Сегодня 19 августа 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Samsung рассчитывает получить первую литографическую систему High-NA EUV к концу этого года

Южнокорейская компания Samsung Electronics не только остаётся крупнейшим производителем памяти, но и не оставляет амбиций в сфере контрактного производства логических компонентов. Ради движения в ногу с прогрессом она собирается вслед за Intel получить к концу этого года литографический сканер ASML TwinScan EXE:5000, который позволяет работать с высоким значением числовой апертуры (High-NA).

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Intel является крупнейшим клиентом ASML на этом направлении и пытается выкупить все доступные для заказа на этот год подобные системы, но намерения Samsung показывают, что при определённой настойчивости корейская компания тоже может получить свою первую литографическую систему класса High-NA EUV к концу текущего года или в первом квартале следующего. Подобное оборудование должно позволить Samsung не только наладить выпуск чипов по технологиям «тоньше» 2 нм, но и делать это с более низкой себестоимостью. Правда, сам литографический сканер такого класса стоит не менее $380 млн, а ещё он занимает больше места, поэтому внедрение такого оборудования потребует не только высоких первоначальных затрат, но и смены подхода к планировке цехов.

Попутно южнокорейские СМИ сообщают, что Samsung призналась в наличии у неё средств инспекции фотомасок японской марки Lasertec, которые адаптированы к технологии High-NA EUV. Если всё пойдёт по плану, Samsung сможет наладить выпуск первых прототипов продукции на оборудовании такого класса к середине следующего года. Впрочем, в массовом производстве технология High-NA EUV будет освоена компанией ближе к 2027 году.

Samsung в сотрудничестве с Synopsys также внедряет иной «рисунок» элементов полупроводниковых чипов, который предполагает переход от прямых линий к кривым. Это позволит создавать более плотные структуры на чипах и продвинуться в освоении более «тонких» техпроцессов. Компания TSMC также рассчитывает получить до конца года от ASML свой первый литографический сканер класса High-NA EUV, но внедрить подобное оборудование в массовом производстве чипов по технологии A14 планирует не ранее 2028 года.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Ведущий Gamescom: Opening Night Live заинтриговал игроков клоунским образом — фанаты увидели в этом тизер Hollow Knight: Silksong 7 ч.
ГК «Солар» приобрела 90 % поставщика решений для безопасной разработки ПО Hexway 7 ч.
Календарь релизов —18–24 августа: Black Myth: Wukong на Xbox, Sword of the Sea и Void/Breaker 8 ч.
Resident Evil Requiem, Cronos: The New Dawn, Pragmata и не только: Nvidia рассказала, какие новые игры получат поддержку DLSS 4 и трассировки лучей 8 ч.
ИИ-тренер для геймеров Nvidia Project G‑Assist получил поддержку слабых видеокарт 8 ч.
Assassin’s Creed Shadows стала самой продаваемой новой игрой 2025 года в Европе, опередив Monster Hunter Wilds и Kingdom Come: Deliverance 2 10 ч.
Курс биткоина упал до $115 000 после нового рекорда на прошлой неделе 10 ч.
Чат-бот Claude AI станет прекращать «вредоносные или оскорбительные диалоги с пользователями» 12 ч.
Таиланд разрешит иностранным туристам обменивать криптовалюту на баты уже к концу года 12 ч.
Полностью отключить обновление приложений в Microsoft Store больше не получится 12 ч.