Китай собрался довести долю местного оборудования для выпуска чипов до 70 % уже в следующем году

Китайские производители чипов уже несколько лет лишены доступа к передовому зарубежному оборудованию, но власти страны способствуют развитию местной отрасли, заодно определяя целевые показатели по импортозамещению. Так, в сфере производства чипов по зрелым технологиям доля китайского оборудования должна уже по итогам следующего года вырасти до 70 %.

Обзор Ryzen 9 9950X3D2: правильный 16-ядерник с 3D-кешем

Обзор Intel Core Ultra 7 270K Plus — лучший Arrow Lake за полцены

72 полёта над Марсом: как Ingenuity пережил зиму, сбои и собственную миссию

Ryzen и DDR5-6000 на чипах Samsung — G.Skill даёт добро

Обзор Intel Core Ultra 5 250K Plus, или Как Arrow Lake превратился в «топ за свои деньги»

Выбираем лучший игровой ноутбук до 100 000 рублей: сравнительное тестирование 7 интересных моделей

Об этом сообщает TrendForce со ссылкой на Newsswitch. Как уже отмечалось, сейчас все вводимые в строй в Китае предприятия по производству чипов должны как минимум на 50 % оснащаться оборудованием местного происхождения. От уровня локализации оборудования зависит и активность субсидирования подобных проектов китайским государством. В следующем году в сфере производства чипов по зрелым технологиям китайские компании должны зависеть от местного оборудования на 70 %, как рассчитывают китайские власти.

Одновременно перед китайскими производителями оборудования поставлена задача освоить выпуск 14-нм продукции с его помощью. На направлении оборудования для очистки кремниевых пластин в процессе травления в китайской литографической промышленности наблюдается высокая активность местных игроков рынка. Компании SMEE удалось приступить к верификации оборудования для экспозиции фотошаблонов с использованием источников лазерного излучения с длиной волны 28 нм на основе фторида аргона. В сфере травления кремниевых пластин Naura Technology приступила к массовому производству оборудования для выпуска 28-нм чипов, а компания AMEC надеется сертифицировать своё оборудование для выпуска 14-нм чипов на предприятиях китайской SMIC.

Ещё в конце прошлого года сообщалось, что в Китае был собран прототип передового по меркам страны литографического сканера класса EUV с использованием компонентов, полученных из старых сканеров нидерландской ASML. Выпускать образцы чипов с помощью такого оборудования китайские компании намереваются начать в 2028 году, но более реалистичным сроком видится конец десятилетия. Валидация китайского оборудования осуществляется быстрее, чем западного, порой удаётся уложиться в пределы одного года, что довольно быстро по меркам отрасли. Кроме того, китайская полупроводниковая отрасль активно замещает зарубежное программное обеспечение для проектирования чипов местным. Оно также является важной частью производственной инфраструктуры.