Сегодня 25 июля 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Intel наметила два пути производства 14-ангстремных чипов — с High-NA и запасной с Low-NA

Во время конференции Foundry Direct 2025 компания Intel представила стратегию использования литографии High-NA EUV в рамках будущего техпроцесса 14A. Хотя компания активно продвигает внедрение этой технологии, окончательное решение о её применении в серийном производстве пока не принято. Вместо этого Intel разработала резервный план, предусматривающий использование стандартной литографии Low-NA EUV для техпроцесса 14A. По словам представителей компании, оба варианта не потребуют модификации дизайнов чипов со стороны заказчиков.

 Источник изображения: Rubaitul Azad / Unsplash

Источник изображения: Rubaitul Azad / Unsplash

При этом второй экземпляр установки High-NA EUV — ASML Twinscan NXE:5000 стоимостью около $400 млн — уже установлен на заводе Intel в штате Орегон, но пока не используется в производственной среде из-за продолжающейся стадии разработки. По этой причине компания воздерживается от преждевременного внедрения, минимизируя технологические риски. Исполнительный вице-президент Intel, технический директор по операциям и руководитель подразделения Foundry Technology and Manufacturing доктор Нага Чандрасекаран (Naga Chandrasekaran) подчеркнул, что производственные параметры High-NA соответствуют ожиданиям, и компания внедрит эту технологию тогда, когда сочтёт это целесообразным.

Доктор Чандрасекаран сообщил, что у Intel уже имеются данные по техпроцессам 14A и 18A, демонстрирующие паритет по выходной годности между решениями на базе Low-NA EUV и High-NA EUV. По его словам, компания продолжает техническое совершенствование обоих направлений и обеспечивает наличие альтернативных маршрутов, чтобы выбранное решение минимизировало риски для клиентов и обеспечивало наилучший результат с точки зрения стратегических задач.

Компания планирует использовать High-NA EUV лишь для ограниченного числа слоёв в рамках техпроцесса 14A, а их точное количество не раскрывается. Для остальных уровней будут применяться другие литографические установки, включая Low-NA EUV. По утверждению Intel, использование тройной экспозиции с Low-NA вместо High-NA обеспечивает сопоставимый результат, при этом оба маршрута совместимы по правилам проектирования. Благодаря этому заказчикам не придётся вносить изменения в свои схемы, независимо от выбранной производственной стратегии.

По данным компании, паритет выходной годности между двумя подходами достигнут благодаря достижениям в современных технологиях многократной экспозиции, особенно в области наложения слоёв. На стадии разработки с использованием High-NA было произведено около 30 000 кремниевых пластин. Для достижения необходимой плотности рисунка с использованием Low-NA требуется три последовательные экспозиции и до 40 стадий обработки, в то время как High-NA обеспечивает нужный шаг за одну экспозицию. Таким образом, маршрут с High-NA становится короче и проще. Это также открывает возможность снизить плотность металлических слоёв, что может дать прирост производительности.

Intel не уточнила, основаны ли её сравнительные оценки на результатах экспонирования кристаллов размером с полный ретикул (фотошаблон, который используется в проекционной литографии для формирования изображения микросхемы на поверхности кремниевой пластины). Установки High-NA EUV в текущей конфигурации способны экспонировать только половину ретикула за один проход, поэтому для формирования процессора размером с весь ретикул требуются два прохода с последующим точным совмещением изображений. В тех случаях, когда площадь кристалла не превышает половину ретикула, High-NA позволяет выполнить экспозицию за один проход без необходимости совмещения. В отличие от этого, установки Low-NA EUV способны экспонировать кристалл размером с полный ретикул за один проход.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Никакой романтики: Nintendo официально назвала Марио и принцессу Пич «просто друзьями» 48 мин.
Почти вечная жизнь для легендарной игры: полное издание «Героев Меча и Магии III» записали на кристалл, который хранит данные миллиарды лет 51 мин.
Без передачи алгоритмов сделка США с TikTok не состоится — Министр торговли США назвал обязательные условия соглашения 2 ч.
Виртуальная машина Linux в Android научилась запускать Doom и другие приложения с графическим интерфейсом 2 ч.
Надёжный инсайдер: Ubisoft отменила Star Wars Outlaws 2 на фоне провальных продаж 4 ч.
OpenAI может выпустить новую мощную модель GPT-5 уже в августе 5 ч.
Google запустила ИИ-сортировку поисковой выдачи Web Guide — пока в тестовом режиме 6 ч.
Apple выпустила первые публичные беты iOS 26 и других ОС с прозрачным дизайном Liquid Glass 13 ч.
Ubisoft раскрыла дату выхода дополнения Claws of Awaji к Assassin’s Creed Shadows и план улучшений игры 13 ч.
Google объявила дату отключения сервиса сокращения ссылок goo.gl 16 ч.
Утечка показала смарт-часы Pixel Watch 4 во всех цветах — они получат ускоренную зарядку и улучшенные ремешки 20 мин.
Hyper-Threading вернётся в процессоры Intel, пообещал гендир Тан 24 мин.
«Байкал Электроникс» начала выпуск микроконтроллеров BE-U1000 на базе RISC-V 53 мин.
А теперь о погоде: ракета «Союз-2.1б» вывела на орбиту два российских спутника для изучения ионосферы и солнечного ветра 2 ч.
Спутниковый интернет Starlink полностью отключился на 2,5 часа минувшей ночью 3 ч.
Учёные впервые создали кубит из антиматерии — это может стать шагом в новую физику 3 ч.
Tesla упустила возможность заработать $5 млрд на биткоинах, продав их в 2022 году 3 ч.
Импортозамещение по-южнокорейски: LG AI Research выбрала ускорители FuriosaAI RNGD для своих ИИ-серверов 4 ч.
Планшет Honor Pad 10 с большим 12,1-дюймовым экраном поступил в продажу в России — от 29 990 рублей 4 ч.
В Китае расцвёл бизнес по ремонту санкционных ускорителей Nvidia 5 ч.