Сегодня 18 ноября 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Infineon представила рекордно тонкую кремниевую пластину — на таких будут выпускать силовые чипы для ИИ

Растущее потребление энергии платформами с искусственным интеллектом заставляет искать любую возможность снизить его. Вариантов не так много, и один из них предложила немецкая компания Infineon Technologies. Ей оказалось по силам уменьшить потери в силовых полупроводниках, которые обеспечивают питание процессорам, компонентам ИИ-платформ и не только. Для этого компания освоила технологию выпуска самых тонких в мире кремниевых подложек — вдвое тоньше рыночных.

 Источник изображения: ИИ-генерация Кандинский 3.1/3DNews

Источник изображения: ИИ-генерация Кандинский 3.1/3DNews

Современные тонкие кремниевые пластины диаметром до 300 мм имеют на выходе толщину 40–60 мкм. В Infineon разработали финальный процесс полировки, позволяющий уменьшить толщину пластины — подложки для будущего изготовления на ней чипов — до 20 мкм. Для сравнения, толщина человеческого волоса в среднем достигает 80 мкм. Чтобы изготовить кремниевую подложку диаметром 30 см и толщиной 20 мкм, необходимо достичь высокой точности на всех этапах производства — от резки до шлифовки. По словам представителей Infineon, компания готова внедрять эти технологии для массового производства чипов.

Компания Infineon входит в число производителей полупроводников, выпускающих силовые компоненты из кремния, карбида кремния и нитрида галлия. Использование материалов за пределами чистого кремния позволяет создавать более эффективные и мощные комплектующие для подсистем питания и преобразования напряжений и токов. Это крайне важно в условиях растущего потребления энергии. Применение более тонких пластин для изготовления силовых чипов на 50 % снижает сопротивление подложек и, в целом, уменьшает потери мощности на 15 %.

Процессоры и чипы ИИ переходят на питание со стороны подложки, которое поступает по вертикальным каналам металлизации. Сокращение длины (высоты) этих каналов в схемах MOSFET снижает их сопротивление, что ведёт к повышению КПД и увеличению плотности мощности. В масштабах ЦОД с ИИ это может привести к значительной экономии на потреблении энергии. В Infineon обещают в течение двух лет обеспечить новыми «тонкими» силовыми чипами всех заинтересованных заказчиков.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Утечка раскрыла дату выхода Silent Hill: Townfall — загадочного хоррора от создателей Observation 59 мин.
Ролевой экшен Where Winds Meet в антураже фэнтезийного Китая привлёк свыше 2 млн игроков за первые сутки 13 ч.
Календарь релизов 17 – 23 ноября: Moonlighter 2, Demonschool, Forestrike и Neon Inferno 14 ч.
Новый уровень сложности, переработка механик, улучшения A-Life и многое другое: для S.T.A.L.K.E.R. 2: Heart of Chornobyl вышел крупный патч 1.7 14 ч.
Microsoft анонсировала игровую презентацию Xbox Partner Preview — на ней покажут Tides of Annihilation, 007 First Light, Reanimal и многое другое 15 ч.
Nintendo показала первые кадры из фильма по The Legend of Zelda — фанаты в восторге 16 ч.
Владелец Amazon Джефф Безос нашёл себе новую работу в сфере ИИ 16 ч.
Capcom пообещала уберечь Resident Evil Requiem от судьбы Monster Hunter Wilds, которая даже спустя восемь месяцев страдает от проблем с оптимизацией 18 ч.
Программный «ускоритель» Huawei обещает практически удвоить производительность дефицитных ИИ-чипов 19 ч.
Биткоин вновь упал — и обнулил весь рост с начала года 20 ч.