Сегодня 13 июня 2026
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Samsung рассчитывает получить первую литографическую систему High-NA EUV к концу этого года

Южнокорейская компания Samsung Electronics не только остаётся крупнейшим производителем памяти, но и не оставляет амбиций в сфере контрактного производства логических компонентов. Ради движения в ногу с прогрессом она собирается вслед за Intel получить к концу этого года литографический сканер ASML TwinScan EXE:5000, который позволяет работать с высоким значением числовой апертуры (High-NA).

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Intel является крупнейшим клиентом ASML на этом направлении и пытается выкупить все доступные для заказа на этот год подобные системы, но намерения Samsung показывают, что при определённой настойчивости корейская компания тоже может получить свою первую литографическую систему класса High-NA EUV к концу текущего года или в первом квартале следующего. Подобное оборудование должно позволить Samsung не только наладить выпуск чипов по технологиям «тоньше» 2 нм, но и делать это с более низкой себестоимостью. Правда, сам литографический сканер такого класса стоит не менее $380 млн, а ещё он занимает больше места, поэтому внедрение такого оборудования потребует не только высоких первоначальных затрат, но и смены подхода к планировке цехов.

Попутно южнокорейские СМИ сообщают, что Samsung призналась в наличии у неё средств инспекции фотомасок японской марки Lasertec, которые адаптированы к технологии High-NA EUV. Если всё пойдёт по плану, Samsung сможет наладить выпуск первых прототипов продукции на оборудовании такого класса к середине следующего года. Впрочем, в массовом производстве технология High-NA EUV будет освоена компанией ближе к 2027 году.

Samsung в сотрудничестве с Synopsys также внедряет иной «рисунок» элементов полупроводниковых чипов, который предполагает переход от прямых линий к кривым. Это позволит создавать более плотные структуры на чипах и продвинуться в освоении более «тонких» техпроцессов. Компания TSMC также рассчитывает получить до конца года от ASML свой первый литографический сканер класса High-NA EUV, но внедрить подобное оборудование в массовом производстве чипов по технологии A14 планирует не ранее 2028 года.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Нереалистичные сроки, неумелое руководство и страх отмены: журналисты рассказали о проблемах разработки новой Ghost Recon 5 ч.
В работе Facebook и Instagram произошёл масштабный сбой — ленты не обновляются, видео и картинки не загружаются 6 ч.
Crimson Desert продолжает превращаться в симулятор разведения животных — подробности обновления 1.11.00 6 ч.
«Полмиллиона Безымянных героев»: THQ Nordic похвасталась продажами ремейка «Готики» за первую неделю 7 ч.
Вирус Hades распугивает ИИ-сканеры запросами на создание ядерного и биологического оружия 8 ч.
HarmonyOS 6 распространилась на 66 млн устройств, следующая цель — 100 млн 8 ч.
Huawei анонсировала HarmonyOS 7 с повышенной производительностью и встроенным ИИ-агентом 9 ч.
Oracle превысила прогнозы Уолл-стрит, но акции упали из-за планов по займам для постройки ИИ ЦОД 9 ч.
ИИ-боты повадились рассказывать истории об Элиасе Торне — и никто не знает, кто это такой 11 ч.
Google раскрыла преступную группировку, промышлявшую фишингом с помощью ИИ-сервиса Gemini 11 ч.