Сегодня 06 мая 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Видеокарты Nvidia позволят TSMC резко ускорить создание чипов новых поколений

Крупнейший в мире контрактный производитель полупроводников TSMC начнёт активно применять в производстве платформу вычислительной литографии Nvidia cuLitho — она поможет ускорить выпуск продукции и раздвинуть физические ограничения для передовых чипов нового поколения, рассказали в Nvidia.

 Источник изображения: tsmc.com

Источник изображения: tsmc.com

Вычислительная литография — критически важный этап в производстве чипов, необходимый при переносе электронных проектов схем на кремний. Этот процесс требует сложных вычислений: электромагнитная физика, фотохимия, вычислительная геометрия, итеративная оптимизация и распределенные вычисления. На полупроводниковом производстве для проведения этих расчётов используются центры обработки данных, но данный этап всё равно остаётся узким местом при выводе на рынок новых технологических процессов и компьютерных архитектур.

Вычислительная литография является наиболее ресурсоёмкой рабочей нагрузкой во всём процессе проектирования и производства полупроводников. Типичный набор масок для печати чипа может занять 30 млн и более часов вычислительного времени центрального процессора. Но 350 систем на базе ускорителей Nvidia H100 способны заменить 40 000 систем на центральных процессорах — это помогает сократить время производства, затраты, пространство и потребление энергии. Прежде Nvidia заявляла, что её система за одну ночь справится с работой, на которую прежде уходило две недели. Библиотека Nvidia cuLitho отвечает за развёртывание ускоренных вычислений в области вычислительной литографии. В случае с TSMC она поможет ускорить разработку передовых полупроводниковых компонентов.

Nvidia также разработала методы применения генеративного искусственного интеллекта на платформе cuLitho — это решение обеспечивает дополнительное двухкратное ускорение в работе систем. Генеративный ИИ помогает в создании почти идеальной обратной маски, которая учитывает дифракцию света в вычислительной литографии; ускоренные вычисления и ИИ также отвечают за коррекцию оптической близости (Optical Proximity Correction — OPC). Вместе они позволяют более точно моделировать физику и реализовывать математические методы, которые ранее считались чрезвычайно ресурсоёмкими. В результате радикально сокращается время, необходимое для создания каждой маски на заводе, а значит, уменьшается и время цикла разработки нового технологического узла.

Возможными оказываются и вычисления, которые ранее были непрактичными. В научной литературе уже два десятилетия описываются методы обратной литографии, но их точная реализация в масштабе всего чипа в значительной мере исключалась, потому что соответствующие вычисления занимали слишком много времени. Nvidia cuLitho помогает в решении этой задачи — передовые заводы смогут использовать её в создании мощных чипов нового поколения.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
После 20 лет скитаний по волнам разработки легендарный российский экшен «Приключения Капитана Блада» всё-таки вышел на ПК и консолях 1 мин.
Журналисты показали 13 минут из сюжетного дополнения RoboCop: Rogue City — Unfinished Business, включая первый геймплей за Алекса Мёрфи 2 ч.
Хакеры взломали одну из функций протокола IPv6 и перехватывают обновления ПО 2 ч.
Второй трейлер Grand Theft Auto VI: ограбления, погони и любовь под палящим солнцем Вайс-Сити 3 ч.
Взломан защищённый мессенджер TeleMessage — им пользовались в правительстве США 3 ч.
Google представила план оздоровления рынка интернет-рекламы без развала своего бизнеса 4 ч.
Clair Obscur: Expedition 33 продаётся быстрее Kingdom Come: Deliverance 2 — разработчики похвастались новыми успехами игры 5 ч.
«Билайн» готовит российский сервис ИИ-инференса на отечественном оборудовании 5 ч.
Виталик Бутерин предложил сделать Ethereum «простым как биткоин», но это займёт время 7 ч.
Состоялся релиз отечественной «Ред ОС» 8 для Arm-платформ 7 ч.