Сегодня 23 сентября 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

В России завершены работы по созданию первого отечественного литографа

На примере китайской полупроводниковой промышленности можно понять, насколько важно наличие собственного оборудования для выпуска чипов в условиях ограниченности доступа к импортному. В России недавно завершились работы по созданию первого отечественного литографа, позволяющего работать с 350-нм технологией.

 Источник изображения: ЗНТЦ

Источник изображения: ЗНТЦ

Об этом неделю назад сообщил Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). Разработанный специалистами центра фотолитограф называется «установкой совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм», он был разработан в сотрудничестве с белорусской компанией ОАО «Планар». Установка была принята государственной комиссией, в настоящее время ведётся её адаптация к применяемым конечными потребителями техпроцессам, заключаются контракты на поставку серийного оборудования. В следующем году планируется завершить работы по созданию российского литографа, позволяющего работать с 130-нм нормами.

«Новая совместная разработка имеет ряд преимуществ: существенно увеличена площадь рабочего поля — 22 × 22 мм по сравнению с предшествующей — 3,2 × 3,2 мм, на ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин — 200 мм вместо 150 мм. Кроме того, в мировой практике для производства данных литографов в качестве источника излучения используется ртутная лампа, в российской установке впервые использован твердотельный лазер – более мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром», — пояснил генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев.

Стоит отметить, что ведущий мировой производитель литографических систем — нидерландская компания ASML, в своём оборудовании, предназначенном для работы с сопоставимыми технологическими нормами, использовала источники излучения другого типа. Для техпроцессов класса 350 нм применялись ртутные лампы с длиной волны 365 нм, для техпроцессов 250 нм и более прогрессивных применялись источники излучения на базе фторида криптона с длиной волны 248 нм. Наконец, для норм 130 нм и тоньше использовались системы с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV) на основе фторида аргона с длиной волны 193 нм.

Твердотельные лазеры также использовались при производстве полупроводниковых компонентов ранее, но преимущественно во вспомогательных функциях типа анализа качества продукции и поиска дефектов, либо механической обработки кремниевых пластин. Теоретически, твердотельные лазеры могут применяться для экспонирования при производстве чипов по зрелым литографическим нормам от 250 нм и грубее, но та же ASML для этих целей с 90-х годов прошлого века использовала эксимерные источники лазерного излучения на основе фторидов криптона или аргона.

По мировым меркам оборудование для выпуска 350-нм чипов может казаться устаревшим, но соответствующие компоненты ещё способны найти применение в силовой электронике, автомобильной промышленности и оборонной сфере. Скорее всего, ЗНТЦ сделает основной упор на создание и продвижение литографов следующего поколения, которые уже позволят выпускать 130-нм чипы. Теми же «Ангстремом» и «Микроном» они будут востребованы в большей степени, поскольку компании выпускают ассортимент продукции в диапазоне норм от 250 до 90 нм. Поставленные правительством РФ цели подразумевают освоение 28-нм технологии к 2027 году и 14-нм технологии к 2030 году. Пока отечественные производители оборудования отстают от намеченного графика.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Huawei HarmonyOS уже шестой квартал подряд остаётся популярнее Apple iOS в Китае 6 мин.
Разработчики Palworld анонсировали Palworld: Palfarm — уютный симулятор фермерской жизни, где можно сыграть в русскую рулетку 54 мин.
Белорусы теперь могут оплачивать покупки на Wildberries криптовалютой, но есть нюансы 2 ч.
OpenAI запустила подписку ChatGPT Go дешевле $5 в месяц в ещё одной стране 2 ч.
Постаревший Леон, приземлённый экшен и как никогда амбициозная история: инсайдер раскрыл новые подробности Resident Evil Requiem 2 ч.
Исполнитель роли Тревора в GTA V оказался равнодушен к GTA VI и призвал геймеров читать Достоевского 3 ч.
«Яндекс» поселил «Алису» на флагманском ИИ в мессенджерах Max и Telegram 3 ч.
Google снова попытаются разорвать на части — Минюст США потребовал отделения рекламного бизнеса 4 ч.
Производитель Peugeot, Opel и Fiat заявил об утечке данных клиентов после хакерской атаки 5 ч.
Крупнейшие корпорации заливают миллиарды в ИИ, даже не понимая, зачем им это нужно 6 ч.
DDR5 раскочегарили до 13 020 МГц — очередной рекорд разгона ОЗУ пока не подтверждён 2 ч.
В Южной Корее создали самые лучшие подводные солнечные элементы 2 ч.
Красный флаг для «красной» компании — Moody's раскритиковало эпохальный план Oracle по созданию ИИ ЦОД 3 ч.
Мечта Маска забуксовала: роботакси Tesla в Калифорнии будут вовсе не беспилотными и не совсем такси 3 ч.
Huawei собралась за три года догнать Nvidia в сфере ИИ, завалив рынок ускорителями Ascend и не только 3 ч.
SoftBank, Meta и др. проложат между Японией и Сингапуром подводный интернет-кабель Candle длиной 8 тыс. км 3 ч.
Найдётся всё: Китай запустил самый мощный в мире георадар, от которого в толще Земли ничего не скроется 4 ч.
Dreame открыл в Москве флагманский магазин нового формата 4 ч.
Учёные укротили свет в алмазах для прорыва в квантовых технологиях 4 ч.
К ИИ готов: одобрен проект первого в России ЦОД гиперскейл-класса 5 ч.