Компания Micron Technology объявила сегодня о том, что запустит первое в Японии производство чипов с применением EUV-литографии. Технология будет применяться для производства следующего поколения чипов DRAM — по техпроцессу 1γ (1 гамма). Власти Японии заинтересованы в организации на территории страны передовых полупроводниковых производств, а потому Micron может получить субсидии на $1,5 млрд, для организации выпуска DRAM с использованием EUV-литографии.
Как поясняет Bloomberg, проект модернизации существующего предприятия Micron в Хиросиме уникален тем, что позволит впервые установить на территории Японии оборудование для работы со сверхжёсткой ультрафиолетовой литографией (EUV). О выделении необходимых субсидий может быть объявлено уже на этой неделе, поскольку сегодня в Токио состоялась встреча премьер-министра Фумио Кисиды (Fumio Kishida) и прочих японских чиновников с делегацией представителей зарубежных компаний.
Представители Micron Technology в эту делегацию тоже попали, а компанию им составят руководители Intel, IBM и Applied Materials — американских компаний, располагающих продвинутыми литографическими технологиями. IBM будет помогать японскому консорциуму Rapidus наладить на территории страны массовый выпуск 2-нм чипов к 2027 году. Из числа азиатских производителей чипов в Японию на переговоры приглашены руководители TSMC и Samsung Electronics. Последняя, как считается, претендует на получение субсидий, которые будут направлены на строительство в Японии экспериментальной линии по упаковке микросхем памяти.
Для Micron развитие производства на территории Японии может стать своего рода компенсацией угрозы запрета на продажу памяти в Китае, поскольку недавно власти Поднебесной начали расследование в отношении продукции Micron, которую подозревают в наличии угроз для информационной безопасности. Своих предприятий в Китае у Micron нет, она выпускает память в США, Тайване, Сингапуре и Японии, но рынок КНР обеспечивает её 11 % выручки. В конце этой недели японскому премьер-министру также предстоит встретиться с коллегами из стран «большой семёрки», и вопрос расширения сотрудничества с американской Micron Technology может быть включён в повестку дня.
С 2013 года Micron вложила в свой бизнес в Японии более $13 млрд. Наладить здесь выпуск микросхем оперативной памяти с использованием EUV-литографии по так называемому техпроцессу 1γ (гамма, 10-нм класс) компания рассчитывает с 2025 года, причём синхронно он будет внедрён и на предприятиях Micron на Тайване. Всего за несколько лет в модернизацию своего японского предприятия Micron рассчитывает вложить до $3,6 млрд. Профильное оборудование на предприятие в Хиросиме будут поставлять как японская Tokyo Electron, так и нидерландская ASML. Помимо собственного капитала, Micron может привлечь к реализации проекта не только субсидии центральных властей Японии, но и средства муниципального бюджета Хиросимы.
Источник: