Сегодня 09 июля 2025
18+
MWC 2018 2018 Computex IFA 2018
реклама
Новости Hardware

Развитие под санкциями: китайская SMIC разрабатывает технологии выпуска 3-нм чипов без EUV

Несмотря на отсутствие доступа к оборудованию для выпуска чипов с литографией в экстремальном ультрафиолете (EUV) из-за санкций, китайская компания SMIC продолжает разработку 5-нм и 3-нм техпроцессов производства чипов. Ранее SMIC удалось наладить серийное производство 7-нм микросхем, опираясь исключительно на литографию в глубоком ультрафиолете (DUV), что само по себе не является невозможным — техпроцесс TSMC N7P также не использует EUV.

 Источник изображения: SMIC

Источник изображения: SMIC

В отчёте Nikkei утверждается, что сразу после запуска 7-нм техпроцесса 2-го поколения, SMIC создала исследовательскую группу для работы над 5-нм и 3-нм техпроцессами. Команду возглавляет ранее работавший в TSMC и Samsung содиректор SMIC Лян Монг-Сонг (Liang Mong-Song). «Нет более умного учёного или инженера, чем этот парень, — так охарактеризовал его Дик Терстон (Dick Thurston), бывший главный юрисконсульт TSMC. — Он действительно один из самых блестящих умов, которых я видел в области полупроводников».

SMIC прошла долгий путь от небольшой полупроводниковой фабрики до пятого по величине контрактного производителя микросхем в мире. На фоне растущей напряжённости между США и Китаем компания была включена в санкционный список Министерства торговли США и потеряла доступ к передовым инструментам для обработки кремниевых пластин, что серьёзно замедлило её развитие и внедрение новых технологических процессов.

На данный момент литографические машины ASML Twinscan NXT:2000i являются лучшими инструментами, которыми располагает SMIC — они могут производить травление с разрешением до 38 нм. Этот уровень точности обеспечивает экспонирование с шагом 38 нм с использованием двойной фотомаски, чего достаточно для производства чипов класса 7 нм. Согласно исследованиям ASML и IMEC, при 5 нм шаг металла уменьшается до 30-32 нм, а при 3 нм — до 21-24 нм, что уже требует применения EUV.

 Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Но использование инструментов литографии со сверхвысоким разрешением (13 нм для EUV с низкой числовой апертурой) — не единственный путь к достижению сверхмалых размеров транзисторов. Другой вариант предусматривает нанесение нескольких последовательных масок, но это сложный процесс, который увеличивает продолжительность производственного цикла, снижает процент выхода годных изделий, увеличивает износ оборудования и повышает затраты. Однако без доступа к EUV-литографии у SMIC просто нет другого выбора, кроме как использовать тройное, четверное или даже пятикратное паттернирование.

Терстон считает, что под руководством Лян Монг-Сонга SMIC сможет производить (если уже не производит) 5-нм чипы в больших количествах без использования инструментов EUV. Однако сегодняшний отчёт Nikkei впервые сообщает о возможной способности SMIC разработать в обозримом будущем 3-нм производственный процесс на оборудовании класса DUV.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме

window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥
VK опубликовала рейтинг самых популярных игр и приложений в RuStore 29 мин.
ИИ неделями дурачил пользователей музыкального сервиса, выдавая себя за рок-группу из живых людей 30 мин.
Суд США заблокировал правило FTC о простой отмене подписок «в один клик» 37 мин.
Новая игра от авторов World of Tanks с треском провалилась — мультиплеерный экшен Steel Hunters закроют всего через полгода с выхода в ранний доступ Steam 53 мин.
Выпущена обновлённая версия AMOS — распространённый вирус для macOS стал ещё опаснее 2 ч.
Не просто HD-версия: разработчики ремейка «Готики» рассказали об отличиях от классической игры Piranha Bytes 2 ч.
ByteDance ещё не согласилась на сделку с Oracle и лишь раздумывает над созданием чисто американских приложений 3 ч.
Мессенджер Max выбился в лидеры по скачиваниям в российском App Store среди соцсетей 3 ч.
Роскомнадзор заявил, что каждый день выявляет 1,2 млн звонков с подменой номера 4 ч.
Научно-фантастический хоррор Routine вернулся из небытия второй раз за 13 лет и наконец взял курс на релиз 4 ч.
Baidu и CAR запустили первый в мире сервис проката беспилотных автомобилей 21 мин.
Команда дизайнеров Apple перейдёт в непосредственное подчинение Тиму Куку 23 мин.
Kioxia начала тестировать быструю и эффективную память UFS 4.1 для смартфонов будущего 26 мин.
Прототипы большого флагманского внедорожника Xiaomi YU9 замечены в Китае 33 мин.
Представлен планшет OnePlus Pad Lite — 11-дюймовый 90-Гц дисплей, чип Helio G100 и батарея на 9340 мА·ч за $268 56 мин.
Вышел крошечный одноплатный компьютер NanoPi R76S с двумя портами 2.5GbE и 16 Гбайт ОЗУ 2 ч.
Электромобиль Lucid Air проехал на одной зарядке 1205 км — это новый мировой рекорд 3 ч.
G.Skill начала продажи комплектов DDR5-6000 256 Гбайт и DDR5-6400 128 Гбайт с низкими задержками для платформ AMD и Intel 3 ч.
Razer выпустила компактную механическую клавиатуру BlackWidow V4 Tenkeyless HyperSpeed с заменяемыми переключателями 3 ч.
Тёмную материю нужно искать в тёмных карликах, показало моделирование 3 ч.