Российские 193-нм литографы появятся через пару лет, и будут работать по старинке

В интервью корреспонденту ТАСС президент Российской академии наук Геннадий Красников рассказал, что российские 193-нм литографические сканеры для производства передовых чипов появятся примерно через два года. Более того, учёный отметил, что в основу установок будут положены классические эксимерные источники света, а не твердотельные лазеры со всеми сопутствующими преимуществами.

Выбираем лучший игровой ноутбук до 100 000 рублей: сравнительное тестирование 7 интересных моделей

Обзор Intel Core Ultra 7 270K Plus — лучший Arrow Lake за полцены

Обзор Intel Core Ultra 5 250K Plus, или Как Arrow Lake превратился в «топ за свои деньги»

72 полёта над Марсом: как Ingenuity пережил зиму, сбои и собственную миссию

Ryzen и DDR5-6000 на чипах Samsung — G.Skill даёт добро

Процесс создания российского литографа. Источник изображения: Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ)

Некоторое время назад стало известно, что российские и белорусские исследователи совместно создали литографический сканер с длиной волны 350 нм. Классические литографы прошлых десятилетий использовали в качестве источника света для таких разрешений ртутные лампы с длиной волны 365 нм. Российско-белорусская разработка опиралась на передовой твердотельный источник света — лазер, что позволило сделать сканер более компактным, эффективным и экономичным.

Можно было бы ожидать, что дальнейшее сокращение длины волны и повышение разрешения проекции пойдут тем же путём. Однако пока этого не произойдёт. Как признался господин Красников, сейчас учёные работают с эксимерными источниками света на базе смеси благородных газов — в частности, с источниками на длине волны 248 нм и, в ближайшей перспективе, с классическими 193-нм лазерами.

Это путь, уже испытанный мировыми производителями литографического оборудования, и он надёжен, как швейцарские часы. Газовые лазеры уступают по совокупным эксплуатационным характеристикам полупроводниковым, но они уже сегодня способны обеспечить то, что твердотельным лазерам ещё долго будет не под силу, — мощность излучения, достаточную для высокой производительности литографических установок.

Обнадёживающим можно считать заявление о вероятном появлении 193-нм сканеров уже через два года. Такое оборудование всё ещё способно выпускать передовые чипы вплоть до 5-нм техпроцессов. Полупроводниковая промышленность приблизилась к границам возможного в снижении технологических норм, и сканеры с длиной волны 193 нм ещё долго будут оставаться передовыми установками.