Сегодня 09 июля 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

ASML создала первый образец полупроводника с применением литографии High-NA EUV

Нидерландская компания ASML сообщила о создании первых образцов полупроводниковых изделий с помощью своего первого литографического сканера со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением и проекционной оптикой с высокой числовой апертурой со значением 0,55 (High-NA EUV). Событие является важной вехой не только для ASML, но и для технологии High-NA EUV в целом.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

«Наша High-NA EUV-система в Вельдховене напечатала первые в мире линии плотностью 10 нанометров. Визуализация была сделана после того, как оптика, датчики и стадии прошли процесс грубой калибровки. Далее планируется доведение системы до полной производительности и получение тех же результатов в полевых условиях», — говорится в заявлении ASML.

В настоящее время ASML создала всего три литографические системы High-NA EUV. Одна собрана в штаб-квартире компании ASML в Вельдховене (Нидерланды), другую собирают на американском заводе Intel D1X недалеко от Хиллсборо, штат Орегон. Третья будет собрана в Imec, ведущем научно-исследовательском институте полупроводников в Бельгии.

Похоже, ASML стала первой компанией, объявившей об успешном создании образцов с использованием системы литографии High-NA EUV, что является важной вехой для всей полупроводниковой промышленности. ASML собирается использовать свой сканер Twinscan EXE:5000 только для исследования и совершенствования технологии.

В свою очередь, Intel планирует использовать Twinscan EXE:5000, чтобы научиться применять EUV-литографию с высокой числовой апертурой для массового производства чипов. Сканер будет применяться для R&D-проектов с использованием её фирменного техпроцесса Intel 18A (класс 1,8 нм). А вот сканер следующего поколения, Twinscan EXE:5200, планируется задействовать для производства чипов согласно техпроцессу 14A (класс 1,4 нм).

Сканер ASML Twinscan EXE:5200, оснащённый оптикой с числовой апертурой 0,55, предназначен для нанесения элементов чипов с разрешением 8 нм, что является значительным улучшением по сравнению с текущими EUV-системами, обеспечивающими разрешение 13 нм. Новая технология позволяет сократить размеры транзисторов в 1,7 раза и обеспечить увеличение их плотности в 2,9 раза за одну экспозицию по сравнению с инструментами с низкой числовой апертурой (Low-NA EUV).

Сканеры с низкой числовой апертурой тоже позволяют добиться такого уровня разрешения, однако в таком случае требуется использование более дорогостоящего метода двойного шаблона. Переход на системы с литографией High-NA EUV необходим для выпуска чипов согласно нормам ниже 3 нм, массовое производство которых планируется начать в 2025–2026 годах. Применение High-NA EUV-литографии позволяет исключить необходимость в использовании двух проходов с двумя шаблонами, тем самым оптимизировать производственные процессы, потенциально повысив производительность и сократив производственные расходы. С другой стороны, инструменты с высокой числовой апертурой стоят до 400 миллионов долларов каждый и имеют свои недостатки, которые усложняют переход к более совершенным технологическим процессам.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
VK опубликовала рейтинг самых популярных игр и приложений в RuStore 5 мин.
ИИ неделями дурачил пользователей музыкального сервиса, выдавая себя за рок-группу из живых людей 6 мин.
Суд США заблокировал правило FTC о простой отмене подписок «в один клик» 13 мин.
Новая игра от авторов World of Tanks с треском провалилась — мультиплеерный экшен Steel Hunters закроют всего через полгода с выхода в ранний доступ Steam 29 мин.
Выпущена обновлённая версия AMOS — распространённый вирус для macOS стал ещё опаснее 37 мин.
Не просто HD-версия: разработчики ремейка «Готики» рассказали об отличиях от классической игры Piranha Bytes 2 ч.
ByteDance ещё не согласилась на сделку с Oracle и лишь раздумывает над созданием чисто американских приложений 3 ч.
Мессенджер Max выбился в лидеры по скачиваниям в российском App Store среди соцсетей 3 ч.
Роскомнадзор заявил, что каждый день выявляет 1,2 млн звонков с подменой номера 3 ч.
Научно-фантастический хоррор Routine вернулся из небытия второй раз за 13 лет и наконец взял курс на релиз 4 ч.
Kioxia начала тестировать быструю и эффективную память UFS 4.1 для смартфонов будущего 2 мин.
Прототипы большого флагманского внедорожника Xiaomi YU9 замечены в Китае 9 мин.
Представлен планшет OnePlus Pad Lite — 11-дюймовый 90-Гц дисплей, чип Helio G100 и батарея на 9340 мА·ч за $268 32 мин.
Вышел крошечный одноплатный компьютер NanoPi R76S с двумя портами 2.5GbE и 16 Гбайт ОЗУ 54 мин.
Электромобиль Lucid Air проехал на одной зарядке 1205 км — это новый мировой рекорд 2 ч.
G.Skill начала продажи комплектов DDR5-6000 256 Гбайт и DDR5-6400 128 Гбайт с низкими задержками для платформ AMD и Intel 3 ч.
Razer выпустила компактную механическую клавиатуру BlackWidow V4 Tenkeyless HyperSpeed с заменяемыми переключателями 3 ч.
Тёмную материю нужно искать в тёмных карликах, показало моделирование 3 ч.
Пять причин полюбить HONOR 400 3 ч.
Японская Mitsui OSK Lines построит плавучий ЦОД и запитает его от турецкого корабля-электростанции 4 ч.