Сегодня 08 июля 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

ASML создала первый образец полупроводника с применением литографии High-NA EUV

Нидерландская компания ASML сообщила о создании первых образцов полупроводниковых изделий с помощью своего первого литографического сканера со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением и проекционной оптикой с высокой числовой апертурой со значением 0,55 (High-NA EUV). Событие является важной вехой не только для ASML, но и для технологии High-NA EUV в целом.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

«Наша High-NA EUV-система в Вельдховене напечатала первые в мире линии плотностью 10 нанометров. Визуализация была сделана после того, как оптика, датчики и стадии прошли процесс грубой калибровки. Далее планируется доведение системы до полной производительности и получение тех же результатов в полевых условиях», — говорится в заявлении ASML.

В настоящее время ASML создала всего три литографические системы High-NA EUV. Одна собрана в штаб-квартире компании ASML в Вельдховене (Нидерланды), другую собирают на американском заводе Intel D1X недалеко от Хиллсборо, штат Орегон. Третья будет собрана в Imec, ведущем научно-исследовательском институте полупроводников в Бельгии.

Похоже, ASML стала первой компанией, объявившей об успешном создании образцов с использованием системы литографии High-NA EUV, что является важной вехой для всей полупроводниковой промышленности. ASML собирается использовать свой сканер Twinscan EXE:5000 только для исследования и совершенствования технологии.

В свою очередь, Intel планирует использовать Twinscan EXE:5000, чтобы научиться применять EUV-литографию с высокой числовой апертурой для массового производства чипов. Сканер будет применяться для R&D-проектов с использованием её фирменного техпроцесса Intel 18A (класс 1,8 нм). А вот сканер следующего поколения, Twinscan EXE:5200, планируется задействовать для производства чипов согласно техпроцессу 14A (класс 1,4 нм).

Сканер ASML Twinscan EXE:5200, оснащённый оптикой с числовой апертурой 0,55, предназначен для нанесения элементов чипов с разрешением 8 нм, что является значительным улучшением по сравнению с текущими EUV-системами, обеспечивающими разрешение 13 нм. Новая технология позволяет сократить размеры транзисторов в 1,7 раза и обеспечить увеличение их плотности в 2,9 раза за одну экспозицию по сравнению с инструментами с низкой числовой апертурой (Low-NA EUV).

Сканеры с низкой числовой апертурой тоже позволяют добиться такого уровня разрешения, однако в таком случае требуется использование более дорогостоящего метода двойного шаблона. Переход на системы с литографией High-NA EUV необходим для выпуска чипов согласно нормам ниже 3 нм, массовое производство которых планируется начать в 2025–2026 годах. Применение High-NA EUV-литографии позволяет исключить необходимость в использовании двух проходов с двумя шаблонами, тем самым оптимизировать производственные процессы, потенциально повысив производительность и сократив производственные расходы. С другой стороны, инструменты с высокой числовой апертурой стоят до 400 миллионов долларов каждый и имеют свои недостатки, которые усложняют переход к более совершенным технологическим процессам.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
«Яндекс» наконец перешёл в прямое управление к участникам «Консорциум.Первый» 5 мин.
«ЗН Цифра» внедрила решения импортонезависимой экосистемы «Базиса» 12 мин.
OpenAI усилила режим секретности, опасаясь утечки передовых ИИ-разработок 18 мин.
Упор на сюжет, жуткие анимации и физическое ощущение ужаса: новые подробности гротескного хоррора Ill 53 мин.
«Romero Games не закрылась»: студия соавтора Doom Джона Ромеро жива, несмотря на отмену нового шутера 3 ч.
Британские СМИ восстали против ИИ-сводок в поиске Google и требуют отключить опцию 4 ч.
Чат-бот Илона Маска Grok стал ещё более «политически некорректным» после обновления 4 ч.
Браузер Microsoft Edge научился загружать страницы ещё быстрее — менее чем за 300 мс 7 ч.
OpenAI начала тестировать в ChatGPT образовательный режим ответов «Учимся вместе» 7 ч.
Apple одумалась: Liquid Glass стал менее прозрачным и более читаемым в новой бете iOS 26 12 ч.
Изменения климата грозят дефицитом чипов — через 10 лет мир столкнётся с нехваткой меди для полупроводников 6 мин.
Intel запустила новую волну сокращений — работы лишатся тысячи специалистов 31 мин.
Gateway расправила плечи — гигантскую солнечную батарею для лунной станции впервые развернули во всю длину 36 мин.
Администрация Трампа опять надавила на Apple за промедление в переносе производства электроники в США 2 ч.
В гонке за лидерство в сфере ИИ поможет инфраструктура, а не хайп 2 ч.
Прибыль Samsung должна упасть впервые с 2023 года, причём сразу на 56 % 3 ч.
Jsaux представила кулер с клипсой для Nintendo Switch 2 4 ч.
Meta заполучила ещё одного крупного специалиста по ИИ — теперь из Apple 7 ч.
Суд не удовлетворил очередную жалобу Apple на запрет продажи в США часов Watch с датчиком содержания кислорода в крови 7 ч.
CoreWeave всё-таки купила оператора ЦОД Core Scientific, но в девять раз дороже, чем когда-то планировала 12 ч.