Недавно Intel призналась, что техпроцесс 14A будет первой ступенью EUV-литографии с использованием оборудования с высокой числовой апертурой (High-NA), а компоненты первого образца такого оборудования компания начала получать ещё в прошлом году от ASML. Теперь стало известно, что специалистам ASML удалось запустить соответствующее оборудование в Нидерландах.

Источник изображения: ASML

Энн Келлехер (Ann Kelleher), которая в Intel отвечает за разработку технологий, во время конференции в Сан-Хосе на этой неделе подтвердила, что используемое для экспериментов оборудование с высоким значением числовой апертуры начало работу в лаборатории ASML, и тестовая кремниевая пластина уже была облучена с его помощью. Экземпляр литографического сканера ASML Twinscan EXE:5000 с аналогичными возможностями сейчас собирается в лаборатории Intel в Орегоне, но если судить по публикации Reuters, к полноценной работе он пока не готов.

Такое оборудование позволяет получить оптическое разрешение до 8 нм за одну экспозицию, что заметно лучше обычных EUV-сканеров, обеспечивающих разрешение 13,5 нм за одну экспозицию. Пока оборудование в Нидерландах проходит дальнейшую калибровку, и обрабатывать кремниевые пластины с целью получения полноценных тестовых чипов пока не готово. Предполагается, что после установки аналогичного сканера у себя в Орегоне Intel сможет начать подобные эксперименты, причём в рамках техпроцесса Intel 18A, хотя в серийном производстве соответствующее оборудование начнёт использовать не ранее 2026 года уже в рамках технологии Intel 14A. К концу 2027 года компания рассчитывает перейти на техпроцесс Intel 10A, который также будет использовать оборудование класса High-NA EUV.

Отгрузить Intel первый литографический сканер с высокой числовой апертурой ASML успела ещё в декабре прошлого года, но уже тогда было известно, что в рамках серийного производства чипов по технологии Intel 18A подобное оборудование использоваться не будет. Сама ASML утверждает, что в массовом производстве сканеры поколения High-NA начнут использоваться клиентами с 2026–2027 года.

Источник изображения: ASML

Напомним, что первый литографический сканер с высокой числовой апертурой Intel собирается использовать для экспериментов в своём исследовательском центре в Орегоне в сочетании с технологией Intel 18A, но в серийном варианте такое оборудование будет внедрено лишь на последующих ступенях литографии. На этой неделе, как сообщает Reuters, нидерландская компания ASML пригласила представителей прессы на своё предприятие, чтобы продемонстрировать образцы подобного оборудования и рассказать о перспективах их применения.

Интересно, что аналитики и представители ASML расходятся в своих представлениях о сроках разумного внедрения оборудования класса High-NA в условиях массового производства чипов. Эксперты Semianalysis, например, предполагают, что экономически целесообразным использование таких литографических сканеров станет не ранее 2030 года. Руководство ASML отвергает такие доводы, настаивая, что переход на новое поколение сканеров обеспечит экономическую отдачу гораздо раньше, и он начнётся уже в 2026 или 2027 году.

Интерес к такому оборудованию ASML уже проявляют Samsung и TSMC, но руководство последней недавно дало понять, что экономическая целесообразность будет серьёзно влиять на сроки внедрения технологии High-NA на конвейере этого крупнейшего контрактного производителя чипов в мире. Во-вторых, TSMC не готова переводить техпроцессы клиентов на новое оборудование, если это не будет им удобно. Словом, складывается впечатление, что TSMC пока не готова спешить с использованием литографического оборудования с высокой числовой апертурой.

Представители ASML на этой неделе пояснили, что выпускаемые ею литографические системы поколения High-NA весят 150 тонн, и в разобранном состоянии занимают 250 контейнеров. Чтобы привести такой сканер в готовность к работе, требуется труд 250 инженеров на протяжении шести месяцев. Сейчас ASML располагает от 10 до 20 заказами на поставку таких сканеров от клиентов, причём производители памяти в лице Micron и SK hynix тоже проявляют к ним интерес. К 2028 году компания ASML собирается наладит выпуск до 20 таких систем на ежегодной основе. Производители чипов при помощи нового оборудования могут уменьшить геометрические размеры полупроводниковых элементов на 40 %, увеличивая плотность размещения транзисторов до трёх раз. Одна такая система стоит около $380 млн. В течение этого года клиентам будет отгружено несколько экземпляров такого оборудования.

Нидерландская компания ASML — безусловный лидер рынка литографических сканеров для производства полупроводников — представила «первый рекламный фильм», созданный искусственным интеллектом. Видео создано с использованием моделей Midjourney и алгоритмов RunwayAI с минимальным вмешательством людей в процесс монтажа и редактирования, и оно поражает воображение. Это будущее, которое наступило, и которое скоро многое изменит в жизни каждого человека.

Кадр из созданного ИИ фильма ASML «Стоя на плечах гигантов». Источник изображения: ASML

Ролик ASML под названием «Стоя на плечах гигантов» отсылает к известному высказыванию Исаака Ньютона: «Если я видел дальше других, то потому, что стоял на плечах гигантов». В представлении ASML, сотрудники которой составляли текстовые подсказки, микропроцессорная индустрия и все современные достижения в области вычислений также стоят на плечах гигантов, включая самого сэра Ньютона.

Кстати, с Ньютоном и яблоком в его руке пришлось особенно помучиться, признаются в ASML. Это оказалась самая сложная сцена. Команде операторов потребовалось более 20 попыток, чтобы правильно её воспроизвести. Для этого было сгенерировано более 9800 кадров, после чего можно было удовлетвориться результатом.

В целом фильм был создан с использованием 1963 подсказок, которые дали 7852 изображения. Цифровые картинки были отредактированы, а затем отрисованы на более чем 900 компьютерах. Наконец, полученные рендеры были обработаны алгоритмами RunwayAI, и общий объём кадров составил 25 957 штук по 1000 Мбайт на каждый из них.

Заявленная на недавней квартальной отчётной конференции ASML доля выручки на китайском рынке в 39 % от совокупной не является уникальным для этого поставщика литографических сканеров феноменом. Статистика американской Lam Research гласит, что в прошлом квартале китайские клиенты формировали 40 % её выручки.

Источник изображения: ASML

Ресурс South China Morning Post отследил динамику выручки американского поставщика оборудования для травления кремниевых пластин Lam Research в Китай, и обнаружил, что во втором квартале прошлого года данное направление формировало 26 % всей выручки компании, в третьем квартале доля Китая выросла до 48 %, а в четвёртом ограничилась 40 %. Примечательно, что год назад Китай и Южная Корея сохраняли паритет с точки зрения важности для Lam Research, занимая по 22 % выручки компании. В дальнейшем влияние Китая только увеличивалось, поскольку в четвёртом квартале Южная Корея формировала лишь 19 % выручки компании, а Япония занимала третье место с 14 %.

ASML, как уже сообщалось, в прошлом квартале 39 % своей выручки получила в Китае, тем самым обеспечив превосходство Поднебесной над Тайванем, Японией и Южной Кореей. В третьем квартале доля КНР в структуре выручки этого нидерландского производителя литографического оборудования тоже была выше, чем в четвёртом, и достигала 46 %. Можно утверждать, что усугубление санкций США сказывается на динамике поставок литографического оборудования в Китай, а ведь оно произошло как раз осенью прошлого года. По итогам всего 2023 года доля выручки ASML, полученной в Китае, выросла с 14 до 29 % по сравнению с 2022 годом. В прошлом году, как уточняет руководство AMSL, компании пришлось удовлетворять заказы, размещённые до конца 2022 года.

Статистика китайских таможенных органов отдельно показала, что с сентября по декабрь Китай получил на 47 % меньше литографических систем из Нидерландов, а в стоимостном выражении импорт сократился на 72 % до $58,8 млрд. В то же время поставки оборудования для очистки кремниевых пластин в КНР выросли на 667 % до $3,85 млрд, поэтому говорить о наличии однонаправленных тенденций нельзя.

Аналитики отмечают, что рост выручки ASML в целом по итогам прошлого квартала в большей мере отображает ситуацию на рынке памяти типа HBM, поскольку её производители на фоне бума систем искусственного интеллекта бросились активно наращивать объёмы выпуска и закупать оборудование. В данном случае для выпуска HBM требуются EUV-сканеры, которые приносят ASML немало выручки в силу своей дороговизны.

Нидерландская компания ASML остаётся крупнейшим производителем литографических сканеров — оборудования, необходимого для производства полупроводниковых компонентов. В прошлом квартале ей удалось увеличить объём заказов в денежном выражении в 3,5 раза по сравнению с предыдущими тремя месяцами года, до рекордных €9,2 млрд.

Источник изображения: ASML

Как поясняет Bloomberg, в числовом выражении сумма заказов выросла по итогам минувшего квартала с 2,6 до 9,19 млрд евро. Спрос толкали вверх преимущественно самые современные литографические сканеры. В прошлом году выручка ASML выросла на 30 % до 27,6 млрд евро, и генеральный директор Петер Веннинк (Peter Wennink) заявил, что это было пиковым значением прироста, поскольку повторить его в текущем году уже не получится.

Примечательно, что отраслевые аналитики оценивали портфель заказов ASML в четвёртом квартале примерно в 3,6 млрд евро, а по факту он оказался почти в три раза больше. Из общей суммы 9,19 млрд евро на долю самых современных систем для работы с EUV-литографией пришлось 5,6 млрд евро. Финансовый директор компании Роджер Дассен (Roger Dassen) пояснил, что товарные запасы на стороне клиентов приближаются к норме и определённо находятся на лучших уровнях, чем пару кварталов назад.

Высокий спрос на литографическое оборудование ASML со стороны китайских производителей чипов на протяжении 2023 года позволил компании компенсировать негативное влияние кризисных явлений в мировой экономике на собственную выручку. Если в первом квартале прошлого года китайские клиенты формировали только 8 % выручки ASML, то в четвёртом квартале их доля выросла до 39 %, превратив КНР в крупнейший рынок сбыта продукции компании. Кстати, в третьем квартале доля Китая достигала 46 % выручки ASML, поэтому в четвёртом квартале наблюдался некоторый спад, вызванный вступлением в силу новых санкций. Южная Корея остаётся вторым по величине рынком сбыта для ASML со своими 25 % общей выручки, на Тайвань приходятся 13 %, США довольствуются 11 %, а страны Европы, Африки и Ближнего Востока (EMEA) сообща формируют 8 % выручки компании, тогда как в первом квартале их доля не превышала 1 %. Переток заказов из Тайваня и США наблюдался не только в Китай, но и в регион EMEA.

Аналитики Citigroup ожидали роста портфеля заказов ASML в первой половине текущего года, но он произошёл несколько раньше, ещё в прошлом квартале. В следующем году бизнес ASML тоже будет расти. В прошлом квартале выручка компании последовательно увеличилась с 6,67 до 7,24 млрд евро. В текущем году, по оценкам руководства ASML, до 15 % китайской выручки компании пострадает от введённых ранее экспортных ограничений США. На фоне оптимистичной отчётности акции ASML выросли в Амстердаме в цене на 7,5 %, что является максимальным приростом с ноября 2022 года.

Как сообщает информагентство Bloomberg, по прямому указанию из Белого дома компания ASML раньше срока разорвала ряд контрактов с китайскими компаниями на поставку оборудования для производства чипов. Очередной пакет санкций против Китая начинает действовать в январе 2024 года. Оборудование надеялись отгрузить до установленной даты, но этому помешал звонок из администрации Байдена.

Источник изображения: ASML

Если верить сообщению из анонимного источника, слова которого приводит информагентство, советник по национальной безопасности США Джейк Салливан (Jake Sullivan) позвонил правительству Нидерландов по этому вопросу в конце прошлого года. Однако голландские официальные лица попросили США обсудить поставки в Китай систем для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV, длина волны 193 нм) напрямую с ASML.

Литографические сканеры для производства полупроводников диапазона EUV с длиной волны 13,5 нм были запрещены к поставкам в Китай около двух лет назад. Они могут помочь с выпуском чипов с разрешением до 3 нм и менее. Сканеры DUV тоже могут приблизиться к таким нормам, но только за счёт множественного применения масок для каждого критически важного слоя, что удорожает производство. Впрочем, это не помешало китайским производителям наладить выпуск 7-нм чипов и продолжить совершенствовать техпроцессы.

Поэтому в США расценивают поставки сканеров DUV в Китай как значительную угрозу. Нюанс в том, что это бьёт по производителю оборудования — нидерландской компании ASML. Руководство компании пытается уверить инвесторов, что всё не так страшно, и доля китайских клиентов едва превышает 15 %. Однако статистика говорит, что осенью 2023 года от продаж в Китай ASML получала почти половину выручки.

Источник изображения: www.bloomberg.com

Ожидая очередного запрета с нового 2024 года, Китай сильно нарастил закупки оборудования, и доля продаж продукции ASML в Китай поднялась последовательно с 8 % в первом квартале до 24 % во втором и до 46 % в третьем. Можно только представлять, что покажет четвёртый квартал, когда в захлопывающуюся дверь пытались протолкнуть как можно больше литографических систем и смежной техники.

Власти Нидерландов якобы попытались уйти от ответственности, перебросив решение неприятного вопроса непосредственно руководству ASML. В то же время представитель ASML прокомментировал происшествие изданию Bloomberg. Компания утверждает, что в последний момент экспортная лицензия была отменена властями страны.

Данные китайской таможни по темпам ввоза оборудования ASML в Китай в 2023 году в сравнении с 2022 годом. Источник изображения: www.bloomberg.com

Подробности происшедшего не сообщаются. По словам ASML, отмена поставок в последний момент не сильно повлияет на доходы компании, поскольку она затронула небольшое количество оборудования считаным покупателям. Механизм разрыва сделки и ответственности сторон тоже не раскрыты. Но ясно одно, США крайне обеспокоены способностью Китая выпускать даже не самые передовые чипы, и любой новый станок в Поднебесную рассматривается как угроза.

Несмотря на отсутствие доступа к оборудованию для выпуска чипов с литографией в экстремальном ультрафиолете (EUV) из-за санкций, китайская компания SMIC продолжает разработку 5-нм и 3-нм техпроцессов производства чипов. Ранее SMIC удалось наладить серийное производство 7-нм микросхем, опираясь исключительно на литографию в глубоком ультрафиолете (DUV), что само по себе не является невозможным — техпроцесс TSMC N7P также не использует EUV.

Источник изображения: SMIC

В отчёте Nikkei утверждается, что сразу после запуска 7-нм техпроцесса 2-го поколения, SMIC создала исследовательскую группу для работы над 5-нм и 3-нм техпроцессами. Команду возглавляет ранее работавший в TSMC и Samsung содиректор SMIC Лян Монг-Сонг (Liang Mong-Song). «Нет более умного учёного или инженера, чем этот парень, — так охарактеризовал его Дик Терстон (Dick Thurston), бывший главный юрисконсульт TSMC. — Он действительно один из самых блестящих умов, которых я видел в области полупроводников».

SMIC прошла долгий путь от небольшой полупроводниковой фабрики до пятого по величине контрактного производителя микросхем в мире. На фоне растущей напряжённости между США и Китаем компания была включена в санкционный список Министерства торговли США и потеряла доступ к передовым инструментам для обработки кремниевых пластин, что серьёзно замедлило её развитие и внедрение новых технологических процессов.

На данный момент литографические машины ASML Twinscan NXT:2000i являются лучшими инструментами, которыми располагает SMIC — они могут производить травление с разрешением до 38 нм. Этот уровень точности обеспечивает экспонирование с шагом 38 нм с использованием двойной фотомаски, чего достаточно для производства чипов класса 7 нм. Согласно исследованиям ASML и IMEC, при 5 нм шаг металла уменьшается до 30-32 нм, а при 3 нм — до 21-24 нм, что уже требует применения EUV.

Источник изображения: ASML

Но использование инструментов литографии со сверхвысоким разрешением (13 нм для EUV с низкой числовой апертурой) — не единственный путь к достижению сверхмалых размеров транзисторов. Другой вариант предусматривает нанесение нескольких последовательных масок, но это сложный процесс, который увеличивает продолжительность производственного цикла, снижает процент выхода годных изделий, увеличивает износ оборудования и повышает затраты. Однако без доступа к EUV-литографии у SMIC просто нет другого выбора, кроме как использовать тройное, четверное или даже пятикратное паттернирование.

Терстон считает, что под руководством Лян Монг-Сонга SMIC сможет производить (если уже не производит) 5-нм чипы в больших количествах без использования инструментов EUV. Однако сегодняшний отчёт Nikkei впервые сообщает о возможной способности SMIC разработать в обозримом будущем 3-нм производственный процесс на оборудовании класса DUV.

Длительное время способность Intel выпускать чипы по передовому для компании техпроцессу 18A привязывалась к литографическому оборудованию с высоким значением числовой апертуры (High-NA), но недавно выяснилось, что оно имеет значение лишь для экспериментов, а не серийного производства. Тем не менее, первая такая система производства ASML лишь недавно была отгружена поставщиком для нужд Intel.

Источник изображения: Intel, ASML, X

Представители Intel уже давно не без гордости регулярно говорили о намерениях компании стать первым клиентом ASML, получающим литографические сканеры с увеличенным с 0,33 до 0,55 значением числовой апертуры. Данная характеристика позволяет при использовании сверхжёсткого ультрафиолетового излучения (EUV) добиться линейного разрешения 8 нм против 13 нм у оборудования со значением числовой апертуры 0,33. Формально, последнее тоже позволяет изготавливать чипы по технологиям «тоньше» 2 нм, но потребует более сложной оснастки из-за необходимости двойной экспозиции и увеличит продолжительность производственного цикла.

Впрочем, если учесть, что ASML лишь на этой неделе подтвердила отправку первого литографического сканера с высокой числовой апертурой для нужд Intel, и в массовом производстве по техпроцессу 18A последняя всё равно будет полагаться на оборудование предыдущего поколения, для данного клиента это событие в большей степени обеспечивает некоторую фору при освоении последующих техпроцессов, которые в массовом производстве будут внедрены уже в 2026 и 2027 годах. Напомним, что во второй половине десятилетия Intel рассчитывает войти в число двух крупнейших контрактных производителей чипов, и новейшие техпроцессы она будет предлагать сторонним клиентам с минимальной задержкой относительно момента внедрения на собственном производстве. К середине десятилетия Intel рассчитывает превзойти TSMC и Samsung по степени продвинутости используемых техпроцессов. Первые образцы изделий, выпускаемых по технологии Intel 18A, появятся уже в следующем квартале.

В заявлениях ASML не говорится о модели литографического сканера, который был отгружен компании Intel, ни о конечном адресе доставки, но из неофициальных источников известно, что речь идёт о прототипе Twinscan EXE:5000, который будет доставлен в исследовательский центр Intel в штате Орегон, где расположена передовая лаборатория компании. Система упакована в 250 крупных ящиков и занимает 13 контейнеров, с учётом времени доставки и последующего монтажа Intel сможет приступить к её эксплуатации лишь через несколько месяцев. Считается, что в серийном производстве Intel будет использовать более совершенные сканеры Twinscan EXE:5200, которые будут поставлены позже. Стоимость каждой такой системы измеряется несколькими сотнями миллионов долларов США. По крайней мере, Twinscan EXE:5200 оценивается аналитиками в 250 млн евро.

В середине прошлого месяца японская компания Canon начала поставлять клиентам оборудование для печати 5-нм чипов без использования фотолитографии, а в этом месяце представители японского производителя пояснили, что такое оборудование будет примерно в десять раз дешевле систем для выпуска 5-нм чипов от ASML, а также будет потреблять в десять раз меньше электроэнергии.

Источник изображения: Canon

Напомним, ранее Canon хоть и выпускала литографическое оборудование, по его разрешающей способности могла конкурировать с ASML лишь в некоторой части ассортимента последней, причём в не самой передовой. На протяжении десяти лет Canon разрабатывала технологию нанопечати чипов, которая не подразумевает использования проекции фотошаблонов на кремниевую пластину. Стоит отметить, что оборудование для нанопечати предназначено для создания сравнительно небольших партий чипов, и не может претендовать на соперничество с системами ASML в массовом производстве. Уступая в производительности традиционному фотолитографическому оборудованию, новое технологическое решение обладает рядом преимуществ, по словам генерального директора Canon Фудзио Митараи (Fujio Mitarai), на которого ссылается Bloomberg.

По сравнению с оборудованием ASML для выпуска 5-нм чипов, предлагаемые Canon машины окажутся в 10 раз дешевле, как считает руководитель компании. Впрочем, окончательное решение по принятой ценовой политике пока не принято, но совершенно очевидно, что новый тип технологического оборудования Canon сделает выпуск чипов более доступным для небольших компаний. Даже крупные контрактные производители смогут охотнее браться за небольшие партии изделий, используя оборудование Canon, по мнению главы последней. Во-вторых, оборудование Canon данного семейства потребляет в десять раз меньше электроэнергии, чем используемое ASML для EUV-литографии. В наш век борьбы за экологию это важно, да и расходы на электроэнергию как таковые тоже удастся снизить.

Санкции японских властей против Китая, которые действуют с июля этого года, оборудование для нанопечати чипов напрямую не упоминают, но руководство Canon считает, что компания всё равно не сможет поставлять его китайским клиентам, поскольку с его помощью последние смогли бы выпускать компоненты «тоньше» 14-нм, а это не приветствуется ни японскими властями, ни США, ни другим их важным союзником — Нидерландами.

С первого января следующего года нидерландский холдинг ASML утратит возможность поставлять в Китай часть ассортимента своих литографических сканеров, предназначенных для работы с технологией DUV, но прочее оборудование для зрелых техпроцессов в этом году будет поставлять даже в бóльших количествах, поскольку этого требуют китайские клиенты.

Источник изображения: ASML

Напомним, что в третьем квартале китайский рынок определил 46 % выручки компании ASML, поэтому воспринимать пожелания местных заказчиков она склонна на полном серьёзе. Уже в этом году объёмы поставок оборудования в Китай для зрелой литографии ASML увеличит, чтобы лучше соответствовать возросшему уровню спроса. Старший вице-президент ASML Шэнь Бо (Shen Bo), отвечающий за бизнес компании в регионе, на прошлой неделе пояснил, что спрос на оборудование этой марки за пределами Китая подвергся существенным колебаниям на стадии спада рынка, но в Китае он остаётся очень высоким, если речь идёт об оборудовании для работы со зрелыми техпроцессами. Поставлять в Китай передовые сканеры для работы с EUV-литографией компания не может с 2019 года.

Китайские клиенты, по словам представителя ASML, потребовали поставить в этом году заказанные литографические системы как можно скорее. Этот год в целом, как признался Шэнь Бо, предоставил компании возможность наверстать упущенное за два предыдущих года в отношении китайских клиентов, перед которыми у ASML накопились невыполненные обязательства. В общей сложности, на китайском направлении компания набрала за два предыдущих года заказов на общую сумму 35 млрд евро. Компании, по словам представителя, ещё требуется сделать многое, чтобы превратить Китай в конкурентоспособный рынок в мировом масштабе.

С января ASML утратит возможность поставлять в Китай некоторые модели сканеров семейства TWINSCAN 2000, которые, по мнению американских чиновников, могут быть использованы для производства 7-нм и 5-нм чипов, заказываемых компанией Huawei Technologies. Тогда как в Китае рост на оборудование ASML растёт, на остальных географических направлениях он в третьем квартале снизился, новые заказы были получены на сумму 2,6 млрд евро, которая на 42 % меньше достигнутой во втором квартале.

По словам представителей ASML, для компании Китай продолжит оставаться важным рынком. За время своего присутствия в регионе компания продала около 1400 литографических и измерительных систем, начиная с 1988 года. ASML в ближайшие два года расширит свой локальный штат персонала, который участвует в разработке оборудования, его обслуживании и ремонте.

США активно сотрудничают с Японией и Нидерландами, чтобы запретить Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям, использованным в 7-нанометровом чипе для Huawei Mate 60 Pro. Китайская компания SMIC, создавшая чип, продемонстрировала производственные возможности, вызвавшие серьёзную озабоченность в США. По информации от инсайдеров, SMIC пользовалась оборудованием ASML в сочетании с инструментами других компаний, что вызвало в Вашингтоне вопросы об эффективности контроля за передовыми технологиями.

Источник изображений: ASML

ASML играет ключевую роль в глобальной цепочке поставок чипов. Она обладает монополией на передовые системы литографии в сверхжёстком ультрафиолете (EUV), которые необходимы для производства самых передовых чипов, а также поставляет литографические сканеры для производства полупроводников по более зрелым техпроцессам.

ASML никогда не могла продавать свои системы EUV-литографии в Китай из-за экспортных ограничений. Но, по мнению отраслевых аналитиков, менее продвинутые системы для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) могут быть переоснащены оборудованием для осаждения и травления для производства 7-нанометровых и, возможно, даже более совершенных чипов.

Безусловно, этот процесс намного дороже, чем непосредственное использование EUV-литографии, что затрудняет масштабирование производства в конкурентной рыночной среде, однако китайское правительство готово взять на себя значительную часть затрат. Китайские компании уже много лет законно накапливают запасы DUV-оборудования, особенно после того, как в прошлом году США ввели экспортный контроль, к которому затем подключили Японию и Нидерланды. Но по словам источников, экспортные ограничения в отношении ASML были введены слишком поздно, чтобы остановить китайские успехи в производстве микросхем.

Давление со стороны США подтолкнуло правительство Нидерландов прошлым летом объявить о планах запретить компании ASML поставлять в Китай без лицензии три из четырёх своих самых передовых моделей машин для DUV-литографии, второй по мощности категории оборудования. В настоящее время ASML по-прежнему может экспортировать эту продукцию в Китай, но с января следующего года поставки будут полностью прекращены.

В этом году китайские производители микросхем увеличили количество заказов на литографическое оборудование в преддверии вступления экспортного контроля в полную силу в 2024 году. На долю Китая пришлось 46 % от всех продаж ASML в третьем квартале по сравнению с 24 % в предыдущем квартале и 8 % в первом.

Новые меры контроля, о которых администрация США объявила в этом месяце, ещё больше ограничивают экспорт оборудования для DUV-литографии. Согласно новым правилам, ASML по-прежнему сможет поставлять лишь свою наименее совершенную машину NXT:1980Di на китайские предприятия, производящие старые чипы. Это затронет поставки ASML на шесть заводов в Китае, включая одно предприятие SMIC. По прогнозам, новые экспортные ограничения в США и Нидерландах снизят поставки оборудования ASML в Китай на 15 %.

Эксперты полагают, что новые ограничения США на поставку оборудования для EUV-литографии теперь соответствуют ограничениям в Нидерландах. Но в вопросе регулирования DUV-машин США пошли дальше, что вызвало недовольство: группа голландских политиков, включая законодателей от двух партий правящей коалиции, призвала своё правительство выступить против новых мер США.

Генеральный директор ASML Питер Веннинк (Peter Wennink) также публично выступил против этих мер и предупредил, что они могут побудить Китай к разработке конкурирующих технологий. «Чем больше вы будете оказывать на них давление, тем больше вероятность, что они удвоят свои усилия», — заявил он.

«Соединённые Штаты провели свой собственный анализ безопасности. Они имеют на это право», — заявила министр внешней торговли Нидерландов Лейсье Шрайнемахер (Leisje Schreinemacher) в парламенте на этой неделе. Она полагает, что Европейский Союз должен играть более важную роль в обсуждениях с США по контролю за экспортом чувствительных технологий и собирается поднять этот вопрос перед премьер-министром Марком Рютте (Mark Rutte) в Брюсселе.

Нидерландский холдинг ASML является крупнейшим в мире поставщиком литографических сканеров, которые необходимы для производства полупроводниковых компонентов, и с 2019 года он по указанию властей страны не поставляет в Китай свои передовые системы для работы с EUV-литографией. По некоторым данным, на работу в Huawei перешёл бывший сотрудник ASML, прихвативший с собой секретные технические сведения.

Источник изображения: ASML

По крайней мере, об этом сообщает Bloomberg со ссылкой на нидерландское издание NRC. По заявлениям ASML от февраля этого года, бывший сотрудник китайского подразделения компании похитил данные, имеющие отношение к ноу-хау в сфере оборудования для выпуска чипов. Как было установлено, подозреваемый похитил информацию из базы данных, используемой ASML для хранения соответствующей технической документации.

По данным источника, обвиняемый в хищении технической информации ASML сотрудник до своего внезапного увольнения уже сотрудничал не только с Huawei Technologies, но и с некоторыми связанными с правительством КНР структурами, по заданию которых и была добыта служебная документация ASML. Данные структуры уже подозревались в краже интеллектуальной собственности по другим эпизодам.

Данное расследование обретает особую актуальность в свете определённых успехов партнёров Huawei по выпуску 7-нм компонентов вроде того же процессора HiSilicon Kirin 9000S, обнаруженного в составе новейшего смартфона Huawei Mate 60 Pro, вышедшего на китайский рынок в начале осени. Западные эксперты подозревают, что выпустить 7-нм процессор для Huawei компания SMIC смогла не без помощи самого заказчика, который активно вкладывается в развитие собственной производственной экосистемы, позволяющей обходить санкции США. В этом месяце ограничения на поставку в Китай определенного ассортимента литографического оборудования ASML были дополнительно усилены, и теперь аналитики считают, что у китайских компаний могут возникнуть трудности даже с производством 28-нм чипов.

Поставки литографического оборудования, которыми занимается нидерландская компания ASML — это растянутый во времени процесс и заказчики формируют бюджет на закупку заблаговременно. По этой причине резкое снижение объёма заказов на продукцию компании в третьем квартале — важный маркер, позволяющий говорить о наличии проблем в полупроводниковой отрасли.

Источник изображения: ASML

Сегодня ASML отчиталась о результатах деятельности за третий квартал текущего года, разочаровав отраслевых аналитиков. Компания сообщила, что объём заказов в денежном выражении за период последовательно сократился на 42 % до €2,6 млрд, тогда как инвесторы ожидали показателей на уровне €4,5 млрд. По словам генерального директора Петера Веннинка (Peter Wennink), макроэкономическая ситуация за прошедшие три месяца не улучшилась. Высокими остаются как темпы инфляции, так и ставки рефинансирования, многие участники экономической деятельности опасаются рецессии как в Европе, так и в США. Периодически трудностей добавляет и геополитическая обстановка — добавил глава ASML.

Выручка компании последовательно упала впервые за шесть кварталов до €6,7 млрд, хотя по итогам всего 2023 года производитель всё равно рассчитывает увеличить её на 30 % по сравнению с прошлым годом. В годовом сравнении квартальная выручка ASML выросла на 15,5 %. Зато в следующем году выручка ASML останется примерно на уровне текущего, признало руководство. Впрочем, прибыль компании в минувшем квартале последовательно сократилась с €1,94 до €1,89 млрд, что нельзя считать существенным ухудшением, да и в годовом сравнении она выросла на 11 %. Тем более, что норму прибыли удалось удержать на уровне 51,9 %, выше ожиданий руководства.

Как отметил Веннинк, клиенты ASML сейчас работают над выходом из затянувшегося кризиса, и переломным моментом может стать конец текущего года, после чего начнётся улучшение. Но пока участники рынка не готовы сказать, насколько быстрым оно будет. Для самой ASML следующий год будет переходным, как выразился глава компании, поэтому и прогноз по выручке получился консервативным. Зато в 2025 году делается ставка на существенный рост выручки. В текущем квартале ASML рассчитывает выручить от €6,7 до €7,1 млрд, удержать норму прибыли в диапазоне от 50 до 51 %. Расходы на исследования и разработки последовательно вырастут с €992 млн до €1,03 млрд.

Примечательно, что Китай в прошлом квартале формировал 46 % выручки ASML, хотя за три месяца до этого его доля не превышала 24 %, а в первом квартале вообще ограничивалась 8 %. По словам Веннинка, китайские клиенты рады приобретать то оборудование, от которого по разным причинам отказываются клиенты ASML из других стран. Однако с января следующего года вступят в силу новые ограничения на экспорт оборудования ASML в Китай со стороны властей Нидерландов. Скажутся на бизнесе компании и объявленные вчера изменения в правилах экспортного контроля США, пусть и только в средне- и долгосрочной перспективе, а не в этом году.

Введение администрацией Джо Байдена новых экспортных правил на поставки в Китай чипов и оборудования для их производства негативно отразятся на продажах ASML Holding NV в этой стране в среднесрочной и долгосрочной перспективе, сообщили в компании агентству Bloomberg. О том, что США расширяют перечень производственного оборудования, подпадающего под ограничения, рассказали во вторник Bloomberg высокопоставленные представители администрации.

Источник изображения: ASML

ASML заявила, что новые правила «вероятно, повлияют на региональные продажи её оборудования в среднесрочной и долгосрочной перспективе». Вместе с тем ASML предполагает, что они будут применяться к ограниченному числу китайских заводов, производящих современные полупроводники. Также компания не предполагает, что ограничения США окажут существенное влияние на её финансовые результаты в этом году.

Кроме того, ASML намерена обратиться за дополнительными разъяснениями к властям США по поводу сферы действия новых правил. Ранее в этом году ASML попала под прессинг США, требующих ограничить поставки передовых технологий в Китай, являющийся для неё одним из крупнейших рынков. Под давлением Белого дома правительство Нидерландов ввело ограничения на поставку в Китай оборудования для работы с иммерсионной литографией с глубоким ультрафиолетом (DUV), которые вступят в полную силу с 1 января 2024 года.

После объявления о введении США экспортных ограничений акции ASML сначала упали на 2,3 %, а затем выросли в цене на 0,4 %.

Долгое время отсутствие озабоченности американских властей способностью китайских компаний получать литографическое оборудование из Японии строилось на убеждении в том, что местные производители предлагают решения преимущественно для зрелой литографии. Canon на этой неделе разрушила этот миф, начав поставлять оборудование для изготовления 5-нм чипов, но использующее иной принцип работы, нежели машины лидирующей в данной сфере ASML.

Источник изображений: Canon

По крайней мере, как поясняет Bloomberg, установка Canon FPA-1200NZ2C нового поколения позволяет наносить на кремниевые пластины рисунок с минимальными размерами в 14 нм, что позволяет получать чипы, которые по своим характеристикам соответствуют 5-нм аналогам ведущих мировых производителей, изготовленным с использованием так называемой EUV-литографии. За счёт последовательных улучшений и совершенствования данного оборудования Canon даже рассчитывает создать условия для выпуска 2-нм изделий на этих машинах. При этом сам по себе метод обработки кремниевых пластин, применяемый Canon, имеет больше общего с печатью, а не фотолитографией как таковой, поскольку для переноса микроскопических структур интегральных микросхем на кремниевую пластину принцип проекции изображения вообще не используется.

Относительная новизна технологии в данном контексте добавляет проблем американскому правительству, которое стремится запретить поставки в Китай любого оборудования, позволяющего местным компаниям выпускать передовые чипы. Определённые договорённости в сфере литографии между властями США и Японии уже достигнуты, но оборудование Canon нового типа ими не покрывается. Представители компании пока не комментируют, будут ли правила экспортного контроля Японии регламентировать возможность поставки такого оборудования в Китай.

Нанопечатная литография долгое время считалась более дешёвой альтернативой оптической литографии, и в прошлом с её использованием экспериментировали производители микросхем памяти типа SK hynix и Kioxia. Последняя даже испытывала оборудование Canon для нанопечатной литографии, прежде чем оно было готово к серийному производству. На том этапе к оборудованию потенциальным заказчиком выдвигались претензии, преимущественно заключавшиеся в высоком уровне брака продукции.

Конкурирующая ASML из Нидерландов до сих пор оставалась ведущим мировым производителем литографических систем, позволяющих выпускать чипы с технологическими нормами 5 нм и меньше. В текущем году она рассчитывает увеличить выручку на 30 %, а все заказы на своё оборудование сможет удовлетворить только в следующем, как минимум. Ещё в 2014 году компания Canon поглотила разработчика систем для нанопечатной литографии Molecular Imprints, и с тех пор прилагала серьёзные усилия к развитию соответствующих технологий. Первое за долгое время новое предприятие Canon по выпуску литографического оборудования к северу от Токио будет введено в строй в 2025 году. Свою продукцию Canon поставляет и для нужд тайваньской TSMC — крупнейшего контрактного производителя чипов в мире.