Сегодня 13 июля 2024
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

ASML создала первый образец полупроводника с применением литографии High-NA EUV

Нидерландская компания ASML сообщила о создании первых образцов полупроводниковых изделий с помощью своего первого литографического сканера со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением и проекционной оптикой с высокой числовой апертурой со значением 0,55 (High-NA EUV). Событие является важной вехой не только для ASML, но и для технологии High-NA EUV в целом.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

«Наша High-NA EUV-система в Вельдховене напечатала первые в мире линии плотностью 10 нанометров. Визуализация была сделана после того, как оптика, датчики и стадии прошли процесс грубой калибровки. Далее планируется доведение системы до полной производительности и получение тех же результатов в полевых условиях», — говорится в заявлении ASML.

В настоящее время ASML создала всего три литографические системы High-NA EUV. Одна собрана в штаб-квартире компании ASML в Вельдховене (Нидерланды), другую собирают на американском заводе Intel D1X недалеко от Хиллсборо, штат Орегон. Третья будет собрана в Imec, ведущем научно-исследовательском институте полупроводников в Бельгии.

Похоже, ASML стала первой компанией, объявившей об успешном создании образцов с использованием системы литографии High-NA EUV, что является важной вехой для всей полупроводниковой промышленности. ASML собирается использовать свой сканер Twinscan EXE:5000 только для исследования и совершенствования технологии.

В свою очередь, Intel планирует использовать Twinscan EXE:5000, чтобы научиться применять EUV-литографию с высокой числовой апертурой для массового производства чипов. Сканер будет применяться для R&D-проектов с использованием её фирменного техпроцесса Intel 18A (класс 1,8 нм). А вот сканер следующего поколения, Twinscan EXE:5200, планируется задействовать для производства чипов согласно техпроцессу 14A (класс 1,4 нм).

Сканер ASML Twinscan EXE:5200, оснащённый оптикой с числовой апертурой 0,55, предназначен для нанесения элементов чипов с разрешением 8 нм, что является значительным улучшением по сравнению с текущими EUV-системами, обеспечивающими разрешение 13 нм. Новая технология позволяет сократить размеры транзисторов в 1,7 раза и обеспечить увеличение их плотности в 2,9 раза за одну экспозицию по сравнению с инструментами с низкой числовой апертурой (Low-NA EUV).

Сканеры с низкой числовой апертурой тоже позволяют добиться такого уровня разрешения, однако в таком случае требуется использование более дорогостоящего метода двойного шаблона. Переход на системы с литографией High-NA EUV необходим для выпуска чипов согласно нормам ниже 3 нм, массовое производство которых планируется начать в 2025–2026 годах. Применение High-NA EUV-литографии позволяет исключить необходимость в использовании двух проходов с двумя шаблонами, тем самым оптимизировать производственные процессы, потенциально повысив производительность и сократив производственные расходы. С другой стороны, инструменты с высокой числовой апертурой стоят до 400 миллионов долларов каждый и имеют свои недостатки, которые усложняют переход к более совершенным технологическим процессам.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Вечерний 3DNews
Каждый будний вечер мы рассылаем сводку новостей без белиберды и рекламы. Две минуты на чтение — и вы в курсе главных событий.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Razer добавила киберспортивным мышам динамическую чувствительность и поддержку движения под углом 27 мин.
ИИ повышает индивидуальную креативность, но ухудшает качество материалов в целом 2 ч.
«Это не игра, это набор бессвязных механик»: аудитория The First Descendant превысила 10 млн игроков, но проблем у шутера пока хватает 3 ч.
OpenAI так и не разрешила некоторые вопросы безопасности ИИ 7 ч.
ЕС утвердил Закон об ИИ: в числе запретов извлечение изображений лиц из интернета 14 ч.
Еврокомиссия замахнулась на X Илона Маска: соцсеть обвинили в обмане из-за синей галочки 17 ч.
Новая статья: Zenless Zone Zero — игра о вреде телевизоров. Рецензия 19 ч.
Как и 37 лет назад: первый трейлер Double Dragon Revive не разочаровал фанатов серии 19 ч.
В VK Play Cloud появились The Legend of Zelda: Tears of the Kingdom и Animal Crossing: New Horizons, но ненадолго 20 ч.
Соцсеть X снова тестирует функцию дизлайков, но на этот раз для комментариев 21 ч.
Методы современной биологии помогли увеличить дальность полёта электрических самолётов в четыре раза 3 ч.
Суд в США отклонил иск к Apple по поводу закрытой экосистемы и завышенных цен на iPhone 5 ч.
В Сан-Франциско начинает курсировать первый в мире пассажирский паром на водородном топливе 5 ч.
Учёные создали дистилляционный костюм для астронавтов почти как в «Дюне» — он делает питьевую воду из мочи 7 ч.
ИИ-гаджет Rabbit R1 сохранял переписку с пользователями без возможности её удалить 7 ч.
SpaceX запросила пятикратное увеличение частоты запусков Starship в Техасе 11 ч.
JEDEC определилась с предварительным стандартом памяти HBM4 12 ч.
Qualcomm и Philips обвинили производителя смартфонов Tecno в нарушении патентов 12 ч.
Southwest Airlines и Archer Aviation планируют запуск сервиса воздушного такси 13 ч.
Спутники Starlink с поддержкой сотовой связи досаждают астрономам гораздо сильнее обычных 14 ч.