Сегодня 07 мая 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Развитие под санкциями: китайская SMIC разрабатывает технологии выпуска 3-нм чипов без EUV

Несмотря на отсутствие доступа к оборудованию для выпуска чипов с литографией в экстремальном ультрафиолете (EUV) из-за санкций, китайская компания SMIC продолжает разработку 5-нм и 3-нм техпроцессов производства чипов. Ранее SMIC удалось наладить серийное производство 7-нм микросхем, опираясь исключительно на литографию в глубоком ультрафиолете (DUV), что само по себе не является невозможным — техпроцесс TSMC N7P также не использует EUV.

 Источник изображения: SMIC

Источник изображения: SMIC

В отчёте Nikkei утверждается, что сразу после запуска 7-нм техпроцесса 2-го поколения, SMIC создала исследовательскую группу для работы над 5-нм и 3-нм техпроцессами. Команду возглавляет ранее работавший в TSMC и Samsung содиректор SMIC Лян Монг-Сонг (Liang Mong-Song). «Нет более умного учёного или инженера, чем этот парень, — так охарактеризовал его Дик Терстон (Dick Thurston), бывший главный юрисконсульт TSMC. — Он действительно один из самых блестящих умов, которых я видел в области полупроводников».

SMIC прошла долгий путь от небольшой полупроводниковой фабрики до пятого по величине контрактного производителя микросхем в мире. На фоне растущей напряжённости между США и Китаем компания была включена в санкционный список Министерства торговли США и потеряла доступ к передовым инструментам для обработки кремниевых пластин, что серьёзно замедлило её развитие и внедрение новых технологических процессов.

На данный момент литографические машины ASML Twinscan NXT:2000i являются лучшими инструментами, которыми располагает SMIC — они могут производить травление с разрешением до 38 нм. Этот уровень точности обеспечивает экспонирование с шагом 38 нм с использованием двойной фотомаски, чего достаточно для производства чипов класса 7 нм. Согласно исследованиям ASML и IMEC, при 5 нм шаг металла уменьшается до 30-32 нм, а при 3 нм — до 21-24 нм, что уже требует применения EUV.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Но использование инструментов литографии со сверхвысоким разрешением (13 нм для EUV с низкой числовой апертурой) — не единственный путь к достижению сверхмалых размеров транзисторов. Другой вариант предусматривает нанесение нескольких последовательных масок, но это сложный процесс, который увеличивает продолжительность производственного цикла, снижает процент выхода годных изделий, увеличивает износ оборудования и повышает затраты. Однако без доступа к EUV-литографии у SMIC просто нет другого выбора, кроме как использовать тройное, четверное или даже пятикратное паттернирование.

Терстон считает, что под руководством Лян Монг-Сонга SMIC сможет производить (если уже не производит) 5-нм чипы в больших количествах без использования инструментов EUV. Однако сегодняшний отчёт Nikkei впервые сообщает о возможной способности SMIC разработать в обозримом будущем 3-нм производственный процесс на оборудовании класса DUV.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
Google обновила ИИ-модель Gemini 2.5 Pro, улучшив её способности в программировании 4 ч.
«Не просто игра, это ожившая история»: 1C Game Studios анонсировала бесплатную раздачу «Ил-2 Штурмовик: Битва за Москву» в честь 80-летия Победы 4 ч.
Microsoft скоро позволит искусственному интеллекту менять настройки Windows 11 5 ч.
Нелинейный триллер I am Ripper от создателей Dahlia View отправит игроков по следу серийного убийцы — первый трейлер и подробности 6 ч.
Google устранила в Android активно эксплуатируемую уязвимость FreeType и десятки других дыр в безопасности 6 ч.
Meta Llama API задействует ИИ-ускорители Cerebras и Groq 7 ч.
Минюст США представил жёсткий план по устранению рекламной монополии Google — судьбу компании определит суд 8 ч.
После 20 лет скитаний по волнам разработки легендарный российский экшен «Приключения Капитана Блада» всё-таки вышел на ПК и консолях 9 ч.
Журналисты показали 13 минут из сюжетного дополнения RoboCop: Rogue City — Unfinished Business, включая первый геймплей за Алекса Мёрфи 10 ч.
Второй трейлер Grand Theft Auto VI: ограбления, погони и любовь под палящим солнцем Вайс-Сити 11 ч.