Новости Hardware

Не так поняли: китайская SMIC ещё далека от освоения 7-нм техпроцесса

Изданию EE Times China пришлось опровергать опубликованную некоторыми СМИ информацию о готовности китайской компании SMIC наладить к четвёртому кварталу текущего года выпуск 7-нм продукции. Китайская промышленность пока совершенствует 14-нм технологию, а о внедрении EUV может только мечтать.

Источник изображения: Tom's Hardware

Источник изображения: Tom's Hardware

Около полутора недель назад западные средства массовой информации сообщили о намерениях китайской компании SMIC наладить на своих предприятиях выпуск 7-нм полупроводниковых изделий к четвёртому кварталу текущего года. Представителям EE Times пришлось связаться с сотрудниками SMIC, чтобы устранить это недоразумение.

Начнём с того, что сейчас SMIC использует первое поколение 14-нм технологии, а к концу года рассчитывает освоить второе. В терминологии китайского производителя оно обозначается как «N + 1», и по своим качествам может лишь частично соперничать с 7-нм техпроцессом мировых лидеров. По словам представителей SMIC, второе поколение 14-нм технологии может приблизиться к 7-нм предложениям конкурентов только с точки зрения энергопотребления и стабильности, а по уровню быстродействия ему до соперников далеко.

Действительно, переход к усовершенствованному 14-нм техпроцессу позволит SMIC, по её собственным оценкам, увеличить быстродействие транзисторов примерно на 20 %, а до конкурентов ей останется ещё около 35 %. Зато по себестоимости 14-нм изделия SMIC второго поколения будут на 10 % доступнее, чем решения конкурентов, выпускаемые по 7-нм технологии. Для китайских заказчиков услуги последних вообще могут оказаться недоступными в силу сложной политической обстановки, поэтому любой прогресс на уровне «национальной литографии» будет ими восприниматься доброжелательно.

Важно, что второе поколение 14-нм техпроцесса в исполнении SMIC позволяет снизить уровень энергопотребления на 57 %, а занимаемая кристаллом площадь способна сократиться на величину от 55 до 63 %. Для выпуска 14-нм продуктов второго поколения SMIC не понадобится литографическое оборудование, использующее лазер со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Если политические барьеры не помешают SMIC получить EUV-сканеры ASML, то данный тип литографии будет внедрён уже в следующем поколении продукции китайской компании.

Источник:

Если вы заметили ошибку — выделите ее мышью и нажмите CTRL+ENTER.
Материалы по теме
Прежде чем оставить комментарий, пожалуйста, ознакомьтесь с правилами комментирования. Оставляя комментарий, вы подтверждаете ваше согласие с данными правилами и осознаете возможную ответственность за их нарушение.
Все комментарии премодерируются.
Комментарии загружаются...
window-new
Soft
Hard
Тренды 🔥