Micron начнёт переход на EUV-литографию для производства памяти DRAM к концу 2022 года

У американского производителя памяти Micron имеются заводы не только в США, но и в Японии, Сингапуре, Китае и на Тайване. Многие из них стали частью Micron в рамках поглощений. В ходе Computex 2022 американский производитель заявил, что собирается модернизировать своё производство в тайваньском Тайчжуне и начать до конца этого года переход на более совершенный процесс производства чипов памяти DRAM с использованием литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV).

Источник изображений: Micron

Micron давно не обозначает технологии производства полупроводников в нанометрах — вместо этого используются разные обозначения 10-нм класса микросхем, такие как 1x, 1z и прочие. Сейчас чипы памяти DRAM компании Micron создаются на DUV (Deep Ultra Violet) конвейере по технологии 1α (альфа). Переход от узла 1z к 1α позволит Micron улучшить характеристики чипов памяти на 40 %. Это позволяет создавать полупроводники размером чуть больше 10 нм.

Со следующего года компания планирует перейти на использование узла 1β (бета). При этом он не потребует перехода на EUV-литографию. Об этом стало известно из опубликованной производителем долгосрочной дорожной карты. В ней также отмечается переход на узел 1y (гамма), с которого как раз и начнётся переход на EUV. Это можно считать началом подготовки к переходу на новый уровень производства DRAM.