Сегодня 27 мая 2026
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Intel удалось наладить выпуск чипов с помощью новейшего оборудования ASML класса High-NA EUV

Желая отвлечь аудиторию от слухов о поиске стратегического партнёра в сфере производства чипов, руководство Intel на этой неделе заявило, что успешно использует полученные от ASML литографические системы новейшего поколения для мелкосерийного производства чипов. При помощи технологии High-NA EUV за один квартал компании удалось обработать 30 000 кремниевых пластин.

 Источник изображения: Intel

Источник изображения: Intel

Литографическое оборудование ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) компания Intel получила ещё в прошлом году, и два экземпляра систем (предположительно, TwinScan EXE:5000) уже настроены на выпуск опытной продукции в достаточных количествах. По словам представителей Intel, новое оборудование позволяет сократить количество технологических этапов при производстве современных чипов и ускорить изготовление передовой продукции. На подготовку к запуску такой технологии у Intel в общей сложности ушло семь лет.

На ранних этапах экспериментов возникали проблемы с надёжностью EUV-систем, но оборудование класса High-NA EUV, по словам ведущего инженера Intel Стива Карсона (Steve Carson), в два раза надёжнее решений предыдущего поколения. Продолжительность производственного цикла сокращается при переходе на оборудование с высокой числовой апертурой. Например, если ранее на обработку кремниевой пластины тратилось три экспозиции и 40 технологических операций, то теперь количество последних удалось сократить менее чем до десяти, а экспозиция требуется всего одна.

Как известно, Intel использовала оборудование класса High-NA EUV в качестве экспериментального при подготовке к выпуску чипов по технологии Intel 18A, но в серийном варианте применять его не будет. Оно должно быть внедрено уже при выпуске чипов по технологии Intel 14A не ранее следующего года. При этом будет использоваться ещё более новое оборудование ASML семейства TwinScan EXE:5200, первые компоненты которого компания должна получить в ближайшие месяцы. Конкурирующая TSMC переход на High-NA EUV осуществит не ранее 2028 года, как ожидают эксперты.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Верховный суд РФ разрешил бывшим сотрудникам Oracle оставить себе миллионные выходные пособия 4 ч.
«Помогите нам построить Вайс-Сити»: хакеры начали массово использовать ажиотаж вокруг GTA VI против фанатов 4 ч.
Косплеер смастерил куртку из Cyberpunk 2077 с OLED-воротником, на котором можно играть в Cyberpunk 2077 5 ч.
Продажи беспощадной ролевой песочницы Kenshi превысили 3 миллиона копий, а Kenshi 2 «превзойдёт ваши ожидания» 6 ч.
Глава Take-Two объяснил, почему отказывается признавать Red Dead Online упущенной возможностью 7 ч.
Власти США начали считать протесты против ИИ и ЦОД проявлением «антитехнологического экстремизма» 8 ч.
Смартфоны Honor массово «разучились» делать скриншоты, пожаловались пользователи 8 ч.
«Цены на подписку растут, а качество игр падает»: июньская подборка PS Plus разочаровала фанатов 8 ч.
Nvidia выпустила драйвер без «Панели управления», но с поддержкой 007 First Light, World of Tanks: Heat и других новых игр 8 ч.
В популярной ОС для роботов обнаружена уязвимость, позволяющая перехватывать управление 9 ч.