Сегодня 01 мая 2026
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

ASML поставила первый литографический сканер для чипов будущего с трёхмерной упаковкой

Нидерландская компания ASML в презентации к своему недавнему квартальному отчёту сообщила, что отгрузила клиенту первый литографический сканер нового семейства Twinscan XT:260, который оптимизирован для выпуска чипов со сложной трёхмерной пространственной упаковкой.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Подобное оборудование относится к серии i-line, использует длину волны лазера 365 нм и обладает разрешением около 400 нм, чего вполне достаточно для определённых задач. Производительность системы достигает 270 кремниевых пластин в час, что примерно в четыре раза выше существующих решений такого типа. Выпуск такого сканера призван сократить разрыв в технологических возможностях оборудования, используемого при обработке чипов на начальном (front-end) и конечном (back-end) этапах производства соответственно.

Генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) во время своего выступления на квартальной отчётной презентации подчеркнул, что передовые технологии упаковки становятся крайне важной частью цепочек поставок в полупроводниковой отрасли. В новом поколении литографических систем ASML намеревается использовать опыт, полученный при создании имеющихся сканеров. Кто именно из клиентов получил передовой сканер Twinscan XT:260, не уточняется. Формально, подобное оборудование может применять Intel при работе с технологией Foveros, либо TSMC при работе с технологиями CoWoS и SoIC. Анонс этого оборудования состоялся ещё осенью прошлого года, оно в основном будет использоваться для обработки кремниевых подложек для чипов со сложной пространственной компоновкой.

Такой сканер позволяет работать с полем изображения 52 × 66 мм, обеспечивая возможность обработки подложек площадью до 3432 мм2 по бесшовной технологии. В ситуации, когда площадь чипов за счёт многокристальной упаковки увеличивается, применение такого оборудования позволяет оптимизировать производственный процесс. Точность совмещения сканера этой модели составляет 35 нм, а ещё он позволяет работать с деформированными и толстыми (до 1,7 мм) кремниевыми пластинами типоразмера 300 мм. Скорость обработки также повышается за счёт одновременного выравнивания следующей пластины при экспонировании предыдущей. По словам руководства ASML, сканер Twinscan XT:260 является лишь первой моделью в целом семействе профильного литографического оборудования.

Источники:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Blue Origin намерена потеснить SpaceX — в планах запускать по 100 тяжёлых ракет New Glenn в год 7 мин.
Процессоры Hygon C86-4G, китайские наследники AMD Zen1, получили поддержку AVX-512, DDR5 и PCIe 5.0 17 мин.
HPE представила серверы ProLiant Compute EL220/EL240 Gen12 для ИИ-задач на периферии 2 ч.
К моменту затопления МКС Китай вдвое увеличит свою космическую станцию «Тяньгун» 2 ч.
Представлен флагманский планшет OnePlus Pad 4 — со Snapdragon 8 Elite Gen 5 и урезанной оперативной памятью 3 ч.
Учёные обнаружили квантовый эффект, который потенциально сможет питать микросхемы прямо из воздуха 3 ч.
Власти запретили ввозить в Россию терминалы Starlink и других иностранных провайдеров спутникового интернета 3 ч.
Полиция Калифорнии начнёт выписывать штрафы беспилотным автомобилям 3 ч.
Глобальные поставки смартфонов выросли на 1 % в первом квартале 2026 года 4 ч.
Учёные нашли перспективные материалы для электроники и батарей, просто прерывая известные процессы 4 ч.