Сегодня 01 октября 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Samsung рассчитывает получить первую литографическую систему High-NA EUV к концу этого года

Южнокорейская компания Samsung Electronics не только остаётся крупнейшим производителем памяти, но и не оставляет амбиций в сфере контрактного производства логических компонентов. Ради движения в ногу с прогрессом она собирается вслед за Intel получить к концу этого года литографический сканер ASML TwinScan EXE:5000, который позволяет работать с высоким значением числовой апертуры (High-NA).

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Intel является крупнейшим клиентом ASML на этом направлении и пытается выкупить все доступные для заказа на этот год подобные системы, но намерения Samsung показывают, что при определённой настойчивости корейская компания тоже может получить свою первую литографическую систему класса High-NA EUV к концу текущего года или в первом квартале следующего. Подобное оборудование должно позволить Samsung не только наладить выпуск чипов по технологиям «тоньше» 2 нм, но и делать это с более низкой себестоимостью. Правда, сам литографический сканер такого класса стоит не менее $380 млн, а ещё он занимает больше места, поэтому внедрение такого оборудования потребует не только высоких первоначальных затрат, но и смены подхода к планировке цехов.

Попутно южнокорейские СМИ сообщают, что Samsung призналась в наличии у неё средств инспекции фотомасок японской марки Lasertec, которые адаптированы к технологии High-NA EUV. Если всё пойдёт по плану, Samsung сможет наладить выпуск первых прототипов продукции на оборудовании такого класса к середине следующего года. Впрочем, в массовом производстве технология High-NA EUV будет освоена компанией ближе к 2027 году.

Samsung в сотрудничестве с Synopsys также внедряет иной «рисунок» элементов полупроводниковых чипов, который предполагает переход от прямых линий к кривым. Это позволит создавать более плотные структуры на чипах и продвинуться в освоении более «тонких» техпроцессов. Компания TSMC также рассчитывает получить до конца года от ASML свой первый литографический сканер класса High-NA EUV, но внедрить подобное оборудование в массовом производстве чипов по технологии A14 планирует не ранее 2028 года.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
С 1 ноября клиентов гиперскейлеров вынудят покупать лицензии на VMware напрямую у Broadcom 6 ч.
Редактор видео Adobe Premier стал доступен на iOS — бесплатно 7 ч.
Грандиозный мод Fallout: London для Fallout 4 получил большое бесплатное дополнение с 30 новыми квестами и блэкджеком 7 ч.
«Недостающая подушка безопасности»: в «Google Диск» встроили ИИ-защиту от программ-вымогателей 7 ч.
OpenAI представила Sora 2 — ИИ-генератор видео с реалистичной физикой и логикой, а также возможностью встроить в ролик самого себя 8 ч.
Вторая глава, повышение максимального уровня, отключаемый интерфейс и многое другое: для Titan Quest 2 вышло первое крупное обновление 9 ч.
Соавтор Disco Elysium устроит из анонса новой игры событие мирового масштаба — Summer Eternal готовит необычную презентацию Red Rooster 10 ч.
Российский суд оштрафовал Microsoft и Telegram на 3,5 млн рублей каждую, а Apple — на 7 млн 11 ч.
Основатель и глава Spotify внезапно объявил об уходе в отставку 11 ч.
Команды разработчиков Windows воссоединились после шестилетней работы порознь 11 ч.