MWC 2018
2018
Computex
IFA 2018
Китайская компания Langdao Silex впервые публично продемонстрировала прототип собственного источника излучения для EUV-литографии. По заявлению представителей компании, 90 % компонентов системы произведены в Китае, а большинство ключевых узлов разработано внутри компании. Выход на серийное производство займёт от трёх до пяти лет.
Источник изображения: Langdao Silex
Маломощная EUV-установка FlintNano LPP-OXXO основана на технологии получения плазмы под воздействием лазерного излучения. Согласно опубликованным Langdao Silex характеристикам, приводной лазер установки FlintNano LPP-OXXO имеет мощность 1000 Вт, частота импульсов составляет 1–20 кГц, а эффективность преобразования энергии превышает 2 %. Заявленная выходная мощность EUV-излучения превышает 15 Вт. Компания также указывает яркость 100 Вт/(мм²·ср), возможность непрерывной работы более 100 часов, размер области плазмы 60 мкм, стабильность плазмы 3 % RMS и стабильность энергии 5 %.
Langdao Silex заявляет, что для серии высокомощных источников FlintMicro-LPP завершена принципиальная проверка технологии, а маломощная серия FlintNano-LPP находится на стадии продуктовой разработки. Тем не менее, отмечают в Langdao Silex, до начала полномасштабного коммерческого производства пройдёт ещё от трёх до пяти лет: требуется дальнейшая инженерная доработка и оптимизация. Главные сложности заключаются в увеличении выходной мощности и повышении стабильности работы в долгосрочной перспективе.
Пока между возможностями решений Langdao Silex и требованиями, предъявляемыми к коммерческим EUV-системам, сохраняется значительный разрыв: для промышленных литографических установок обычно необходимы источники мощностью в несколько сотен ватт, способные стабильно работать в течение длительного времени.
ASML достигла мощности EUV-источника в 250 Вт в 2018 году, что позволило перейти к серийному производству чипов с использованием EUV-литографии. В апреле 2025 года компания продемонстрировала источник мощностью 1000 Вт, однако его коммерческое внедрение ещё требует дальнейшей инженерной работы.
Чтобы преодолеть этот разрыв, Langdao Silex потребуется не только повысить мощность источника излучения, но и существенно улучшить стабильность плазмы, увеличить срок службы источника и повысить надёжность интеграции всех систем. Для создания коммерческой EUV-системы потребуются прецизионная оптика, высокоточные механизмы позиционирования пластин и сложная системная интеграция. Установки ASML состоят из сотен тысяч компонентов, которые поставляют более 800 компаний.
Ранее стало известно, что в Китае уже налажено производство менее совершенных литографических установок, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Их поставки крупным местным производителям чипов ожидаются уже в 2026 году. EUV остаётся значительно более сложной задачей, которая требует значительного прогресса в целом ряде критически важных подсистем.
Источник:
