённого вероятным противником. Документ одновременно подчёркивал, что «важнейший стратегический партнёр в сфере безопасности (США) обратился со срочным требованием соответствующего содержания к властям Нидерландов», чтобы предотвратить экспорт EUV-литографии в КНР.

Huawei подала патентную заявку на EUV-сканер — он может открыть Китаю технологии менее 7 нм

Huawei подала патентную заявку, в которой описан литографический сканер со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV), передаёт UDN. Если компании удастся построить такой сканер и добиться достойной производительности, длительного времени безотказной работы и приемлемого выхода годной продукции, китайские компании получат доступ к технологиям класса менее 7 нм.

 Источник изображения: huawei.com

Источник изображения: huawei.com

Документы в Национальное управление интеллектуальной собственности Huawei подала в середине ноября, заявка зарегистрирована за номером 202110524685X, сообщает MyDrivers. В патентной заявке описаны ключевые компоненты EUV-сканера, в том числе генератор света с длиной волны 13,5 нм, комплект зеркал и система литографии. К сожалению, данный документ не означает фактической возможности Huawei построить эту сложную машину, включающую в себя множество современных компонентов, способных обеспечивать идеально согласованную работу в течение продолжительного времени. Кроме того, производство придётся обеспечить необходимым сырьём.

EUV-сканер с числовой апертурой 0,33 на сегодня является самым продвинутым оборудованием для производства полупроводников — его пытались построить многие компании, но успеха добилась только нидерландская ASML ценой более чем десяти лет работы и финансовой поддержки Intel, Samsung и TSMC. Используют или только собираются применять это оборудование только пять компаний во всём мире: Intel, Micron, Samsung, SK Hynix и TSMC. Но и они самостоятельно разрабатывали или планируют разрабатывать достаточно сложные технологические процессы, которые позволят использовать возможности EUV-сканера. Китайская SMIC получить такое оборудование не смогла, хотя оно уже было закуплено — иными словами, спрос на него в стране есть, и Huawei, видимо, пытается его удовлетворить.

Huawei, технологический гигант с годовым доходом на уровне $100 млрд, работает над множеством проектов разной направленности: в полупроводниковой отрасли её цели не ограничиваются одним только выпуском чипов — компания явно заинтересована в создании оборудования для производства кремниевых пластин.

На ирландском предприятии Intel заработал первый в Европе EUV-сканер

В начале декабря руководство Intel заявило, что компания готова к массовому производству компонентов с использованием технологии Intel 4, что в прежней классификации соответствовало 7-нм техпроцессу и подразумевает использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). На этой неделе в Ирландии был приведён в работоспособное состояние первый в Европе EUV-сканер, который установлен на предприятии Intel.

 Источник изображения: Intel

Источник изображения: Intel

Процессорный гигант посвятил этому событию лаконичный пресс-релиз, пояснив, что первая EUV-система производства ASML прибыла в Ирландию ранее в этом году, а на уходящей неделе её удалось привести в работоспособное состояние и включить. Впервые на европейском предприятии Intel начал работать литографический сканер, использующий лазер с длиной волны 13,5 нанометра. Это является важным шагом на пути Intel к началу серийного производства продукции по технологии Intel 4. Как известно, по ней будут выпускаться кристаллы центральных процессоров Meteor Lake, содержащие вычислительные ядра.

Вряд ли Ирландия станет единственной площадкой Intel, где будет применяться передовой техпроцесс Intel 4, но в Европе она будет самой продвинутой в масштабах местной полупроводниковой отрасли. Местные специалисты прошли стажировку на передовом предприятии Intel в штате Орегон, а компания ASML предоставила команду из 100 специалистов, которые помогали Intel устанавливать и настраивать первую систему такого типа в Ирландии. Каждый EUV-сканер состоит из 100 тысяч деталей, 3000 кабелей, 40 000 крепёжных элементов и более чем 1,6 км трубопровода. На подготовку к доставке и монтажу первого EUV-сканера в Ирландию ушло около 18 месяцев. Как подчёркивается в пресс-релизе компании, Intel по-прежнему рассчитывает начать выпуск процессоров Meteor Lake в 2023 году.

ASML будет поглощать различные компании для поддержания активного роста

На недавней конференции для инвесторов руководство нидерландской компании ASML пообещало к концу десятилетия увеличить выручку до 60 млрд евро в год. Ради обеспечения подобных темпов экспансии бизнеса, как дал понять глава холдинга, ASML готова на поглощение профильных активов. Такое заявление он сделал на церемонии закладки фундамента учебного центра в Южной Корее для местных клиентов.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Расширение географии центров ASML по подготовке персонала обслуживаемых компаний-клиентов — это ещё одна специфическая черта политики ASML последних лет. На территории Тайваня у компании уже действует учебный центр, который был открыт ещё летом 2020 года, теперь пришла пора организовать площадку для обучения персонала клиентов в Южной Корее. В его строительство компания вложила $181 млн, функционировать данное подразделение начнёт к 2024 году. На его территории персонал корейских клиентов ASML сможет проходить подготовку к работе с профильным оборудованием, а также будет осуществляться ремонт такого оборудования.

По словам генерального директора ASML Петера Веннинка (Peter Wennink), строительство учебного центра в Южной Корее — это только начало. Развитие бизнеса компании требует расширения перечня поставщиков, поэтому на определённом этапе не исключается вероятность покупки профильных активов. Напомним, что к 2025 году компания рассчитывает нарастить ежегодную выручку до 40 млрд евро, а к концу десятилетия увеличить её ещё в полтора раза. Даже не самая благоприятная макроэкономическая ситуация, по словам Веннинка, не уменьшает спроса на продукцию ASML, и портфель заказов до конца следующего года в результате ничуть не сократился.

К середине десятилетия ASML надеется ежегодно выпускать по 90 литографических сканеров передового класса EUV, а также по 600 DUV-сканеров, пригодных для производства полупроводниковых компонентов с использованием более зрелых технологических норм. В сфере поставок литографических сканеров ASML является почти полным монополистом. Это почти единственная компания в этом сегменте рынка, базирующаяся в Европе, а не США или Японии.

Спрос на оборудование ASML для выпуска чипов достиг рекордного уровня — прибыль устойчиво растёт и санкции против Китая не страшны

Компания ASML отчиталась о рекордных доходах и прибылях — спрос на оборудование для производства чипов остаётся чрезвычайно высоким несмотря на замедление продаж ПК и смартфонов. Портфель заказов, включая оборудование для DUV и EUV литографии превышает $38 млрд, поскольку производители чипов продолжают инвестировать в расширение мощностей.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Известно, что ASML продолжает продавать оборудование для DUV-литографии китайским клиентам, а покупатели EUV-оборудования ориентированы на новейшие решения, позволяющие работать со сверхжёсткой ультрафиолетовой литографией при высоком значении числовой апертуры (High-NA EUV).

Продажи ASML в третьем квартале составили €5,8 млрд, продано более 80 новых литографических систем, включая 12 EUV-инструментов и 74 DUV-машины, а также шесть бывших в употреблении сканеров.

Прибыль в квартале составила €2,994 млрд, а валовая прибыль достигла 51,8 %. Известно, что некоторые клиенты предпочитают т.н. «быстрые поставки», когда пропускаются этапы промежуточного тестирования, а финальное происходит уже на площадке клиента.

Хотя спрос на многие типы чипов падает, производители ожидают, что ситуация исправится и чипы окажутся востребованными уже в 2024-2025 годах, к этому времени компаниям понадобятся новые мощности. В частности, новые заводы строят Intel, Micron, Samsung и SK hynix.

Портфель заказов ASML превышает $38 млрд (против $33 млрд во втором квартале) — включая 600 DUV-сканеров и более 100 EUV-сканеров, многие из которых заказываются впрок, для сохранения странами технологического суверенитета в выпуске чипов. На то, чтобы выполнить все заказы, у компании уйдут годы, поскольку в 2023 году планируется выпустить порядка 375 DUV-машин и более 50 EUV.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Ожидается, что в 4 квартале продажи составят 6,1-6,6 млрд евро, а валовая прибыль достигнет 49 %. За год доход составит €21,1 млрд, а валовая прибыль — 50 %.

В отличие от производителей аналогичного оборудования из США, в ASML не снижают прогнозов продаж на 4 квартал — американский бизнес вынужден считаться с законами, блокирующими продажи оборудования китайскому бизнесу без специальной экспортной лицензии. Поскольку ASML находится в Нидерландах и почти не использует американских комплектующих в DUV-машинах, она может поставлять большинство своих решений соответствующего уровня компаниям вроде Semiconductor Manufacturing International Co. (SMIC) и Yangtze Memory Technology Co. (YMTC).

Впрочем, ASML не может поставлять китайским клиентам EUV-сканеры, использующие американские технологии. Поскольку компания не собиралась продавать подобное оборудование в Китай изначально, новые санкции никак не повлияют на прогнозы доходности ASML в следующем квартале и в 2022 году в целом.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Санкции могут подействовать на бизнес ASML косвенным образом. Помимо продуктов компании, производителям требуется и другое оборудование, продажу которого в Китай могут заблокировать, что скажется на спросе и на DUV-машины, а некоторые заказы могут отменить. Впрочем, китайские полупроводниковые компании могут рассчитывать на гигантские государственные средства для закупки подобного оборудования впрок, пока не появится возможность приобрести дополнительные машины для производственной цепочки тем или иным способом. Так или иначе, даже если спрос со стороны Китая упадёт, для ASML общий спрос всё равно пока значительно превышает предложение.

Поступают и новые заказы на передовой High-NA EUV сканер Twinscan EXE:5200, позволяющий производителям перейти на очередной уровень EUV-литографии. Предполагается, что в числе клиентов — Intel, Samsung Foundry и TSMC, а также SK Hynix. Не исключено, что первый заказ сделала и Micron, которая строит новые заводы в США. Ещё в мае сообщалось, что у ASML уже появилось пять покупателей на сканеры нового поколения.

В целом спрос на оборудование так высок, что портфель заказов увеличился до $38 млрд в 3 квартале, на $5 млрд за квартал. Прогнозируется, что даже полная потеря китайских клиентов останется незамеченной для ASML как минимум в течение двух лет.


window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Stability AI представила генератор 4D-видео Stable Video 4D 2 ч.
Релиз Fallout: London ближе, чем можно было подумать — мод для Fallout 4 размером с аддон получил новую дату выхода 4 ч.
CrowdStrike решила загладить вину за глобальный сбой ПК подарочными картами на $10, но они не работают 5 ч.
Победа: разработчики Apex Legends отменили скандальное изменение боевых пропусков на фоне массовой критики 5 ч.
CrowdStrike обвинила в недавнем глобальном сбое ПК на Windows баг в ПО для тестирования апдейтов 6 ч.
Журналисты нашли подтверждение существования ПК-версии Stellar Blade 8 ч.
Стратегия Ratten Reich отправит игроков в мир бесконечных войн крыс, мышей, ящериц и тараканов — трейлер с датой выхода в раннем доступе Steam 9 ч.
В X теперь можно получить сводку от ИИ о любом пользователе, но алгоритм часто ошибается 9 ч.
Госдума приняла законопроект о майнинге в первом чтении — добычу криптовалют в некоторых регионах РФ могут запретить 10 ч.
YouTube заработал на рекламе $8,66 млрд во втором квартале, но на Уолл-стрит ожидали большего 11 ч.
Новая статья: Обзор робота-уборщика Midea VCR V12: когда квартира чистая, а время — сэкономлено 2 ч.
AMD заявила, что Ryzen 9000 «не соответствуют ожиданиям» и отложила старт продаж до августа 3 ч.
Intel так и не нашла истинную причину нестабильности Raptor Lake, хотя заявила об обратном 3 ч.
Новая статья: Предварительный обзор очков дополненной реальности Acer AR Vision G500 4 ч.
Электрические спорткары Xiaomi SU7 Ultra начнут массово выпускаться в первой половине 2025 года 5 ч.
Разгадку тайны тёмной материи учёные поискали в аномалиях пульсаров 9 ч.
На старте продаж Ryzen 9000 обзоров будет мало — многие СМИ ещё не получили образцы 9 ч.
В Atos назначен новый гендиректор — шестой за три года 9 ч.
AMD представила самый мощный процессор Ryzen AI 300 — у него 12 ядер Zen 5 и 5c, а также NPU на 55 TOPS 10 ч.
AWS закупит топливные элементы Bloom Energy на 20 МВт для будущего ЦОД в Кремниевой долине 10 ч.