Сегодня 03 октября 2024
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Китайские машины для выпуска чипов в действительности оказались далеки от 8-нм техпроцесса

Первоначальная реакция ресурса TrendForce на появление в правительственном каталоге китайского оборудования для выпуска чипов с точностью межслойного перекрытия 8 нм была поверхностной, как теперь даёт понять тот же источник. Продвигаемое китайскими чиновниками оборудование пригодно для выпуска чипов от силы по 55-нм технологии или более грубым, и ему далеко до зарубежных образцов, позволяющих выпускать 8-нм чипы.

 AMEC

AMEC

Более глубокий анализ китайских документов, как поясняет в новой публикации TrendForce, позволяет установить, что на местном рынке некие поставщики предлагают произведённое в Китае литографическое оборудование, позволяющее работать с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV). Один из образцов оснащён криптоновым источником лазерного излучения, а другой аргоновым. Первый способен работать с кремниевыми пластинами типоразмера 300 мм при длине волны лазера 248 нм и разрешающей способностью не более 110 нм, обеспечивая точность межслойного совмещения не более 25 нм. Вторая литографическая система китайского производства способна обрабатывать кремниевые пластины типоразмера 300 мм при длине волны лазера 193 нм и разрешающей способности не более 65 нм, которая сочетается с пресловутой точностью межслойного совмещения не более 8 нм.

Как поясняет источник, даже подобных параметров, передовых для китайского оборудования, будет недостаточно для изготовления чипов по 8-нм нормам. Точность межслойного совмещения при производстве 8-нм чипов должна укладываться в диапазон от 2 до 3 нм, а у описываемого китайского образца она в три или даже четыре раза хуже. В частности, для выпуска чипов по техпроцессам 10-нм класса требуется точность межслойного совмещения не более 3 нм, а для 7-нм чипов — не более 2 нм.

Если же говорить о разрешающей способности, то для описываемых передовых техпроцессов она должна быть не выше 38 нм, а самый продвинутый китайский образец обладает разрешающей способностью на уровне 65-нм техпроцесса. На таком оборудовании, по словам представителей TrendForce, сложно наладить экономически обоснованное производство даже 40-нм чипов. Разумный предел на практике соответствует 55 нм, причём даже в этом случае придётся использовать сложную оснастку, которая не гарантирует приемлемого уровня брака.

Компании SMIC удаётся выпускать 7-нм чипы для Huawei, но она для этого использует множественное экспонирование, которое обеспечивает довольно высокий уровень брака, а также оборудование нидерландской ASML класса DUV, завезённое ещё до введения актуальных санкций со стороны США и Нидерландов. Оборудование китайского производства подобных возможностей пока предоставить не может, и даже не приблизилось к ним на достаточную величину.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Вечерний 3DNews
Каждый будний вечер мы рассылаем сводку новостей без белиберды и рекламы. Две минуты на чтение — и вы в курсе главных событий.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Garmin представила 300-долларовые смарт-часы Lily 2 Active с кнопками и GPS 8 мин.
Самые дорогие в мире Bluetooth-колонки Focal Diva Utopia поступили в продажу 16 мин.
США меняют правила экспорта ИИ-чипов, упрощая продажи современных ускорителей проверенным VEU-партнёрам на Ближнем Востоке 44 мин.
TSMC снизит цены на выпуск 7-нм и 14-нм чипов, потому что китайцы уводят у неё клиентов 57 мин.
Meta созналась, что все фото, снятые пользователями на умные очки Ray-Ban, она применит для обучения ИИ 2 ч.
Сервер Молл модернизировал серверное оборудование ФТИ им. А.Ф. Иоффе 2 ч.
NVIDIA отказалась от выпуска двухстоечных суперускорителей GB200 NVL36×2 3 ч.
GeForce RTX 4060 и RTX 4060 Ti стремительно набирают популярность в статистике Steam 3 ч.
Intel не отказывается от планов по выпуску ускорителей Falcon Shores 3 ч.
Одноплатный компьютер StarPro64 оснащён процессором RISC-V с ИИ-ускорителем и до 32 Гбайт LPDDR5 4 ч.