Опрос
|
реклама
Быстрый переход
Micron запустит опытное производство на EUV-оборудовании в этом году
05.07.2024 [14:21],
Павел Котов
В отличие от крупнейших производителей полупроводниковой продукции, таких как Intel и TSMC, компания Micron не спешит развёртывать оборудование со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) для производства DRAM. Но уже в этом году Micron намеревается запустить опытное производство с использованием EUV на своём техпроцессе 1γ (1-gamma) класса 10 нм, передаёт Technews. 
Источник изображения: micron.com Сейчас вся серийная продукция компании выпускается с использованием DUV-литографии, то есть на основе глубокого ультрафиолета. Но уже до конца года Micron запустит опытное производство на EUV-оборудовании, а в 2025 году оно может стать полномасштабным. Корейская Samsung ещё в 2020 году доложила, что успешно отгрузила миллион первых в отрасли модулей DDR4 класса 10 нм (D1x), произведённых на EUV-оборудовании. SK hynix стала применять такую литографию в 2021 году для выпуска чипов DDR класса 10 нм; и уже в этом году она намеревается потратить на закупку этого оборудования $1,5 млрд. Ранее гендиректор Micron Санджай Мехротра (Sanjay Mehrotra) сообщил инвесторам, что подготовка опытного производства на основе техпроцесса 1γ класса 10 нм продвигается успешно, а запуск массового выпуска продукции нового поколения запланирован на 2025 год. Технология выпуска памяти DRAM с использованием 1γ разрабатывается на заводе компании в японской Хиросиме — предприятие станет первой площадкой для опытного производства. Чтобы удовлетворить спровоцированный бумом технологий искусственного интеллекта высокий спрос на высокопроизводительные чипы памяти Micron строит пилотную производственную линию для выпуска HBM в США и рассматривает возможность запуска второй линии в Малайзии. ASML обновила рекорд плотности транзисторов на EUV-сканере и рассказала о перспективной технологии Hyper-NA
28.05.2024 [17:49],
Павел Котов
ASML доложила на конференции Imec ITF World 2024, что ей удалось побить собственный рекорд плотности размещения транзисторов с помощью своего первого литографического сканера с высокой числовой апертурой (High-NA), установленный немногим более месяца назад. Компания также сообщила о перспективной разработке более совершенного оборудования класса Hyper-NA и изложила план по двухкратному повышению производительности, сообщает Tom’s Hardware. 
Источник изображения: ASML Бывший президент и технический директор ASML Мартин ван ден Бринк (Martin van den Brink), сейчас работающий в компании консультантом, сообщил, что ASML разработает сканер Hyper-NA, более совершенный, чем существующий High-NA. Он также изложил план по снижению затрат на производство чипов на оборудовании со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) за счёт увеличения скорости обработки до 400–500 кремниевых пластин в час — это более чем вдвое превышает актуальный показатель в 200 пластин в час. И предложил модульную унифицированную конструкцию перспективных линеек EUV-оборудования ASML. 
Источник изображения: tomshardware.com Осуществив дополнительную настройку оборудования, сообщил Мартин ван ден Бринк, ASML удалось напечатать на оборудовании High-NA EUV линии плотностью 8 нм — это рекорд для производственного сканера. Предыдущий рекорд компания установила в апреле, напечатав линии плотностью 10 нм на машине в совместной с Imec лаборатории в нидерландском Вельдховене. Для сравнения, стандартные машины ASML Low-NA EUV способны печатать элементы размером до 13,5 нм (критический размер — critical dimensions или CD), а новый сканер EXE:5200 High-NA позволяет создавать транзисторы с элементами до 8 нм, и ASML продемонстрировала, что он соответствует заявленным характеристикам. Теперь компании предстоит провести работу по оптимизации системы и её подготовке к массовому производству. Эта работа уже ведётся в Нидерландах, а Intel, единственный производитель чипов, располагающий полностью собранной системой High-NA, повторяет шаги разработчика по мере её ввода в эксплуатацию на заводе D1X в Орегоне. На начальном этапе Intel будет использовать её в исследованиях и разработке, после чего запустит на EXE:5200 производство продукции класса 14A. Ван дер Бринк ещё раз упомянул машину Hyper-NA EUV, но окончательное решение по ней ещё не принято — ASML, вероятно, пока оценивает интерес отрасли. 
Источник изображения: tomshardware.com Современная стандартная машина EUV работает со светом длиной волны 13,5 нм и числовой апертурой 0,33 (это мера способности оборудования фокусировать свет). Оборудование с высокой числовой апертурой 0,55 использует ту же длину волны, но позволяет печатать более мелкие элементы. Система Hyper-NA, о которой говорит Мартин ван дер Бринк, сохранит ту же длину волны света, но числовая апертура увеличится до 0,75, позволив печатать ещё более мелкие элементы. Критический размер элементов для такого оборудования компания не указала, но привела соответствующий Hyper-NA шаг металлизации (metal pitch), то есть минимальное расстояние между металлическими элементами на чипе — этот показатель варьируется от 16 нм на узлах A3 до 10 нм на узлах менее A2 и датируется второй половиной следующего десятилетия. SK hynix начнёт изучать оборудование ASML для EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры
20.02.2024 [07:47],
Алексей Разин
В конце декабря прошлого года нидерландская компания ASML отгрузила первый экземпляр литографического сканера поколения EUV High-NA, который характеризуется высоким значением числовой апертуры и повышает разрешающую способность оборудования при производстве полупроводниковых компонентов. Получателем этой установки стала компания Intel, но руководство SK hynix утверждает, что этот корейский производитель памяти тоже интересуется таким оборудованием. 
Источник изображения: SK hynix Отметим, что производители памяти в целом достаточно долго тянули с переходом на так называемую EUV-литографию, и та же SK hynix начала применять профильное оборудование только в 2021 году при производстве микросхем памяти типа DRAM. По информации Business Korea, генеральный директор SK hynix Квак Но Чон (Kwak Noh-jung) на мероприятии Ассоциации производителей полупроводниковой продукции Южной Кореи поделился некоторыми планами компании относительно развития бизнеса. Во-первых, он заявил, что не может комментировать слухи о готовности SK hynix построить предприятие по упаковке чипов HBM непосредственно в штате Индиана. По его словам, все американские штаты являются потенциальными кандидатами на размещение подобного предприятия. Во-вторых, глава SK hynix опроверг возобновление переговоров между Western Digital и Kioxia о покупке бизнеса последней. Как известно, именно SK hynix своими возражениями сорвала эти переговоры в прошлом году. Неизменной остаётся позиция SK hynix по этому вопросу и сейчас, как отметил глава компании. Впрочем, он добавил, что если Kioxia готова к взаимовыгодному сотрудничеству с SK hynix, то последняя всегда готова рассмотреть соответствующие предложения. Наконец, глава SK hynix признался, что компания готовится получить от ASML оборудование для производства чипов памяти с использованием EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры. При этом он отказался пояснять, когда данное оборудование начнёт применяться компанией в условиях массового производства, но дал понять, что это произойдёт в нужный момент. Объём заказов ASML располнел в 3,5 раза за квартал, а Китай стал крупнейшим покупателем её оборудования для выпуска чипов
24.01.2024 [13:21],
Алексей Разин
Нидерландская компания ASML остаётся крупнейшим производителем литографических сканеров — оборудования, необходимого для производства полупроводниковых компонентов. В прошлом квартале ей удалось увеличить объём заказов в денежном выражении в 3,5 раза по сравнению с предыдущими тремя месяцами года, до рекордных €9,2 млрд. 
Источник изображения: ASML Как поясняет Bloomberg, в числовом выражении сумма заказов выросла по итогам минувшего квартала с 2,6 до 9,19 млрд евро. Спрос толкали вверх преимущественно самые современные литографические сканеры. В прошлом году выручка ASML выросла на 30 % до 27,6 млрд евро, и генеральный директор Петер Веннинк (Peter Wennink) заявил, что это было пиковым значением прироста, поскольку повторить его в текущем году уже не получится. Примечательно, что отраслевые аналитики оценивали портфель заказов ASML в четвёртом квартале примерно в 3,6 млрд евро, а по факту он оказался почти в три раза больше. Из общей суммы 9,19 млрд евро на долю самых современных систем для работы с EUV-литографией пришлось 5,6 млрд евро. Финансовый директор компании Роджер Дассен (Roger Dassen) пояснил, что товарные запасы на стороне клиентов приближаются к норме и определённо находятся на лучших уровнях, чем пару кварталов назад. Высокий спрос на литографическое оборудование ASML со стороны китайских производителей чипов на протяжении 2023 года позволил компании компенсировать негативное влияние кризисных явлений в мировой экономике на собственную выручку. Если в первом квартале прошлого года китайские клиенты формировали только 8 % выручки ASML, то в четвёртом квартале их доля выросла до 39 %, превратив КНР в крупнейший рынок сбыта продукции компании. Кстати, в третьем квартале доля Китая достигала 46 % выручки ASML, поэтому в четвёртом квартале наблюдался некоторый спад, вызванный вступлением в силу новых санкций. Южная Корея остаётся вторым по величине рынком сбыта для ASML со своими 25 % общей выручки, на Тайвань приходятся 13 %, США довольствуются 11 %, а страны Европы, Африки и Ближнего Востока (EMEA) сообща формируют 8 % выручки компании, тогда как в первом квартале их доля не превышала 1 %. Переток заказов из Тайваня и США наблюдался не только в Китай, но и в регион EMEA. Аналитики Citigroup ожидали роста портфеля заказов ASML в первой половине текущего года, но он произошёл несколько раньше, ещё в прошлом квартале. В следующем году бизнес ASML тоже будет расти. В прошлом квартале выручка компании последовательно увеличилась с 6,67 до 7,24 млрд евро. В текущем году, по оценкам руководства ASML, до 15 % китайской выручки компании пострадает от введённых ранее экспортных ограничений США. На фоне оптимистичной отчётности акции ASML выросли в Амстердаме в цене на 7,5 %, что является максимальным приростом с ноября 2022 года. |
© 1997—2025 Электронное периодическое издание "3ДНьюс" | Свидетельство о регистрации СМИ Эл ФС 77-22224
выдано Федеральной Службой по надзору за соблюдением законодательства в сфере массовых коммуникаций и охране культурного наследия
При цитировании документа ссылка на сайт с указанием автора обязательна. Полное заимствование документа является
нарушением
российского и международного законодательства и возможно только с согласия редакции 3DNews.
MWC 2018
2018
Computex
IFA 2018
