Сегодня 08 мая 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

ASML создала первый образец полупроводника с применением литографии High-NA EUV

Нидерландская компания ASML сообщила о создании первых образцов полупроводниковых изделий с помощью своего первого литографического сканера со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением и проекционной оптикой с высокой числовой апертурой со значением 0,55 (High-NA EUV). Событие является важной вехой не только для ASML, но и для технологии High-NA EUV в целом.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

«Наша High-NA EUV-система в Вельдховене напечатала первые в мире линии плотностью 10 нанометров. Визуализация была сделана после того, как оптика, датчики и стадии прошли процесс грубой калибровки. Далее планируется доведение системы до полной производительности и получение тех же результатов в полевых условиях», — говорится в заявлении ASML.

В настоящее время ASML создала всего три литографические системы High-NA EUV. Одна собрана в штаб-квартире компании ASML в Вельдховене (Нидерланды), другую собирают на американском заводе Intel D1X недалеко от Хиллсборо, штат Орегон. Третья будет собрана в Imec, ведущем научно-исследовательском институте полупроводников в Бельгии.

Похоже, ASML стала первой компанией, объявившей об успешном создании образцов с использованием системы литографии High-NA EUV, что является важной вехой для всей полупроводниковой промышленности. ASML собирается использовать свой сканер Twinscan EXE:5000 только для исследования и совершенствования технологии.

В свою очередь, Intel планирует использовать Twinscan EXE:5000, чтобы научиться применять EUV-литографию с высокой числовой апертурой для массового производства чипов. Сканер будет применяться для R&D-проектов с использованием её фирменного техпроцесса Intel 18A (класс 1,8 нм). А вот сканер следующего поколения, Twinscan EXE:5200, планируется задействовать для производства чипов согласно техпроцессу 14A (класс 1,4 нм).

Сканер ASML Twinscan EXE:5200, оснащённый оптикой с числовой апертурой 0,55, предназначен для нанесения элементов чипов с разрешением 8 нм, что является значительным улучшением по сравнению с текущими EUV-системами, обеспечивающими разрешение 13 нм. Новая технология позволяет сократить размеры транзисторов в 1,7 раза и обеспечить увеличение их плотности в 2,9 раза за одну экспозицию по сравнению с инструментами с низкой числовой апертурой (Low-NA EUV).

Сканеры с низкой числовой апертурой тоже позволяют добиться такого уровня разрешения, однако в таком случае требуется использование более дорогостоящего метода двойного шаблона. Переход на системы с литографией High-NA EUV необходим для выпуска чипов согласно нормам ниже 3 нм, массовое производство которых планируется начать в 2025–2026 годах. Применение High-NA EUV-литографии позволяет исключить необходимость в использовании двух проходов с двумя шаблонами, тем самым оптимизировать производственные процессы, потенциально повысив производительность и сократив производственные расходы. С другой стороны, инструменты с высокой числовой апертурой стоят до 400 миллионов долларов каждый и имеют свои недостатки, которые усложняют переход к более совершенным технологическим процессам.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Цукерберг заявил, что ИИ сможет решить проблему одиночества и заменить психолога 9 ч.
Apple добавит в Safari ИИ-поиск на фоне падения популярности поисковика Google 9 ч.
Electronic Arts пока не видит причин повышать стоимость игр до $80, несмотря на пример Microsoft и Nintendo 10 ч.
Энтузиаст возродил «Скрепыша» из старого Microsoft Office в виде ИИ-ассистента 12 ч.
Sony открыла новую внутреннюю студию для создания игр-сервисов — в teamLFG вошли ветераны разработки Halo, League of Legends, Fortnite и Roblox 13 ч.
Вышла операционная система «Альт Рабочая станция К» 11.0: Wayland по умолчанию и мегавыпуск KDE Plasma 6 14 ч.
Моддеры запустили классическую Doom внутри Zelda 64: Recompiled — неофициального порта The Legend of Zelda: Majora's Mask на ПК 14 ч.
Ядро Linux лишится поддержки процессоров Intel 486 и ранних 586 14 ч.
Магия, романтика и приключения: симулятор жизни в мире японских духов Tales of Seikyu готовится к выходу в раннем доступе Steam 18 ч.
Google отдаёт своему ИИ-боту Gemini более качественные данные, чем конкурентам 18 ч.
Администрация Трампа намерена предложить более простые правила в сфере контроля за экспортом ускорителей вычислений 25 мин.
Новые наушники Sony с шумоподавлением WH-1000XM6 будут дороже, но мощнее предшественников 2 ч.
Samsung договорилась о покупке аудиобизнеса Masimo за $350 млн 2 ч.
Новая статья: Обзор процессорных кулеров Ocypus Iota A40 BK и Delta A40 WH ARGB 8 ч.
MSI представила игровой 4K-монитор MAG 272UP QD-OLED X24 с частотой обновления 240 Гц 9 ч.
Публичный Wi-Fi стал спасением для москвичей на время перебоев мобильной связи 12 ч.
В Москве предупредили о перебоях в работе сотовой связи и сервисов — Кремль призвал отнестись с пониманием 13 ч.
Советская станция «Космос-482» рухнет на Землю 9–10 мая — она никому не навредит, уверены в «Роскосмосе» 13 ч.
AMD получила рекордную квартальную выручку, но ожидает до $1,5 млрд потерь из-за экспортных ограничений США 14 ч.
Amazon Zoox отозвала ПО для своих роботакси после ДТП в Лас-Вегасе 15 ч.